专利名称：一种青霉素g亚砜dma复合晶体及其制备方法
技术领域：
本发明涉及一种青霉素G亚砜DMA复合晶体及其制备方法，属医药化工领域。
背景技术：
青霉素类抗生素是公众常用的抗菌药品，是￠-内酰胺类中一大类抗生素的总称。青霉素类抗生素包括青霉素G类、青霉素V类、氨苄西林类等多个小类。为了提高药物的抗菌效果，研究人员在天然青霉素的基础上不断进行改性优化，合成出多种新型头孢类抗菌素。青霉素G亚砜通常是以青霉素G为起始原料经氧化而得，是合成多种新型头孢药物的重要中间体。青霉素G亚砜经酯化保护、扩环重排等反应，可以得到7-氨基去乙酰氧基头孢烯酸(7-ADCA)、7-苯基乙酰氨基-3-氯甲基头孢烯酸对甲氧基苄酯(GCLE)、7-苯基乙酰氨基-3-氯甲基头孢烯酸二苯基甲酯(GCLH)、7-氨基-3-氯-3-头孢环-4-羧酸(7-ACCA)、7-氨基-3-乙烯基头孢烯酸(7-AVCA)等多种头孢药物的合成前体。其中，7-ADCA主要用作合成一、二代头孢(头孢氨苄、头孢拉定、头孢羟氨苄等)；GCLE、GCLH、7-ACCA、7-AVCA主要用作合成三、四代头孢(头孢他定、头孢克洛、头孢匹罗、头孢吡肟等)。在制备7-ADCA、GCLE, GCLH、7_ACCA、7_AVCA 等产品过程中，以 7-ADCA 为例，其一般合成步骤为
权利要求
1.一种青霉素G亚砜DMA复合晶体，其化学名称为[(2S，5R，6R)-3，3-二甲基-6-(2-苯乙酰氨基)7-氧代-4-硫杂-1-氮杂双环[3. 2. O]庚烷-2-甲酸亚砜]N，N-二甲基乙酰胺复合晶体，其化学结构式如下
2.根据权利要求1所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体，其特征在于所述青霉素G亚砜DMA复合晶体的熔点为103. 8°C;青霉素G亚砜DMA复合晶体中元素含量为C:54. 8%、Ν:9· 6%、0:21· 9%、Η:6· 2%、S:7. 3%。
3.根据权利要求1所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体，其特征在于所述青霉素G亚砜DMA复合晶体的X-射线粉末衍射图谱如说明书第3页表I所示。
4.一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于包括以下步骤Ca)溶解步骤将青霉素G亚砜溶解在DMA中或含有DMA的水溶液中或含有DMA的混合有机溶液中；(b)析晶步骤将上述含有青霉素G亚砜和DMA的溶液降温，使青霉素G亚砜及DMA逐步达到饱和或过饱和状态，析出晶体；将晶体进行分离、干燥后，即得青霉素G亚砜DMA复合晶体。
5.根据权利要求4所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于:所述溶解步骤中的溶解温度为10°c 50°C ;所述析晶步骤中的析晶温度为-40°c 0°C。
6.根据权利要求5所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于:所述溶解步骤中的溶解温度为10°c 30°C ;所述析晶步骤中的析晶温度为-20°c 0°C。
7.根据权利要求4所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于:所述含有DMA的混合有机溶液中，DMA的重量含量> 40%。
8.根据权利要求4 7任一项所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于所述含有DMA的混合有机溶液为石油醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、苯的其中一种或几种的混合物。
9.根据权利要求4所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于:所述含有DMA的水溶液中，DMA的重量含量> 80%。
10.根据权利要求4所述的一种青霉素G亚砜DMA复合晶体的制备方法，其特征在于:所述青霉素G亚讽与DMA用量的重量比为1:1 1:10。
全文摘要
本发明公开了一种青霉素G亚砜DMA复合晶体及其制备方法。该复合晶体的分子式C20H27N3O6S，分子量437.5。其制备方法包括以下步骤(a)将青霉素G亚砜溶解在DMA溶液中或含有DMA的水溶液中或含有DMA的混合有机溶液中；(b)将上述含有青霉素G亚砜和DMA的溶液降温，使青霉素G亚砜及DMA逐步达到饱和或过饱和状态，析出晶体；将晶体进行分离、干燥后，即得青霉素G亚砜DMA复合晶体。本发明所提供的复合晶体稳定性好，不含会破坏酯化保护反应的杂质，对酯化保护和扩环重排反应极为有利，提高了扩环重排反应的收率和产品质量。
文档编号C07D499/46GK103030648SQ20121055772
公开日2013年4月10日 申请日期2012年12月20日 优先权日2012年12月20日
发明者米振瑞, 魏青杰, 段志钢, 刘明儒, 王东, 杨凡, 马金玉 申请人:华北制药河北华民药业有限责任公司