（B)渗透至三乙酰纤维素基 材的抗静电层侧的界面侧的区域并固化。
[0131] 在TAC基材的一侧从TAC基材侧起设置膜厚为1?5 μ m的抗静电层、及HC层的 光学薄膜，通过抗静电层由上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，可具有充分 的灰尘附着防止性，并且HC层与抗静电层的密接性优异。另外，通过使多官能单体（B)渗 透至TAC基材的抗静电层侧的界面侧的区域并固化，也可获得抗静电层与TAC基材的密接 性。作为光学薄膜整体，可获得优异的灰尘附着防止性能。
[0132] 在本发明的光学薄膜的优选的实施方式中，通过使抗静电层由上述抗静电层用组 合物的固化物形成，也可使光学薄膜的上述硬涂层、上述抗静电层及上述三乙酰纤维素基 材间的方格密接性试验的密接率为90?100%，且使于温度30°C、湿度40%下以每小时 500W/m 2的光量照射192小时紫外线后（以下，有时简单称为"耐紫外线（UV，Ultraviolet) 试验后"）的该密接率为80?100%。
[0133] 该密接率表示HC层、抗静电层及TAC基材的密接，即抗静电层与HC层间的密接及 抗静电层与TAC基材间的密接性。
[0134] 在现有的具有不含聚氨酯丙烯酸酯（C)，主要仅含有多官能单体（B)作为粘合剂 的组合物，或即便含有聚氨酯丙烯酸酯（C)也未以特定的比例含有抗静电剂（A)、多官能单 体（B)及聚氨酯丙烯酸酯（C)的组合物的固化物所构成的抗静电层的光学薄膜中，抗静电 层与TAC基材间的密接虽良好，但抗静电层与HC层间的密接并不充分。如此，在抗静电层 与HC层间的密接性并不充分的情况下，若进行密接性试验，则抗静电层与TAC基材间虽不 产生剥离，但抗静电层与HC层之间会产生剥离而剥落。在抗静电层与TAC基材间的密接并 不充分的情况下，抗静电层与TAC基材间会产生剥离而剥落。因此，作为光学薄膜，为了获 得优异的密接性，需要抗静电层与HC层间的密接及抗静电层与TAC基材间的密接。
[0135] 通过使上述抗静电层用组合物固化而形成抗静电层，膜厚为1?5 μ m的抗静电层 与HC层间的密接及抗静电层与TAC基材间的密接优异，作为光学薄膜整体显现优异的密接 性。尤其，该密接性在耐UV试验后较显著。本发明的光学薄膜在耐UV试验后也显现优异 的密接性。
[0136] 图1为表不本发明的光学薄膜的层构成的一例的不意图。在三乙酰纤维素基材10 的一侧，依序邻接地设置有抗静电层20及硬涂层30。图2为表示本发明的光学薄膜的层构 成的另一例的示意图。在与图1相同的光学薄膜的硬涂层上进一步设置有低折射率层40。
[0137] 以下，对作为本发明的光学薄膜的必需构成要素的三乙酰纤维素基材、抗静电层 及硬涂层，以及可视需要而适当设置的高折射率层、中折射率层、低折射率层、防眩层及防 污层等其他层加以说明。
[0138] (三乙酰纤维素基材）
[0139] 本发明中所使用的三乙酰纤维素基材为透光性较高的三乙酰纤维素薄膜，且只要 为满足可用作光学薄膜的透光性基材的物性者，则并无特别限定，可适当地选择使用目前 公知的硬涂薄膜或光学薄膜的TAC基材。
[0140] 可见光区域380?780nm中的TAC基材的平均透光率优选为80 %以上，特优选为 90%以上。再者，透光率的测定采用使用紫外可见分光亮度计（例如岛津制作所（株式会 社）制造的商品名UV-3100PC)，在室温、大气中所测定的值。
[0141] 可对TAC基材实施皂化处理或设置底涂层等表面处理。另外，可添加抗静电剂等 添加剂。
[0142] TAC基材的厚度并无特别限定，通常为30?200 μ m，优选为40?200 μ m。
[0143] (抗静电层）
[0144] 本发明的抗静电层由上述抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成，膜厚为 1?5 μ m。若膜厚薄于1 μ m，则无法获得充分的抗静电性能，无法充分地添加用于确保与其 他层的密接性而必需的粘合剂。若厚于5 μ m，则由于抗静电剂不能以某种程度紧密地存在 于层内而无法发挥性能，故而抗静电层的卷曲变大，因此加工性恶化，若膜厚进一步变厚， 则所包含的抗静电剂等的量增加，成本增加。
