树脂组合物、耐热性树脂膜的制造方法及显示装置与流程

技术特征：

1.树脂组合物，以200℃～350℃的范围内的任一温度下的加热处理后的厚度成为3.0μm的方式形成树脂组合物膜时，所述树脂组合物能形成下述耐热性树脂膜：所述加热处理前的波长365nm～436nm内的各波长处的透光率为50％以上、所述加热处理后的波长365nm～436nm中的任一波长处的透光率为10％以下的耐热性树脂膜。

2.如权利要求1所述的树脂组合物，其中，以200℃～350℃的范围内的任一温度下的加热处理后的厚度成为2.0μm的方式形成树脂组合物膜时，所述树脂组合物能形成下述耐热性树脂膜：所述加热处理前的波长365nm～436nm内的各波长处的透光率为50％以上、所述加热处理后的波长350nm～460nm内的各波长处的透光率为5％以下的耐热性树脂膜。

3.如权利要求1～2中任一项所述的树脂组合物，所述树脂化合物还包含光产酸剂，并具有正型感光性。

4.树脂组合物，其含有：

(A1)聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体；

(A3)酚醛树脂及/或聚羟基苯乙烯树脂；

(B)热呈色性化合物；

(C)光产酸剂；及

(D)溶剂，

相对于100重量份的(A1)成分，所述树脂组合物含有5重量份以上且50重量份以下的(A3)成分，

所述树脂组合物具有正型感光性。

5.树脂组合物，其含有：

(A2)具有在构成环状结构的季碳原子上键合有两个环状结构而成的骨架结构的树脂；

(A3)酚醛树脂及/或聚羟基苯乙烯树脂；

(B)热呈色性化合物；

(C)光产酸剂；及

(D)溶剂，

相对于100重量份的(A2)成分，所述树脂组合物含有5重量份以上且50重量份以下的(A3)成分，

所述树脂组合物具有正型感光性。

6.如权利要求4～5中任一项所述的树脂组合物，其中，所述(B)热呈色性化合物是具有三芳基甲烷骨架的含羟基化合物。

7.如权利要求4～6中任一项所述的树脂组合物，所述树脂组合物还含有(E)染料及/或颜料。

8.如权利要求4～7中任一项所述的树脂组合物，所述树脂组合物还含有：(F)在1分子中具有3～6个热交联性基团的化合物。

9.树脂组合物，其含有：

(A)碱溶性树脂；

(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物；

(C)光产酸剂；及

(D)溶剂，

所述树脂组合物具有正型感光性。

10.如权利要求9所述的具有正型感光性的树脂组合物，其中，(A)碱溶性树脂为聚酰亚胺、聚苯并噁唑、聚酰亚胺前体或聚苯并噁唑前体。

11.如权利要求9所述的具有正型感光性的树脂组合物，其中，(A)碱溶性树脂为选自具有在构成环状结构的季碳原子上键合有两个环状结构而成的骨架结构的树脂、酚醛树脂及/或聚羟基苯乙烯树脂中的至少一种碱溶性树脂。

12.如权利要求9～11中任一项所述的树脂组合物，其中，(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物经加热处理后的最大吸收波长在340nm以上且小于450nm的波长范围内，

所述树脂组合物具有正型感光性。

13.如权利要求9～12中任一项所述的树脂组合物，其中，所述(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物是具有至少一个以上的酚式羟基、且所述酚式羟基的一部分或全部已被保护基保护的化合物，

所述树脂组合物具有正型感光性。

14.如权利要求13所述的树脂组合物，其中，所述(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物具有至少一个以上的酚式羟基，

对所述酚式羟基的一部分或全部进行保护的保护基为热解离性基团或酸解离性基团，

所述树脂组合物具有正型感光性。

15.如权利要求14所述的树脂组合物，其中，所述(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物具有至少一个以上的酚式羟基，

对所述酚式羟基的一部分或全部进行保护的热解离性基团或酸解离性基团是由通式(8)～(11)中的任一者表示的基团，

所述树脂组合物具有正型感光性，

通式(8)中，R⁵⁹～R⁶¹各自可以相同，也可以混合存在不同的基团，表示氢原子或碳原子数为1以上的一价烃基；

通式(9)中，n表示0或1；

通式(10)中，R⁶²表示碳原子数为1～20的一价烃基；

通式(11)中，Z表示氢原子、硫原子或-N(R⁶³)-，R⁶⁴表示碳原子数为1～20的一价烃基，R⁶³表示氢原子或碳原子数为1～20的一价烃基。

16.如权利要求9～15中任一项所述的树脂组合物，其中，所述(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物为非稠合多环化合物或稠合多环化合物，

所述树脂组合物具有正型感光性。

17.如权利要求9～16中任一项所述的树脂组合物，其中，所述(I)最大吸收波长通过加热处理而发生位移的化合物为具有2个以上且8个以下的芳香环的非稠合多环化合物或稠合多环化合物，

所述树脂组合物具有正型感光性。

18.如权利要求9～17中任一项所述的树脂组合物，所述树脂组合物还含有：(J)在340nm以上且小于436nm的波长处不具有最大吸收、在436nm以上且750nm以下的波长处具有最大吸收的化合物，

所述树脂组合物具有正型感光性。

19.如权利要求9～18中任一项所述的树脂组合物，所述树脂组合物还含有：(F)在1分子中具有3～6个热交联性基团的化合物，

所述树脂组合物具有正型感光性。

20.耐热性树脂膜的制造方法，其包括下述工序：

将权利要求1～19中任一项所述的树脂组合物涂布于基板上、形成涂布膜的工序；

对所述涂布膜进行干燥的工序；

对经干燥的感光性树脂膜进行曝光的工序；

对经曝光的感光性树脂膜进行显影的工序；及

对经显影的感光性树脂膜进行加热处理的工序。

21.耐热性树脂膜的制造方法，其包括下述工序：

使用狭缝喷嘴将权利要求1～19中任一项所述的树脂组合物涂布于基板上、形成涂布膜的工序；及

对所述涂布膜进行减压干燥、形成感光性树脂膜的工序。

22.显示装置，其是包含形成于基板上的第一电极、为使第一电极部分地曝光而在第一电极上形成的绝缘层、和与第一电极对向设置的第二电极的显示装置，其中，所述绝缘层是利用权利要求20或21所述的制造方法而得到的耐热性树脂膜。

23.显示装置，其是具备平坦化膜、和设置于平坦化膜上的显示元件而成的显示装置，所述平坦化膜以将形成有薄膜晶体管(TFT)的基板上的凹凸覆盖的状态进行设置，其中，所述平坦化膜是利用权利要求20或21所述的制造方法而得到的耐热性树脂膜。

24.显示装置，其是具备平坦化膜、和设置于平坦化膜上的显示元件而成的显示装置，所述平坦化膜以将形成有作为薄膜晶体管(TFT)的氧化物TFT的基板上的凹凸覆盖的状态进行设置，其中，所述平坦化膜是利用权利要求20或21所述的制造方法而得到的耐热性树脂膜。

25.如权利要求23或24所述的显示装置，其中，显示元件的分辨率为200ppi以上。