一种二氢青蒿酸合成工艺的制作方法
【专利摘要】一种二氢青蒿酸合成工艺，步骤如下：将青蒿酸溶于有机溶剂中，然后，加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至25℃～100℃，再向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸，经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。本发明合成反应时间短，二氢青蒿酸的收率高。
【专利说明】一种二氢青蒿酸合成工艺
[0001]【技术领域】
本发明涉及青蒿素中间体的合成方法，尤其是涉及一种青蒿素中间体二氢青蒿酸合成工艺。
【背景技术】
[0002]青蒿素是一个含有过氧桥倍半萜内酯化合物，具有抗疟作用，是通过干扰疟原虫的表膜一线粒体功能，从而导致虫体结构的全部瓦解。青蒿素的一些衍生物如双氢青蒿素、蒿甲醚等，具有更高的抗疟药效。
[0003]目前，青蒿素主要是从中药材青蒿(黄花蒿)中提取的。原料青蒿主要来自中国重庆酉阳，而且青蒿的产量受环境及天气的影响较大。同时，种植黄花蒿需要大片土地，提取过程消耗大量有机溶剂，产生大量废弃物，从而造成严重的土地和原料资源的浪费。
[0004]吴毓林也曾报道由青蒿酸经过五步反应得到青蒿素，总收率达到37% (参见J.Chem.Soc, Chem.Commun., 727, 1990)。
[0005]2012年Peter H.Seeberger等报道了在氧气和光照的条件下经两步反应将二氢青蒿酸氧化成青蒿素(参见Angew.Chem.1nt.Ed., 51, ppl706_1709, 2012 ;以下命名为方案I)。
[0006]方案I
【权利要求】
1.一种二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，步骤如下:将青蒿酸溶于有机溶剂中，然后，加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至25°c ~10(TC，再向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸，经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。
2.如权利要求1所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述有机溶剂为醇类溶剂中的一种或几种的混合物。
3.如权利要求1或2所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述有机溶剂的用量为青蒿酸质量的2~100倍。
4.如权利要求1所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述水合肼的质量浓度为40 ~80%%。
5.如权利要求1或4所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述水合肼的用量为青蒿酸的1.5~6.0摩尔当量。
6.如权利要求1所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述过渡金属化合物为铁、镍、钴、铜或锌的化合物。
7.如权利要求6所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述铁的化合物为硫酸亚铁、三氯化铁中的一种，所述镍的化合物为氯化镍，所述钴的化合物为氯化钴，所述铜化合物为硫酸铜，所述锌的化合物为硝酸锌。
8.如权利要求1所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述双氧水的浓度为30%。
9.如权利要求1或8所述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述双氧水的用量为1.0~7.0摩尔当量。
10.如权利要求1或2或4或6或8所`述的二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于，所述反应温度为45~55°C。
【文档编号】C07C51/36GK103739477SQ201310614726
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年11月28日 优先权日:2013年11月28日
【发明者】林文彬, 刘志强 申请人:湖南科源生物制品有限公司