专利名称：光催化剂硬质涂膜的制作方法
背景技术：
1.发明领域本发明涉及光催化剂硬质涂膜。更特别地，本发明涉及光催化剂硬质涂膜，当其暴露于户外时，在短的时间段内显示出光催化功能，且耐候性优良，亦即，长时间不龟裂、变白或从光催化剂层中剥离。2.相关领域的说明迄今为止为了各种目的，使用具有一种或多种紫外线屏蔽、红外线屏蔽、防止窥看内部、防污染、防止浮动碎片等等功能的塑料膜作为胶粘在窗玻璃和用于窗户的塑料板(下文有时称为“窗户膜”)的膜。作为实例之一，光催化剂层安装在其背面上的光催化剂窗户膜是已知的(例如，参考日本专利注册号No.2756474)。
已知以二氧化钛为代表的半导体当用在其能带隙内的能量射线激发时，在导带上生成电子，进一步在价电子带上生成正的空穴，它们在其表面上赋予极性，并因此通过电子和/或正的空穴的作用超级亲水化。以上提及的光催化剂窗户膜的目的在于通过安装含有这种半导体的光催化剂层到窗户膜的表面上，在玻璃窗和类似物的正面上裱糊该膜，并通过太阳光的反复辐照利用超级亲水性和防污染性能和在没有清洗附着到膜表面上的污渍(有机物)的情况下利用雨水，自然清洗膜表面(自清洗)，和目的还在于窗玻璃的防雾和确保在下雨时的视野。由于以上提及的光催化剂窗户膜更易于在裱糊或清洗时划伤，因此要求硬质涂层性能(抗划性)，和因此提出了各种提议。也就是说，这些提议包括在硅氧烷基硬质涂布层上形成光催化剂层，以提高光催化剂层的抗划性和粘合性{例如，参考日本专利申请特开No.91030/1999(Heisei 11)}；对硅氧烷基硬质涂布层进行电晕放电处理，以提高在含聚碳酸酯基底、含紫外吸收剂的底漆层、硅氧烷基硬质涂布层和光催化剂层的层压结构体内光催化剂层的粘合性{例如，参考日本专利申请特开No.47584/2001(Heisei 13)}；在硅氧烷基硬质涂布层内共混金属氧化物颗粒，以提高在含基底、底漆层、硅氧烷基硬质涂布层和光催化剂层的层压结构体内光催化剂层的粘合性{例如，参考日本专利申请特开No.47584/2001(Heisei 13)}；和类似提议。然而，如此提出的任何一种膜的缺陷是，当暴露于户外时，要求数周才会显示出光催化功能，和除了龟裂以外，在暴露于户外约半年内在光催化剂层上发生变白和/或剥离。
发明概述在这种情况下，本发明的目的是提供光催化剂硬质涂膜，当暴露于户外时，在数天内显示出光催化功能，且耐候性优良，亦即在长时间段内不会龟裂、变白和/或剥离，且非常适合于在窗玻璃和用于高层建筑窗户的塑料板的外表面上裱糊和用于在展览窗上裱糊。根据下文公开的说明书内容，本发明的其它目的将变得显而易见。鉴于这种情况，本发明的发明人进行了广泛深入的研究和调查，以实现以上提及的目的。结果发现可通过使底漆层的线性膨胀系数和厚度各自落在特定范围内，可防止光催化剂层的龟裂，其中所述光催化剂层的龟裂由基底膨胀引起，而基底的膨胀是由于在含基底、底漆层、硬质涂布层和光催化剂层的层压结构体内光催化剂层的吸湿性导致的，且还发现当将金属氧化物颗粒加入到该硬质涂布层中，用以提高光催化剂层的粘合性时，分散金属氧化物颗粒所使用分散剂迁移到光催化剂层上，覆盖光催化剂的表面，进而造成亲水化的延迟，但可通过使硬质涂布层内的金属氧化物颗粒的含量及其厚度各自落在特定范围内，从而防止以上提及的现象。基于前述发现和信息，从而完成本发明。具体地说，本发明提供下述内容1.一种光催化剂硬质涂膜，包括基底、底漆层、硬质涂布层和光催化剂层，所述三层依次与基底的任一表面一起层压，其中底漆层的厚度为3.0-20.0微米，和当其温度从80℃升高到100℃时，线性膨胀系数为3.0×10-3到7.9×10-3(K-1)，和该硬质涂布层包括固化的硅烷化合物和，基于100质量份硅烷化合物，20-70质量份金属氧化物颗粒，且厚度为1.2-1.9微米。
2.在前述条目1中列出的光催化剂硬质涂膜，其中基底是由聚碳酸酯组成的膜。
3.在前述条目1或2中列出的光催化剂硬质涂膜，其中底漆层是由丙烯酸底漆形成的层。
4.前述条目1-3任何一项中列出的光催化剂硬质涂膜，其中硬质涂布层是通过使用四烷氧基硅烷作为硅烷化合物和锑掺杂的氧化锡作为金属氧化物颗粒形成的层。
5.前述条目1-4任何一项中列出的光催化剂硬质涂膜，其中光催化剂层是通过使用硅烷化合物作为粘合剂和二氧化钛作为光催化剂形成的层。
6.前述条目1-5任何一项中列出的光催化剂硬质涂膜，其中在基底另一表面上安装压敏粘合层。