[0145] 作为抗静电层的性能，表面电阻优选为小于I X IO12 Ω / □，更优选为I X IO11 Ω / 口 以下、进而为IXIOkiQ/□以下。只要抗静电层的表面电阻良好，层叠有HC层的光学薄膜 的灰尘附着防止性可更良好。
[0146] (硬涂层）
[0147] 硬涂层为在JIS K5600-5-4(1999)中规定的铅笔硬度试验（4.9N负荷）中，显示 "Η"以上的硬度的层，且对本发明的光学薄膜赋予硬度。
[0148] HC层包含硬涂层用组合物的固化物，可使用先前公知的硬涂层，也可为包含仅含 粘合剂成分的硬涂层用组合物的固化物者，另外，也可在组合物中含有上述抗静电层用组 合物中所列举的聚合引发剂等。为了提高HC层的硬度等，也可含有先前公知的赋予硬度的 成分，例如日本专利特开2008-165040号公报中记载的具有与粘合剂成分的交联反应性的 反应性二氧化硅微粒。
[0149] 作为具体例，可通过将含有电离放射线固化性树脂作为透明树脂的树脂组合物涂 布在透明基材上，并使该树脂组合物中所包含的单体、寡聚物及预聚物交联及/或聚合而 形成HC层。
[0150] 作为透明树脂，优选电离放射线固化性树脂，作为单体、寡聚物及预聚物的官能 基，优选电离放射线聚合性的官能基，其中优选光聚合性官能基。通过该官能基与抗静电层 用树脂组合物中的聚氨酯丙烯酸酯（C)的反应性基固化结合，可获得抗静电层与HC层的充 分的密接性。
[0151] 作为光聚合性官能基，可列举（甲基）丙烯酰基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等不饱 和聚合性官能基等。
[0152] 另外，作为预聚物及寡聚物，可列举聚氨酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯 酸酯、环氧（甲基）丙烯酸酯等丙烯酸酯、不饱和聚酯、环氧树脂等。
[0153] 作为单体，可列举苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系单体，（甲基）丙烯酸甲酯、 (甲基）丙烯酸-2-乙基己酯、季戊四醇（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、 季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三羟 甲基丙烷乙氧基三（甲基）丙烯酸酯、甘油丙氧基三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸 酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、双酚F的EO改性二（甲基）丙烯酸酯、双酚A的EO改性 二（甲基）丙烯酸酯、异三聚氰酸EO改性二（甲基）丙烯酸酯、异三聚氰酸EO改性三（甲 基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羟甲基丙烷PO改性三（甲基）丙烯酸酯、 三羟甲基丙烷EO改性三（甲基）丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四（甲基）丙烯酸酯等丙烯 酸系单体，三羟甲基丙烷三硫代乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代丙醇盐、季戊四醇四硫甘醇 等分子中具有2个以上的硫醇基的多元醇化合物，另外，具有2个以上的不饱和键的聚氨酯 (甲基）丙烯酸酯或聚酯（甲基）丙烯酸酯等。
[0154] 尤其，就提高交联密度、获得抗损伤性的观点而言，优选多官能丙烯酸酯单体，其 中，季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基） 丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯因与抗静电层的密接良好、铅笔硬度也良好而更 优选。另外，在这些单体中混合聚氨酯多官能丙烯酸酯等寡聚物成分也可使硬度变得良好， 并且使聚合收缩减少，可良好地形成防止卷曲或裂痕的性能，故优选。
[0155] 在此种树脂组合物中，也可为了提升硬度而含有二氧化硅等无机微粒等。另外，为 了使与树脂组合物的兼容性变佳，可进行有机表面处理，也可具有反应性基。
