针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂及其制备和使用的制作方法

文档序号:12695841阅读:1521来源:国知局

本发明涉及膜系统清洗剂领域,具体地,系针对膜系统中二氧化硅结垢的清洗剂。



背景技术:

随着国家对水资源的越来越重视,中水回用的越来越普遍,但中水回用水质十分复杂,一般需要使用精度很高的反渗透膜才能将中水深度处理并回用,针对一些广电企业的研磨废水或钢厂的清洗废水回用,二氧化硅污堵是一个主要的膜污堵问题,如采用传统的人工清洗方案,效果不佳,且对膜的损耗巨大,造成极大的资源和财产的浪费。

而采用传统的化学清洗剂的清洗方法,例如:在传统工艺中,针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂的配方中,通常使用酸性药剂,如:盐酸、柠檬酸等,此类酸剂无法将垢溶解。如若使用常规的碱性药剂,如:EDTA二钠、氢氧化钠等,其效果也微乎其微。由此可见,传统化学清洗方法的效果并不理想,往往在清洗后的使用效果仅达到初始效率10%不到。



技术实现要素:

本发明旨在克服上述缺陷,提供一种不仅价格低廉,且对被二氧化硅污毒的膜系统清洗效果十分理想,能将90%以上的二氧化硅垢溶解在清洗液中的膜清洗剂。

本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,其特征在于,由如下质量百分比的物质制备而成:

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、上述含氟铵盐选自含氟有机铵盐或含氟无机铵盐中的一种或多种。

该含氟有机铵盐可选自碳原子数不小于5的含氟烷基酸铵盐;

该含氟无机铵盐可选自氟化氢铵、氟化铵的复配组合。

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、上述含氟铵盐选自氟化氢铵。

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、上述含氟酸选自含氟有机酸或含氟无机酸中的一种或多种。

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、上述含氟酸选自氢氟酸。

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、由如下质量百分比的物质制备而成:

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂,还具有这样的技术特点:即、由如下质量百分比的物质制备而成:

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂的制备方法,其特征在于:于反应釜中依次加入水、含氟铵盐、含氟酸和多胺基多醚基亚甲基磷酸,于10-60℃的温度下,缓慢搅拌至其完全混合均匀。

进一步地,本发明提供的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂的的使用备方法,其特征在于:

将清洗剂用水稀释至1-5%的浓度后进行使用。

本发明的作用和效果:

本发明提供了一种新型清洗剂,该清洗剂不仅价格低廉,配方简单,且对被二氧化硅污毒的膜系统,清洗效果十分理想,能实现将90%以上的二氧化硅垢溶解在清洗液中。

本发明研制的清洗剂中,含氟铵盐,特别是氟化氢铵在低浓度下即可对二氧化硅能起到完全溶解的效果,而多胺基多醚基亚甲基磷酸则能增加二氧化硅的溶解度,含氟酸剂,如:氢氟酸则可以起到调节pH及对二氧化硅的溶解起到协同作用。

使用以上组分配置的新型清洗剂,对反渗透系统二氧化硅垢的清洗效果明显,且经济实惠。使用时,仅需将以上配方配置成为1%的清洗液,即可起到清洗被二氧化硅重度污染的反渗透膜。

具体实施方式

实施例一、

在反应釜中加入20kg的氟化氢铵、10kg的氢氟酸以及1kg的多胺基多醚基亚甲基磷酸于69kg的纯水,搅拌2小时,混合均匀,即得新型清洗剂1#。

实施例二、

在反应釜中加入10kg的氟化氢铵、15kg的氢氟酸以及2kg的TL-109于53kg的纯水,搅拌1小时,混合均匀,即得新型清洗剂2#。

实施例三、

在反应釜中加入30kg的氟化氢铵、5kg的氢氟酸以及0.1kg的多胺基多醚基亚甲基磷酸于65kg的纯水,室温搅拌1小时,混合均匀,即得新型清洗剂3#。

实施例四、

在反应釜中加入5kg的氟化铵、10kg的氟化氢铵、8kg的氢氟酸以及1kg的TL-109于76kg的纯水,于30℃搅拌0.5小时,混合均匀,即得新型清洗剂4#。

实施例五、

在反应釜中加入4kg的FYY3、5kg的氟化氢铵、10kg的氢氟酸以及、1kg的TL-109于90kg的纯水,于室温搅拌2小时,混合均匀,即得新型清洗剂5#。

上述实施例提供的清洗剂1-5#,该清洗剂不仅价格低廉,配方简单,且对被二氧化硅污毒的膜系统,清洗效果十分理想,使用时,仅需将以上配方配置成为1%的清洗液,即可起到清洗被二氧化硅重度污染的反渗透膜。

经清洗试验发现,采用1#清洗剂,分别配置为质量百分比浓度为1%、2%、3%、4%、5%的清洗液,对膜上二氧化硅垢的溶解率在90%-98%之间,均远超常规清洗剂的水平。

采用2-5#的清洗剂,配置为质量百分比浓度不超过10%的清洗液,也均能实现,膜上二氧化硅垢的溶解率在90%以上的结果。

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