优选实施方案的详细说明在本发明的光催化剂硬质涂膜中使用的基底没有具体限制，但可以根据情况合适地从各种塑料膜中选择使用。其实例包括聚烯烃树脂，例如聚乙烯、聚丙烯、聚-4-甲基戊烯-1和聚丁烯-1；聚酯基树脂，例如聚对苯二甲酸乙二酯和聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯基树脂；聚氯乙烯基树脂；聚苯硫基树脂；聚醚砜基树脂；聚乙烯硫基树脂；聚苯醚基树脂；苯乙烯基树脂；丙烯酸树脂；聚酰胺基树脂；聚酰亚胺基和纤维素基树脂，例如乙酸纤维素。在这些当中，从耐候性的角度考虑，尤其优选聚碳酸酯膜。基底的厚度没有具体限制，但可根据使用目的视情况从通常5-500微米，优选10-300微米，更优选10-200微米的范围内合适地选择。
基底优选透明，但也可被着色或者气相沉积，且可含有紫外吸收剂和光稳定剂。另外，为了提高对安装在其上的底漆层的粘合性，视需要可在任何一侧或者两侧上，藉助氧化方法或者不均匀的构图方法，对基底进行表面处理。氧化方法的实例包括电晕放电方法，铬酸处理方法(湿法体系)，火焰处理方法，热空气处理方法，臭氧/紫外辐射方法和类似方法。不均匀构图方法的实例包括喷砂方法和溶剂处理方法。从工作效果和可操作性等角度考虑，根据基底类型视情况合适选择的表面处理方法优选电晕放电方法。在根据本发明的光催化剂硬质涂膜中，在以上提及的基底上形成底漆层。需要底漆层对安装在其上的硬质涂膜具有有利的粘合性和同样对以上提及的基底具有有利的粘合性，且当其温度从80℃升高到100℃时，其还具有3.0×10-3到7.9×10-3(K-1)的线性膨胀系数(下文简称为“线性膨胀系数”)。在公知的底漆例如丙烯酸、聚酯基、聚氨酯基、硅氧烷基、橡胶基和类似底漆中，可使用各自的线性膨胀系数在前述范围内的那些；从耐用性、粘合性和类似因素的角度考虑，丙烯酸底漆是合适的。
需要底漆层的线性膨胀系数落在以上提及的范围内，以便抑制龟裂发生，结果使得在其中其系数高于该上限或低于该下限的任何一种情况下不可能抑制其发生。特别优选的范围是3.2×10-3到7.8×10-3(K-1)。视需要，基于100质量份底漆，可掺入用量优选0.01-10质量份，尤其优选0.1-5质量份的紫外吸收剂和/或光稳定剂到底漆层中。在根据本发明的光催化剂硬质涂膜中，需要底漆层的厚度范围为3.0-20.0微米，尤其3.5-8.0微米，以便显示出抑制和缓冲基底膨胀的效果，抑制在光催化剂层上出现裂纹，和当紫外吸收剂包含在底漆层内时，有效地显示出紫外吸收剂的效果。可通过包括下述步骤的方法形成底漆层通过公知的方法，例如棒涂法、刮刀式涂布法、辊涂法、刮板式涂布法、模涂法、照相凹版涂布法或幕涂法，施涂由合适的溶剂、底漆和视具体情况而定的紫外吸收剂和光稳定剂组成的涂料溶液到基底上，并在80-160℃的温度下加热所得涂层约30秒-5分钟。在根据本发明的光催化剂硬质涂膜中，在以这一方式形成的底漆层上形成含固化的硅烷化合物和金属氧化物颗粒的硬质涂布层。硅烷化合物可例举烷氧基硅烷化合物和氯代硅烷化合物。
烷氧基硅烷化合物的实例包括四烷氧基硅烷，例如四甲氧基硅烷、四丁氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷和四叔丁氧基硅烷；三烷氧基硅烷氢化物，例如三甲氧基硅烷氢化物、三乙氧基硅烷氢化物和三丙氧基硅烷氢化物；二烷氧基硅烷氢化物，例如二甲氧基硅烷氢化物、二乙氧基硅烷氢化物和二丙氧基硅烷氢化物；甲基三甲氧基硅烷；甲基三乙氧基硅烷；甲基三丙氧基硅烷；甲基三异丙氧基硅烷；乙基三甲氧基硅烷；乙基三乙氧基硅烷；丙基三乙氧基硅烷；丁基三甲氧基硅烷；苯基三乙氧基硅烷；γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷；γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷；γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷；二甲基二甲氧基硅烷；甲基苯基二甲氧基硅烷；乙烯基三甲氧基硅烷；乙酰氧基三乙氧基硅烷；二乙烯基二甲氧基硅烷；和二乙烯基二乙氧基硅烷。氯代硅烷化合物的实例包括乙基二氯硅烷；乙基三氯硅烷；二甲基二氯硅烷；三氯硅烷；三甲基氯代硅烷；和甲基三氯硅烷。可单独或结合至少一种其它物种使用以上援引的任何一种硅烷化合物。
