1.一种碳纳米管连续制备装置，其特征在于：包括反应腔，反应腔上端设有进料管，反应腔下端连接出料管，反应腔内水平设有基板，基板下表面设有催化剂薄膜，基板上设有若干个第一孔洞，催化剂薄膜上设有若干个第二孔洞，第一孔洞与第二孔洞贯通，反应腔内设有等离子发射器，反应腔外侧连接第一加气腔，第一加气腔上端设有加气口，第一加气腔外围设有加热装置，出料管外侧连接第二加气腔，第二加气腔与第一加气腔贯通连接，所述反应腔与出料管内壁均设有若干个喷气嘴，反应腔内壁上的喷气嘴的入气口与第一加气腔连接，出料管内壁上的喷气嘴的入气口与第二加气腔连接。
2. 按照权利要求1所述的碳纳米管连续制备装置，其特征在于：所述第一通孔的直径为30~120nm ；所述第二通孔的直径为10~50nm。
3.按照权利要求1所述的碳纳米管连续制备装置，其特征在于：所述基板的材质为陶瓷。
4.按照权利要求1所述的碳纳米管连续制备装置，其特征在于：所述反应腔底部呈凹形。
5.按照权利要求1所述的碳纳米管连续制备装置，其特征在于：所述喷气嘴的出气口倾斜向下。