真空镀膜机加热设备及真空镀膜机的制作方法

本实用新型涉及一种真空镀膜机加热设备及真空镀膜机，属于真空镀膜机技术领域。

背景技术：

薄膜制备过程多采用真空镀膜技术，真空镀膜技术在当前微电子技术和为微构件制备领域中具有举足轻重的地位。真空镀膜技术要依赖真空环境下利用物理或化学手段在工件表面沉积，一种是物理气相沉积，即pvd；另一种是化学气相沉积，称为cvd。热蒸发较为简单、应用较多，即利用物质受热后的蒸发或升华将其转化为气态再沉积在基片表面。通常会将蒸镀材料放在蒸镀容器中，让加热器对蒸镀容器加热，使其内的蒸镀材料转化为气态沉积在基片表面，从而达到蒸镀成膜的目的。当前的蒸镀过程中无法保证基片均匀受热，导致蒸镀获得的基片薄膜质量较差，同时现有的真空镀膜机无法实现对表面不规则物体均匀镀膜。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于克服现有技术中真空镀膜机加热设备加热不均匀、蒸镀后获得的基片薄膜质量差的不足，提供一种真空镀膜机加热设备及真空镀膜机，技术方案如下：

真空镀膜机加热设备，包括真空镀膜箱、置于真空镀膜箱内部的罩壳、与罩壳传动连接的旋转电机，罩壳上滑动设置加热装置；罩壳顶部固定连接杆，旋转电机输出端连接转轴，转轴与连接杆的端部通过分别固定在转轴和连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。

进一步地，罩壳顶端开设供加热装置滑动的滑槽。

优选地，加热装置包括加热器、与加热器固定的滑动件，滑动件嵌入滑槽内。

真空镀膜机，包括前述的真空镀膜机加热设备。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果：

本实用新型的真空镀膜机加热设备和真空镀膜机，可以实现在多个空间位置内对基片、不规则物体表面进行镀膜。通过调节罩壳上固定的加热装置的位置，实现镀膜更加均匀。

附图说明

图1是本实用新型的真空镀膜机加热设备结构示意图；

图2是本实用新型的罩壳的结构示意图；

图中：1-真空镀膜箱，2-底座，3-固定台，4-拆卸式操作台，5-罩壳，6-支架，7-旋转电机，8-转轴，9-第一锥齿轮，10-第二锥齿轮，11-连接杆，12-滑动件，13加热器，14-滑槽。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

实施例1

如图1所示，真空镀膜机加热设备，包括真空镀膜箱1、置于真空镀膜箱1内部的罩壳5、与罩壳5传动连接的旋转电机7，罩壳5上滑动设置加热装置；罩壳5顶部固定连接杆11，旋转电机7输出端连接转轴8，转轴8与连接杆11的端部通过分别固定在转轴8和连接杆11端部的第一锥齿轮9和第二锥齿轮10啮合传动连接。旋转电机7带动罩壳5转动，实现多角度全方位的镀膜，使得镀膜更加均匀。旋转电机7放置在真空镀膜箱1上表面固定的支架6上。

具体到本实施例中，罩壳5顶端开设供加热装置滑动的滑槽14。

本实施例中作为优选，加热装置包括加热器13、与加热器13固定的滑动件12，滑动件12嵌入滑槽14内。

图2中为罩壳5的结构图，本实施例中罩壳5上的滑槽14开设长度比较大，滑槽14长度可以根据拆卸式操作台4以及待镀膜物体的大小进行设计和调整。虚线圆形是滑动件12滑到的第二个滑动位置，本实施例选取了两个加热装置，实际使用时根据使用情况可以增加或减少加热装置的数量。

本实施例中作为优选方式，滑槽14的截面为t型。t型截面与滑动件12的截面配合。如图2，滑动件12优选为滑动块，本实施例中为圆形滑动块，实际使用时可以替换为矩形块。滑动块沿罩壳5移动到位后，采用螺钉固定。加热装置随着滑动件12的移动而移动，实现对拆卸式操作台4上的待镀膜物体进行均匀镀膜。

具体地，还包括固定在罩壳5内部的底座2、固定于底座2上的固定台3、安装在固定台3上的拆卸式固定台3。

前述任一项的真空镀膜机加热设备，罩壳5与真空镀膜箱1接触处设置密封环。

真空镀膜机，包括前述的真空镀膜机加热设备。

本实用新型的真空镀膜机加热设备，可以实现在多个空间位置内对基片、不规则物体表面进行镀膜。通过调节罩壳5上固定的加热装置的位置，实现镀膜更加均匀。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改进和变形也应视为本实用新型的保护范围。

技术特征：

1.真空镀膜机加热设备，其特征在于，包括真空镀膜箱、置于所述真空镀膜箱内部的罩壳、与所述罩壳传动连接的旋转电机，所述罩壳上滑动设置加热装置；

所述罩壳顶部固定连接杆，所述旋转电机输出端连接转轴，所述转轴与所述连接杆的端部通过分别固定在所述转轴和所述连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述罩壳顶端开设供所述加热装置滑动的滑槽。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述加热装置包括加热器、与加热器固定的滑动件，所述滑动件嵌入所述滑槽内。

4.根据权利要求2所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述滑槽的截面为t型。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，还包括固定在所述罩壳内部的底座、固定于所述底座上的固定台、安装在所述固定台上的拆卸式固定台。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜机加热设备，其特征在于，所述罩壳与所述真空镀膜箱接触处设置密封环。

7.真空镀膜机，其特征在于，包括权利要求1至6中任一项所述的真空镀膜机加热设备。

技术总结
本实用新型公开了一种真空镀膜机加热设备，包括真空镀膜箱、置于真空镀膜箱内部的罩壳、与罩壳传动连接的旋转电机，罩壳上滑动设置加热装置；罩壳顶部固定连接杆，旋转电机输出端连接转轴，转轴与连接杆的端部通过分别固定在转轴和连接杆端部的第一锥齿轮和第二锥齿轮啮合传动连接。罩壳顶端开设供加热装置滑动的滑槽。加热装置包括加热器、与加热器固定的滑动件，滑动件嵌入滑槽内。还公开了一种具有该真空镀膜机加热设备的真空镀膜机。本实用新型的真空镀膜机加热设备，可以实现在多个空间位置内对基片、不规则物体表面进行镀膜。通过调节罩壳上固定的加热装置的位置，实现镀膜更加均匀。

技术研发人员：蒋贵霞;贾建国
受保护的技术使用者：昆山英利悦电子有限公司
技术研发日：2019.11.18
技术公布日：2020.06.26