在它们当中，从置于硬质涂布层上的光催化剂层的光催化分解性的角度考虑，硅烷化合物的水解缩合物的固化产物优选不具有有机基团。因此，希望使用四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷氢化物或二烷氧基硅烷氢化物作为烷氧基硅烷化合物且完全水解。除了前述以外，金属氧化物颗粒还可例举例如金属例如是Si、Ge、Sn、Al、In、Ga、Zn、Ti、Zr、Sc、Y和镧系元素基金属(Ce等)的氧化物、复合氧化物和金属掺杂的氧化物颗粒。可单独或结合至少一种其它物种使用以上援引的任何一种金属氧化物颗粒。
从防止卷曲、硬质涂层的性能等角度考虑，金属氧化物颗粒的平均粒径范围优选为1-10000纳米，更优选10-500纳米，尤其优选20-200纳米。在形成硬质涂布层之前，制备涂料溶液，所述涂料溶液包括合适溶剂、以上援引的硅烷化合物、金属氧化物颗粒和视具体情况而定，视需要掺入的小量水解催化剂和提高在溶剂内的分散度的分散剂。
随后，通过包括下述步骤的方法形成硬质涂布层通过公知的方法，例如棒涂法、刮刀式涂布法、辊涂法、刮板式涂布法、模涂法、照相凹版涂布法或幕涂法，施涂如此制备的涂料溶液到以上提及的方式制备的底漆层上，并在80-160℃的温度下加热所得涂层30秒-5分钟。
设定在80℃或更高下的温度可防止溶剂残留在硬质涂布层内，而设定在160℃或更低的温度可防止基底收缩，丧失光滑度。按照这一方式，可形成含固化的硅烷化合物和金属氧化物颗粒的硬质涂布层，其中固化的硅烷化合物通过溶胶-凝胶方法形成。关于固化的硅烷化合物和金属氧化物颗粒在硬质涂布层内的含量，基于100质量份固化的硅烷化合物，金属氧化物颗粒的含量需要至少20质量份，以便防止硬质涂布层因对该层的粘合性变差导致更易于划伤，同时基于100质量份固化的硅烷化合物，需要70或更低质量份，以便确保必须的亲水性。也就是说，金属氧化物颗粒的含量需要在20-70质量份范围内，尤其优选30-60质量份。在12小时内的亲水性落在实际的亲水性范围内。除了硬质涂层功能以外，还可通过合适地选择在硬质涂布层内金属氧化物颗粒的类型，赋予硬质涂布层其它功能，例如，紫外线屏蔽和红外线屏蔽功能。具体地说，通过使用例如二氧化钛、氧化锌、氧化铈颗粒，藉助氧化铁通过对二氧化钛颗粒进行复合处理形成的混杂颗粒，和通过用无定形氧化硅涂布氧化铈颗粒表面形成的混杂颗粒，通过散射紫外线，从而赋予硬质涂布层紫外线屏蔽功能。
此外，通过使用例如诸如二氧化钛、二氧化硅、氧化锌、氧化铟、氧化锡、硫化锌，尤其氧化锡ATO(锑掺杂的氧化锡)和ITO(铟掺杂的氧化锡)之类的金属氧化物颗粒，从而赋予硬质涂布层红外线屏蔽功能。在其中具有光催化活性的金属氧化物颗粒用于硬质涂布层的情况下，优选在使用之前使金属氧化物的光催化活性失活，为的是抑制因作为下部层的底漆层内和作为上部层的光催化剂层内的光催化作用导致的劣化。
硬质涂布层的厚度需要在1.2-1.9微米范围内，优选1.3-1.8微米。在根据本发明的光催化剂硬质涂膜中，在按照前述方式形成的硬质涂布层上形成光催化剂层。
在光催化剂层内使用的光催化剂没有具体限制，但可例举例如公知的光催化剂，例如二氧化钛(它是丁烯的光催化剂)、钛酸锶(SrTiO3)、钛酸钡(BaTixO9)、钛酸钠(Na2Ti6O13)、二氧化锆、α-Fe2O3、氧化钨、K4Nb6O17、Rb4Nb6O17、K2Rb2Nb6O17、硫化镉和硫化锌。可单独或结合至少一种其它物种使用以上援引的任何一种物种。在这些当中，二氧化钛，尤其锐钛矿型二氧化钛用作实际的光催化剂。在硬质涂布层上形成光催化剂层的方法没有具体限制，条件是形成对硬质涂布层具有有利的粘合性的光催化剂层。可用的方法可例举例如，干法，如PVD(物理气相沉积)方法，例如真空气相沉积方法和溅射方法，CVD(化学气相沉积)方法和金属喷涂方法；和使用涂料溶液的湿法。在这些当中，从其操作简单性和能容易形成光催化剂层的角度考虑，湿法是有利的。湿法是包括施涂含以上提及的光催化剂颗粒和无机粘合剂的涂料溶液到硬质涂布层上，并使该涂层进行干燥处理，形成光催化剂层的方法。
在涂料溶液内使用的无机粘合剂没有具体限制，条件是它可显示出粘合剂功能，但从对硬质涂布层的粘合性角度考虑，优选例举例如固化的硅烷化合物。这种硅烷化合物具体地例举带有可水解的有机基团的那些，其中包括四烷氧基硅烷，例如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷和四叔丁氧基硅烷；三烷氧基硅烷氢化物，例如三甲氧基硅烷氢化物、三乙氧基硅烷氢化物和三丙氧基硅烷氢化物；二烷氧基硅烷氢化物，例如二甲氧基硅烷氢化物、二乙氧基硅烷氢化物和二丙氧基硅烷氢化物。可单独或结合至少一种其它物种使用以上援引的任何一种硅烷化合物。为了防止发生龟裂，可结合使用烷基三烷氧基硅烷。可通过添加光催化剂颗粒、以上援引的无机粘合剂和小量的水解催化剂到合适的溶剂内制备涂料溶液。
