涂布组合物及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种涂布组合物及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层。该涂布组合物包含一由一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物；其中R为独立的羟基、或C1-8烷氧基；R1为C3-12环氧基、C3-12丙烯酸酯基、C3-12烷基丙烯酸基、C3-12氨烷基、C3-12异氰酸酯烷基、C3-12烷羧酸基、C3-12卤烷基、C3-12硫醇烷基、C3-12烷基、或C3-12烯基；以及，R2为羟基、C1-8烷基、或C1-8烷氧基。
【专利说明】涂布组合物及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种涂布组合物，且特别是有关于一种用来形成具有耐候性、高可挠曲性、及高机械强度膜层的涂布组合物，及其制备方法、和由该涂布组合物形成的膜层。
【背景技术】
[0002]有机聚合物材料由于具有轻、薄、及可挠曲的性质，被广泛的使用在涂布材料及光电产品中。然而，有机材料中的化学键由于原子间的键结能低，造成耐候性不足。虽然无机材料具有高的耐候性，可抵抗太阳光中的紫外线破坏，但无机材料成膜性与可挠曲性不佳，作为涂层会有易于剥落的问题。
[0003]因此，业界需要一种高成膜性的涂布组合物，以形成具有高耐候性、及高可挠曲性的膜层。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种既具有有机材料的高成膜性及高可挠曲性，也具有无机材料的高耐候性的涂布组合物。
[0005]本发明提出一种涂布组合物，包含一由一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物；
[0006]
【权利要求】
1.一种涂布组合物，包含: 一由一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物；
2.如权利要求1所述的涂布组合物，其中所述(b)具有公式⑴结构的化合物为2-(3，4_环氧环己基)乙基三甲基硅烷、3-甘油基丙基三甲氧基硅烷、3-甘油基丙基甲基二乙基硅烷氧、3-甘油基丙基三乙基硅烷氧、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基二乙氧基娃焼、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基娃焼、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基二甲氧基娃焼、3-胺丙基二甲氧基娃焼、3-胺丙基二乙氧基娃焼、N-苯基_3胺丙基二甲氧基娃焼、3_服基丙基二乙氧基娃焼、3_异氛酸丙基二乙氧基娃焼、3_氣丙基二甲氧基娃烷、I氢，I氢，2氢，2氢-全氟辛烷基三乙氧基硅烷、氟已烷基1.1.2.2-四氢葵基三乙氧基娃焼、3-硫丙基二甲氧基娃焼、3-硫丙基甲基._?甲氧基娃焼、双(二乙氧基娃基丙基)四硫化物、癸基二甲氧基娃焼、己基二乙氧基娃焼、或3-丙稀酸丙基二甲氧基娃焼。
3.如权利要求1所述的涂布组合物，其中所述(a)聚硅倍半氧烷为一具有公式(II)结构的化合物经聚合反应所得的产物
4.如权利要求3所述的涂布组合物，其中所述具有公式(II)结构的化合物与所述(b)具有公式(I)结构的化合物的重量比为0.1至10。
5.如权利要求3所述的涂布组合物，其中所述具有公式(II)结构的化合物为3-氯丙基二甲氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、乙基二乙氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、或四乙氧基硅烷。
6.如权利要求1所述的涂布组合物，其中所述由(a)聚硅倍半氧烷与(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物的重量平均分子量是大于4，000。
7.如权利要求1所述的涂布组合物，其中所述由(a)聚硅倍半氧烷与(b)具有公式(I)结构的化合物经化学反应所得的产物的灰分是大于或等于50%。
8.如权利要求1所述的涂布组合物，还包含: 一酸性或碱性化合物，使所述涂布组合物具有一 PH值小于或等于6、或大于或等于8。
9.如权利要求1所述的涂布组合物，还包含: 一染料或色料。
10.一种涂布组合物的制备方法，包含: 将一(a)聚硅倍半氧烷与一(b)具有公式(I)结构的化合物进行化学反应，得到一产物；
11.如权利要求10所述的涂布组合物的制备方法，还包含: 将具有公式(II)结构的化合物进行一聚合反应，得到所述(a)聚硅倍半氧烷；
12.如权利要求11所述的涂布组合物的制备方法，其中所述具有公式(II)结构的化合物为3_氣丙基二甲氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、乙基二乙氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、或四乙氧基硅烷。
13.如权利要求11所述的涂布组合物的制备方法，其中所述具有公式(II)结构的化合物与(b)具有公式⑴结构的化合物的重量比为0.1至10。
14.如权利要求10所述的涂布组合物的制备方法，其中所述(b)具有公式(I)结构的化合物为2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲基硅烷、3-甘油基丙基三甲氧基硅烷、3-甘油基丙基甲基二乙基硅烷氧、3-甘油基丙基三乙基硅烷氧、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基二乙氧基硅烷、N-2-(胺乙基)-3_胺丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(胺乙基)_3_胺丙基二甲氧基硅烷、3-胺丙基二甲氧基硅烷、3-胺丙基二乙氧基硅烷、N-苯基-3胺丙基二甲氧基硅烷、3-服基丙基二乙氧基硅烷、3-异氰酸丙基二乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、1氢，1氢，2氢，2氢-全氟辛烷基三乙氧基硅烷、氟已烷基1.1.2.2-四氢癸基二乙氧基硅烷、3-硫丙基二甲氧基硅烷、3-硫丙基甲基二甲氧基硅烷、双(二乙氧基娃基丙基)四硫化物、癸基二甲氧基硅烷、己基二乙氧基硅烷、或3-丙稀酸丙基二甲氧基娃烧。
15.如权利要求10所述的涂布组合物的制备方法，还包括:在(a)聚硅倍半氧烷与(b)具有公式(I)结构的化合物进行化学反应的步骤中，加入一酸性或碱性化合物。
16.如权利要求10所述的涂布组合物的制备方法，在(a)聚硅倍半氧烷与(b)具有公式(I)结构的化合物进行化学反应的步骤后，还包含: 将所得的产物与一染料或色料混合。
17.—种膜层，其中所述膜层是由权利要求1所述的涂布组合物经一涂布制程后所形成。
18.如权利要求17所述的膜层，其中所述涂布制程为网印、旋转涂布法、棒状涂布法、刮刀涂布法、 滚筒涂布法、浸溃涂布法、喷涂、或刷涂。
【文档编号】C08L83/08GK103897586SQ201210585040
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月28日 优先权日:2012年12月26日
【发明者】黄元昌, 汤伟钲, 简淑云, 沈永清, 张义和, 陈哲阳 申请人:财团法人工业技术研究院