技术特征：
技术总结
本发明属于纳米薄膜制备技术领域，具体为一种等离子体溅射反应沉积制备氮化碳纳米锥的方法。本方法利用一台辉光放电装置来分解前驱气体甲烷、氮气和氢气,出射等离子体由高密度的碳氢活性基团，碳氮活性基团，氮气分子，氮气分子离子，氢原子和碳二分子构成。制备过程包括：采用脉冲激光沉积方法，在光滑衬底材料表面沉积镍膜；采用等离子体溅射反应沉积方法，利用辉光放电装置，将覆盖镍膜的衬底转移到放电室中；将甲烷/氮氢气混合气体通入放电室，启动辉光放电,通过调节放电电流与放电电压，控制沉积g‑C3N4纳米锥的锐度。合成的纳米锥由垂直基底的底部直径为200‑1000纳米，长径比2:1‑5:1的纳米级锥尖阵列构成，锥体主要是石墨相C3N4结构。
技术研发人员：许宁;徐卓器;关雷雷;巫志诚
受保护的技术使用者：复旦大学
技术研发日：2017.07.22
技术公布日：2017.11.17