随后，可通过包括下述步骤的方法形成光催化剂层通过公知的方法，例如棒涂法、刮刀式涂布法、辊涂法、刮板式涂布法、模涂法、照相凹版涂布法或幕涂法，施涂如此制备的涂料溶液到硬质涂布层上，并在80-160℃的温度下加热所得涂层30秒-5分钟。
设定在80℃或更高下的温度可防止溶剂残留在光催化剂层内，而设定在160℃或更低的温度可防止基底收缩，丧失光滑度。按照这一方式，在具有有利的粘合性的硬质涂布层上形成含光催化剂颗粒和无机粘合剂的光催化剂层。
在此情况下，光催化剂颗粒的平均粒径范围通常为1-1000nm，优选10-500nm。在光催化剂层内光催化剂颗粒对无机粘合剂的含量之比优选在1∶9到9∶1范围内。
无机粘合剂的含量，当大于前述范围时，引起没有充分地显示出光催化功能的担心，而其含量当小于前述范围时，引起没有充分地显示出粘合剂功能的担心。因此，更优选的含量之比为3∶7到7∶3。
光催化剂层的厚度范围优选为0.01-10微米，尤其优选0.01-1微米。在其中根据本发明的光催化剂硬质涂膜用于在被粘物上裱糊目的的情况下，可依次在与配有硬质涂布层的表面相反的基底表面上安装压敏粘合层和剥离片材。
构成压敏粘合层的压敏粘合剂没有具体限制，但可视情况合适地从公知的压敏粘合剂当中选择使用。从耐水性等角度考虑优选的实例包括丙烯酸、聚氨酯基和硅氧烷基压敏粘合剂。压敏粘合层的厚度范围通常为5-100微米，优选10-60微米，和可视需要掺入紫外吸收剂或光稳定剂。安装在压敏粘合层上的剥离片材可例举纸张，例如玻璃纸、涂布纸和层压纸，和用剥离剂如有机硅树脂涂布的各种塑料膜。没有具体地限制剥离片材的厚度，但通常范围为约20-150微米。以下概述本发明的操作效果和优点。光催化剂硬质涂膜从暴露于户外起数天内显示出光催化功能且耐候性优良，亦即在长时间段内不龟裂、变白和剥离，且非常适合于在窗玻璃和用于高层建筑窗户的塑料板的外表面上裱糊和用于在展览窗上裱糊。在使用之前，剥离掉剥离片材，并使压敏粘合层的暴露表面与待粘着的物体接触。实施例以下参考工作实施例和对比例更加详细地描述本发明，然而所述实施例应当永远不限制本发明至此。
测量在实施例中制备的光催化剂硬质涂膜的物理性能并根据下述工序评价。(1)线性膨胀系数通过使用热分析仪(由Shimadzu Corporation以商品名“TMA-50”制造)，通过在10mN的负载和10℃/min的升温速度条件下，从室温加热长度10mm×厚度80微米的底漆样品到105℃，并通过测量在从80℃室温到100℃的过程中长度的变化，从而测定线性膨胀系数。(2)亲水化时间和接触角用来自1.0mW/cm2(黑色)的BLB荧光灯的紫外线辐照光催化剂层的表面，和直到与水的接触角变为10度或更低时测量的时间段被视为亲水化时间。
通过使用接触角测量仪(由Kyowa Kaimen Kagaku Co.，Ltd.以商品名“CA-X 150”制造)，通过由微型注射器滴落水滴到样品表面上，并通过测量被视为接触角的与水接触的角度，从而测量接触角。(3)加速耐候性试验对于粘着在厚度为3mm的玻璃片上的样品来说，通过使用Sunshine超长寿命的气候计(由Suga Testing Instrument Co.，Ltd.以商品名“WEL-SUN-HCH”制造)，根据JIS A5759中规定的方法(用于建筑窗玻璃的膜)，进行加速耐候性试验。(4)从加速耐候性试验推导得到的裂纹出现时间通过使用光学显微镜(放大1000倍)，每隔100小时的加速耐候性试验时间段检测裂纹的出现，和直到裂纹出现时的时间段被视为裂纹出现时间。(5)耐候性对于进行1900小时的加速耐候性试验之后获得的样品来说，进行下文所述的耐候性试验和硬质涂层性能试验和以上提及的接触角测量。(a)耐候性试验根据JIS K5600-5-6{用于油漆的测试方法，第5部分膜的机械性能，第6节粘合试验(划格法附着力试验)}，进行测量，并基于下述标准进行评价。
0最高耐候性且没有引起剥离4最低耐候性，引起全部涂层剥离。(b)硬质涂层性能试验当用钢棉#0000和/或网摩擦光催化剂层表面时，肉眼观察划伤，以便基于下述标准评价。
