透红外陶瓷及其制备方法

文档序号:9229236阅读:511来源:国知局
透红外陶瓷及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及透明陶瓷,特别是一种掺杂Zr的Y2O3基可见截止、透红外陶瓷的制备 方法,属于特种光功能陶瓷制备技术领域。
【背景技术】
[0002] 随着红外技术的进步,国防科技及民用领域在红外探测、红外传感和医疗保健等 方面的应用更加广泛。传统的红外探测器易受各种热源及可见光源的干扰,需要在辐照面 增加特殊的滤光片;人眼对530nm的蓝绿光最为敏感,各种光学设备的光学系统也容易被 激光破坏,对激光的防护刻不容缓,而传统的光学玻璃通过掺杂着色离子或镀膜的方式,一 般只能防护一个或几个波长的激光,透红外窗口在非红外波段透过率的降低必然对内部光 学元件的激光防护有利。
[0003] Y2O3透明陶瓷是一种性能优异的透红外光学元件,3~5ym波段透过率高达80%、 抗热震稳性好,由于其熔点高2430±30°C和2280°C时的晶型转变,一般通过热等静压或添 加氧化物(如La203、Zr02)来降低烧结温度,实现透明陶瓷的低温制备。专利CN103132006A 公布的黑色Y2O3陶瓷涂层的制备方法中指出,激光束的辐照会使的Y 2O3涂层释放氧,缺氧的 Y2O3显示为黑色,会吸收一定的可见光;日本Y. Tsukuda于2300°C的高温下,在氢气气氛中 烧结出黑色Y2O3透明陶瓷,晶粒粒径大(mm级),在3 ym附近的透过率也有较大下降;美国 专利GB1178495A提出了掺杂ThO2,21〇2或11?)2的氧化钇透明陶瓷的制备方法,在2000~ 2200°C下烧结,为提高短波透过性在1200°C进行退火。

【发明内容】

[0004] 本发明目的在于提供一种透红外的透明陶瓷及其制备方法,该方法制备透明陶瓷 具有烧结温度低、成本小和中红外透过率高的特点。该陶瓷结合Y 2O3的低红外辐射的优势 与吸收紫外线及部分可见光的特性,是红外探测器的优选材料,Z扫描结果显示其具有光学 非线性吸收特性,在光电设备中具有潜在的应用价值。
[0005] 本发明的技术解决方案如下:
[0006] 一种透红外陶瓷及其制备方法,其特征在于该透红外陶瓷的化学式 为(YhZrx) 203+x,Y2O3为基体材料,ZrO 2为掺杂剂,X为Zr取代Y的原子百分含量 (0. 005 < X < 0. 18),该透红外陶瓷在3~5ym波段的透过率为78~82%。
[0007] 所述的透红外陶瓷的Zr掺杂的优选范围为0. 05 <X< 0. 15。
[0008] 所述的透红外陶瓷的制备方法,该制备方法的工艺步骤如下:
[0009] 1)原料合成:按照(YhZrx)2O3tx的分子式选定X的比例,采用纯度均为99. 99% 的Y2O3微米级粉体和ZrO 2纳米级粉体,按公式W = 24644. 6xA225. 8101-20. 6359x)将 原子百分含量X换算成ZrOjP Y2O3的重量,其中,W为100g原料粉中所含的ZrOj^重量, 100 - W为100g原料粉中所含的Y2O3的重量,称量Y 203和ZrO 2粉体,用无水乙醇球磨24~ 48小时,在70°C的温度下烘干15~30小时,用200目网筛过筛,将过筛后的粉末在800~ 1100°C的温度下煅烧2小时,以除去残余水分和无水乙醇;
[0010] 2)素坯成型:将煅烧后的粉末装入模具中,采用双面加压的方式加压成型,成型 压力为3~5MPa,压制出的素坯尺寸为q>2〇mm陶瓷片,随后用冷等静压的方式,在210MPa 的压力下成型,得到致密素坯;
[0011] 3)陶瓷烧结:采用真空钨丝炉对所述的致密素坯进行烧结,烧结温度在1700~ 1870°C,保温时间为5~30小时,烧结保温阶段真空度在KT 3Pa以下,烧结后获得截止可 见、透过红外的透明陶瓷;