[0156] 另外，作为粘合剂，也可将聚合物添加至上述树脂组合物中来使用。作为聚合 物，例如可列举聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA，Polymethyl Methacrylate)、乙酸-丙酸纤维素 (CAP, Cellulose Acetate Propionate)等。通过添加聚合物，可调整涂液的粘度，由此有 使涂布变得容易的优点。
[0157] 另外，在上述树脂组合物中，视需要可添加光自由基聚合引发剂。优选的添加量相 对于上述树脂组合物的总固态成分的合计质量为〇. 8?8. 0质量％。作为光自由基聚合引 发剂，可使用苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类、9-噻吨酮类、偶 氮化合物等。
[0158] 作为苯乙酮类，可列举2,2_二甲氧基苯乙酮、2,2_二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯 乙酮、1-羟基-二甲基苯基酮、1-羟基-二甲基-对异丙基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、 2-甲基-4-甲硫基-2-吗啉基苯丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1- (4-吗啉基苯基）-丁酮、 4-苯氧基二氯苯乙酮、4-叔丁基-二氯苯乙酮等，作为苯偶姻类，可列举苯偶姻、苯偶姻甲 醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苄基二甲基缩酮、苯偶姻苯磺酸酯、苯偶姻甲苯磺酸酯、苯 偶姻甲醚、苯偶姻乙醚等。
[0159] 另外，作为二苯甲酮类，可使用二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4'-甲基 二苯基硫化物、2,4_二氯二苯甲酮、4,4_二氯二苯甲酮及对氯二苯甲酮、4,4'-二甲基氨 基二苯甲酮（米其勒酮）、3,3'，4,4'-四（叔丁基过氧化羰基）二苯甲酮等。
[0160] 另外，也可混合使用光敏剂，作为其具体例，可列举正丁基胺、三乙胺、聚-正丁基 勝等。
[0161] HC层的膜厚只要适当调节即可，例如，只要为1?20μπι即可。优选为5?15μπι。 若超过15 μ m则无法获得优异的灰尘附着防止性能，若小于5 μ m，则硬度变得不足、且密接 性也变弱。
[0162] 通常，若层叠于抗静电层上的HC层变厚，则灰尘附着防止性能变差，但若为本申 请的构成及组合物，则可获得优异的灰尘附着防止性能。
[0163] 在本发明的光学薄膜的优选的实施形态中，即便以抗静电层为1?5μπκ HC层为 5?15 μ m的方式在抗静电层上层叠有较厚的HC层，光学薄膜也可获得充分的灰尘附着防 止性能、及充分的抗静电层与HC层的密接性。
[0164] (其他层）
[0165] 在本发明的光学薄膜中，在不脱离本发明的主旨的范围内，在上述HC层的与抗静 电层相反侧的面上，也可为了提升光学薄膜的抗反射性、防眩性及防污性等而设置高折射 率层、中折射率层、低折射率层、防眩层及防污层等其他层。
[0166] (高折射率层及中折射率层）
[0167] 高折射率层及中折射率层是为了调整本发明的光学薄膜的反射率而设置的层。在 设置高折射率层的情况下，虽未图示，但通常邻接于低折射率层的TAC基材侧而设置。另 夕卜，在设置中折射率层的情况下，虽未图示，但通常从TAC基材侧起依序设置中折射率层、 高折射率层及低折射率层。
[0168] 高折射率层及中折射率层包含主要含有粘合剂成分及折射率调整用粒子的组合 物的固化物。作为粘合剂成分，可使用抗静电层用组合物中所列举的多官能单体等。作为 折射率调整用粒子，例如可列举粒径为IOOnm以下的微粒。作为此种微粒，可列举选自氧化 锌（折射率：1· 90)、二氧化钛（折射率：2· 3?2. 7)、二氧化铈（折射率：1· 95)、掺锡氧化 铟（折射率：1. 95)、掺锑氧化锡（折射率：1. 80)、氧化钇（折射率：1. 87)、氧化锆（折射率： 2. 0)中的一种以上。
[0169] 具体而言，高折射率层的折射率优选为1. 50?2. 80。中折射率层的折射