◎用钢棉#0000往复摩擦10次没有划伤○用钢棉#0000往复摩擦3次没有划伤△用钢棉#0000往复摩擦3次出现划伤，但用网往复摩擦3次没有划伤×用网往复摩擦3次出现划伤实施例1通过棒涂法，用丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“Solgard Primer 85B-2H18”制造，固体含量18％质量，线性膨胀系数7.71×10-3(K-1)}在一侧上涂布厚度为100微米的聚碳酸酯膜(由Asahi Glass Co.，Ltd.以商品名“Lexan 8010”制造)，以便在干燥之后的厚度为4.0微米，和之后在100℃下干燥涂布的膜1分钟，形成底漆层。
随后，通过棒涂法，用涂料溶液涂布所得底漆层，所述涂料溶液通过添加50.0质量份锑掺杂的氧化锡(ATO){由Ishihara TechnoCo.，Ltd.以商品名“SNS-10B”，ATO含量27％质量}到100.0质量份硅氧烷基硬质涂布剂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“Solgard NP 730-0.2x”制造，固体含量25％质量}而获得，以便干燥之后的厚度变为1.5微米，和之后在130℃下干燥所得涂层5分钟，形成硬质涂布层，在所述硬质涂布层内，以每100.0质量份固化的硅烷化合物计，ATO的含量为54.0质量份。
随后，通过棒涂法，用涂料溶液涂布所得硬质涂布层，其中所述涂料溶液通过添加100.0质量份作为光催化剂的二氧化钛的分散体{由Dainippon Ink and Chemicals Co.，Ltd.以商品名“TitaniaBunsantai TD-04”制造，固体含量10％质量}到750.0质量份烷氧基硅烷溶液{由Colcoat Co.，Ltd.以生皮“Colcoat p”制造，固体含量2％质量}中而获得，以便干燥之后的厚度变为0.1微米，和之后在130℃下干燥所得涂层5分钟，形成光催化剂层。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例2重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是用丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“SolgardPrimer 85B-4H18”制造，固体含量18％质量，线性膨胀系数3.82×10-3(K-1)}替代丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“Solgard Primer 85B-2H18”制造}。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例3重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是在形成硬质涂布层的涂料溶液中锑掺杂的氧化锡(ATO)的共混量从50.0变为30.0质量份。结果，以每100质量份硬质涂布层内的固化硅烷化合物计，ATO的含量为32.4质量份。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例4重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是硬质涂布层的厚度从1.5变为1.3微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例5重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是硬质涂布层的厚度从1.5变为1.8微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例6重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是底漆层的厚度从4.0变为3.5微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。实施例7重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是底漆层的厚度从4.0变为6.0微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。