[0012] 4)陶瓷后处理:将烧结得到的棕黑色陶瓷进行双面镜面抛光,以达到使用要求。
[0013] 球磨时采用的球磨罐为二氧化锆罐,磨球为直径5mm的二氧化锆球,避免杂质的 引入。
[0014] 采用无水乙醇进行湿磨,避免Y2O3吸水的问题,无水乙醇的添加量的范围为粉末 总重量的70~100%。
[0015] 本发明的技术效果:
[0016] 本发明提出的以Y2O3为基体材料的3~5 ym透红外陶瓷,通过添加ZrO2烧结助剂 降低烧结温度,该陶瓷不进行退火处理,保留其棕黑色的颜色,可根据实际应用的需要,掺 杂适量的21〇 2烧结助剂,实现短波截止边由紫外到可见的调节,该陶瓷热辐射系数低,除了 用于车载前视红外、夜视侦查和热像仪等民用及军事领域,该陶瓷还具有非线性吸收特性, 在光电设备中具有潜在的应用价值。
【附图说明】
[0017] 图1是实施例1~5中不同原子百分含量Zr的(YhZrx)2C^ x透红外陶瓷从紫外 到近红外的透过截止曲线图;
[0018] 图2是掺杂0.06原子百分含量Zr的透红外陶瓷与普通Y2O3陶瓷透过率的比较 图;
[0019] 图3是掺杂0.15原子百分含量Zr的Y2O3透红外陶瓷的高温红外辐射率图;
[0020] 图4是掺杂0. 15原子百分含量Zr的透红外陶瓷显示的光学非线性吸收性能图。
【具体实施方式】
[0021] 下面结合实例和附图对本发明作进一步说明,但不应以此限制本发明的保护范 围。
[0022] 实施例 1、2、3、4、5
[0023]
[0024] 按照(Y1Jrx) 2CVx的分子式选定x的比例,实施例1~5分别为0.01,0. 025,0. 05, 0. 08,0. 10 (掺杂浓度逐渐增大),将原子百分含量X换算成ZrOjP Y 203的重量,如上表所 示,称量纯度均为99. 99%的Y2O3微米级粉体和ZrO 2纳米级粉体,用无水乙醇球磨48h,在 70°C下烘干20h,用200目网筛过筛,将过筛后的粉末于1000°C煅烧2h,采用双面加压的 方式加压成型,成型压力3MPa,压制出素坯尺寸为 (p2〇mm陶瓷片,在210MPa的压力下冷 等静压成型,得到致密素坯;采用真空钨丝炉对实施例1~5所得素坯进行烧结,烧结温度 1850°C,保温5h得到棕黑色的透红外陶瓷。双面抛光后,采用Lambda 750型紫外/可见/ 近红外分光光谱仪测试实施例1~5所得陶瓷的透过光谱,结果如图1所示,短波吸收边随 着掺杂浓度的增大向长波移动。
[0025] 实施例6
[0026] 按照(YhZrx)2O3tx的分子式选定X的比例为0. 06,将原子百分含量X换算成ZrO 2 和Y2O3的重量,则Y 20393. 42g、Zr026 . 58g,称量纯度均为99. 99 %的Y2O3微米级粉体和ZrO 2 纳米级粉体,无水乙醇为80g,球磨36h,在70°C下烘干30h,用200目网筛过筛,将过筛后的 粉末于1000°C煅烧2h,采用双面加压的方式加压成型,成型压力5MPa,压制出素坯尺寸为 (P20mm陶瓷片,在210MPa的压力下冷等静压成型,得到致密素坯;采用真空钨丝炉对所得 素坯进行烧结,烧结温度在1780~1860°C,保温30h得到棕黑色透明陶瓷,与通常退火后 的无色透明陶瓷一起进行紫外/可见/近红外透过率和中远红外透过率的测试,结果如图 2所示,该陶瓷(6)在可见及近红外波段透过率明显降低,在应用波段3~5微米透过率与 普通陶瓷出')相差不大。
[0027] 实施例7