对比例1重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是用丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“SolgardPrimer 85B-4HP18”制造，固体含量18％质量，线性膨胀系数0.56×10-3(K-1)}替代丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“Solgard Primer 85B-2H18”制造}。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。
对比例2重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是用丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“SolgardPrimer 85B-2B18”制造，固体含量18％质量，线性膨胀系数7.95×10-3(K-1)}替代丙烯酸树脂{由Nippon Dacro Shamrock Co.，Ltd.以商品名“Solgard Primer 85B-2H18”制造}。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。对比例3重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是在形成硬质涂布层的涂料溶液中锑掺杂的氧化锡(ATO)的共混量从50.0变为10.0质量份。结果，以每100.0质量份硬质涂布层内的固化硅烷化合物计，ATO的含量为10.8质量份。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。对比例4重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是在形成硬质涂布层的涂料溶液中锑掺杂的氧化锡(ATO)的共混量从50.0变为80.0质量份。结果，以每100.0质量份硬质涂布层内的固化硅烷化合物计，ATO的含量为86.4质量份。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。对比例5重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是硬质涂布层的厚度从1.5变为1.0微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。对比例6重复实施例1的工序，制备光催化剂硬质涂膜，所不同的是硬质涂布层的厚度从1.5变为2.0微米。
测量并评价如此获得的光催化剂硬质涂膜的各种性能。表1给出了结果。
在表1中，“对比例”代表“对比实施例”。表1-1 表1-权利要求
1.一种光催化剂硬质涂膜，包括基底、底漆层、硬质涂布层和光催化剂层，所述三层依次与基底的任一表面一起层压，其中底漆层的厚度为3.0-20.0微米，和当其温度从80℃升高到100℃时，线性膨胀系数为3.0×10-3到7.9×10-3(K-1)，和该硬质涂布层包括固化的硅烷化合物和，基于100质量份硅烷化合物，20-70质量份金属氧化物颗粒，且厚度为1.2-1.9微米。
2.权利要求1的光催化剂硬质涂膜，其中基底是由聚碳酸酯组成的膜。
3.权利要求1或2的光催化剂硬质涂膜，其中底漆层是由丙烯酸底漆形成的层。
4.权利要求1-3任何一项的光催化剂硬质涂膜，其中硬质涂布层是通过使用四烷氧基硅烷作为硅烷化合物和锑掺杂的氧化锡作为金属氧化物颗粒形成的层。
5.权利要求1-4任何一项的光催化剂硬质涂膜，其中光催化剂层是通过使用硅烷化合物作为粘合剂和二氧化钛作为光催化剂形成的层。
6.权利要求1-5任何一项的光催化剂硬质涂膜，其中在基底另一表面上安装压敏粘合层。
全文摘要
公开了一种光催化剂硬质涂膜，其包括基底、底漆层、硬质涂布层和光催化剂层，所述三层依次与基底的任一表面一起层压，其中底漆层的厚度为3.0－20.0微米，和当其温度从80℃升高到100℃时，线性膨胀系数为3.0×10
文档编号C09D183/06GK1840325SQ20061005921
公开日2006年10月4日 申请日期2006年3月15日 优先权日2005年3月29日
发明者田中敦裕, 菅谷忠义 申请人:琳得科株式会社