[0028] 按照(YhZrx)2O 3tx的分子式选定X的比例为0. 15,将原子百分含量X换算成ZrO 2 和Y2O3的重量,则Y 20383 . 40g、Zr0216. 60g,称量纯度均为99. 99 %的Y2O3微米级粉体和ZrO 2 纳米级粉体,无水乙醇85g,球磨36h,在70°C下烘干25h,用200目网筛过筛,将过筛后的 粉末于IKKTC煅烧2h,采用双面加压的方式加压成型,成型压力4MPa,压制出素坯尺寸为 q)20mm陶瓷片,在210MPa的压力下冷等静压成型,得到致密素坯;采用真空钨丝炉对所得 素坯进行烧结,烧结温度在1800°C,保温IOh得到棕黑色透明陶瓷,利用IR-2辐射率测量 仪测定3~5 ym波段辐射率,得到图3所示的低辐射率结果,利用自组平台进行Z扫描测 试,结果如图4所示,图中点和曲线分别为实验结果及拟合曲线,棕黑色陶瓷显示一定的非 线性效应。
【主权项】
1. 一种透红外陶瓷,其特征在于该透红外陶瓷的化学式为(yhZig2o3+x,y2o3为基体材 料,Zr02为掺杂剂,x为Zr取代Y的原子百分含量0. 005 <x< 0. 18,该透红外陶瓷在中 红外波段3~5ym的透过率为78~82 %。2. 根据权利要求1所述的透红外陶瓷,其特征在于:所述的Zr掺杂的优选范围为 0. 05 彡x彡 0. 15。3. 权利要求1所述的透红外陶瓷的制备方法,其特征在于:该方法包括如下步骤: 1) 原料合成:按照(Y^Zr^Om的分子式选定x的比例,采用纯度均为99. 99%的Y203 微米级粉体和Zr02纳米级粉体,按公式W= 24644. 6xA225. 8101-20. 6359x)将原子百分 含量x换算成ZrOjPY203的重量,其中,W为100g原料粉中所含的ZrO2的重量,100 -W为 l〇〇g原料粉中所含的Y203的重量,称量Y203和ZrO2粉体,用无水乙醇球磨24~48小时,在 70°C的温度下烘干15~30小时,用200目网筛过筛,将过筛后的粉末在800~1100°C的温 度下煅烧2小时,以除去残余水分和无水乙醇; 2) 素坯成型:将煅烧后的粉末装入模具中,采用双面加压的方式加压成型,成型压力 为3~5MPa,压制出的素坯尺寸为q)2〇mm陶瓷片,随后用冷等静压的方式,在210MPa的压 力下成型,得到致密素坯; 3) 陶瓷烧结:采用真空钨丝炉对所述的致密素坯进行烧结,烧结温度在1700~ 1870°C,保温时间为5~30小时,烧结保温阶段真空度在l(T3Pa以下,烧结后获得截止可 见、透过红外的透明陶瓷; 4) 陶瓷后处理:将烧结得到的棕黑色陶瓷进行双面镜面抛光,达到使用要求。4. 根据权利要求3所述的透红外陶瓷的制备方法,其特征在于:球磨时采用的球磨罐 为二氧化锆罐,磨球为直径5mm的二氧化锆球。5. 根据权利要求3所述的透红外陶瓷的制备方法,其特征在于:球磨采用的无水乙醇 的添加量的范围为粉末总重量70~100%。
【专利摘要】一种透红外陶瓷及其制备方法,该透红外陶瓷的基体为Y2O3,分子式为(Y1-xZrx)2O3+x,其中x为Zr取代Y的原子百分含量,x的范围为0.005≤x≤0.18。本发明制备的掺杂锆的Y2O3基透明陶瓷透过性高,高温红外辐射系数低,是一种截止可见光和紫外线、透过中波红外光的透明陶瓷,可应用于车载前视红外、夜视侦查和热像仪等民用、军用领域,Z扫描结果显示其具有光学非线性吸收特性,在光电设备中具有潜在的应用价值。
【IPC分类】C04B35/622, C04B35/505, C04B35/63
【公开号】CN104944954
【申请号】CN201510347055
【发明人】毛小建, 李晓凯, 冯明辉, 姜本学, 张龙
【申请人】中国科学院上海光学精密机械研究所
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2015年6月19日
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