硅片切割设备附件循环清洗装置的制作方法

文档序号:11462843阅读:227来源:国知局
硅片切割设备附件循环清洗装置的制造方法

本实用新型涉及硅片切割技术领域,具体为一种硅片切割设备附件循环清洗装置。



背景技术:

现有的硅片切割工艺中,通常需要在硅片切割完成后对硅片设备的附件进行清洗,普遍采用的做法是:将附件放在自来水管下方直接冲洗。这种方法虽然简单方便,但冲洗用水量大,浪费水资源,而且附件上冲洗下来的砂浆直接从自来水下水排出,并不回收利用,浪费资源。



技术实现要素:

针对现有技术中的问题,本实用新型提供一种硅片切割设备附件循环清洗装置

为实现以上技术目的,本实用新型的技术方案是:一种硅片切割设备附件循环清洗装置,包括箱体、纵向隔板、网状隔板、清洗喷嘴和水泵,所述纵向隔板将箱体划分为清洗室和水泵室,所述网状隔板横向设置于清洗室内部上方且与清洗室内壁活动连接,所述网状隔板下方为贮液空间,所述清洗喷嘴设于网状隔板上方,所述水泵室内设有水泵,所述清洗喷嘴的进水口通过软管与水泵的出水口相连,所述水泵的进水口与贮液空间相连通。

从以上描述可以看出,本实用新型具备以下优点:

1.利用水泵将贮液池内的废水重新用于冲洗,循环利用,节约水资源;

2.网状隔板滤得的砂浆可重新投入工厂的砂浆在线回收系统进行利用,降低生产成本。

作为改进,所述箱体底部还设有滚轮;通过滚轮移动清洗装置,便于多场地应用。

作为改进,所述清洗室的外壁上设有用于观察贮液空间的观察窗;通过观察窗观察贮液空间内液体情况,确定是否继续循环利用。

作为改进,所述清洗室的外壁下部设有排液口;通过排液口将无法再重复利用的清洗液排放。

作为改进,所述网状隔板下方还设有漏斗形过滤网,所述漏斗形过滤网与清洗室内壁活动连接;二重过滤,提高贮液空间内液体的洁净度,增加循环利用次数,同时过滤网搜集的砂浆可以进入砂浆在线回收系统重新利用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型漏斗形过滤网的结构示意图;

附图标记:1.箱体、2.纵向隔板、3.网状隔板、4.清洗喷嘴、5.水泵、6.贮液空间、7.滚轮、8.观察窗、9.排液口、10.漏斗形过滤网。

具体实施方式

结合图1至图2,详细说明本实用新型的一个具体实施例,但不对本实用新型的权利要求做任何限定。

如图1所示,一种硅片切割设备附件清洗装置,包括箱体1、纵向隔板2、网状隔板3、清洗喷嘴4和水泵5,所述纵向隔板2将箱体1划分为清洗室和水泵室,所述网状隔板3横向设置于清洗室内部上方且与清洗室内壁活动连接,所述网状隔板3下方为贮液空间6,所述清洗喷嘴4设于网状隔板3上方,所述水泵室内设有水泵5,所述清洗喷嘴4的进水口通过软管与水泵5的出水口相连,所述水泵5的进水口与贮液空间6相连通。

本装置首次使用时,将待清洗附件放置在网状隔板3上,引入自来水管进行冲洗,冲洗产生的污水经网状隔板3过滤后进入贮液空间6,当贮液空间6内的过滤水液面达到一定高度时,断掉自来水管,开启水泵,水泵将贮液空间6内的过滤水泵入清洗喷嘴,重新用于冲洗,冲洗产生的污水经网状隔板3过滤后再次进入贮液空间,从而实现循环清洗的功能,同时网状隔板滤得的砂浆可重新投入工厂的砂浆在线回收系统进行利用,降低生产成本。

为了在不同场地应用,在箱体1底部增设滚轮7,利用滚轮7方便地移动清洗装置。

由于循环清洗一定次数后,贮液空间6内的水不再满足清洗要求,需要更换,因此在清洗室的外壁上增设用于观察贮液空间6的观察窗8和用于排出贮液空间6内过滤水的排液口9,利用观察窗8观察贮液空间6内过滤水情况,确定是否继续循环利用,如果需要停止循环使用则利用排液口9将贮液空间6内的过滤水排出。

由于经网状隔板3过滤后产生的过滤水中仍然含有可以回收利用的砂浆成分,故在网状隔板3下方增设漏斗形过滤网10(如图2所示),漏斗形过滤网10与清洗室内壁活动连接,漏斗形过滤网10对冲洗产生的过滤水进行二重过滤,不仅能够提高贮液空间内过滤水洁净度、增加过滤水循环利用次数,而且还能够搜集砂浆,当砂浆积存到一定量时,取下网状隔板3,再取出漏斗形过滤网10,将漏斗形过滤网10内的砂浆加入工厂的砂浆在线回收系统,进行重新利用。

综上所述,本实用新型具有以下优点:

1.利用网状隔板、清洗喷嘴和水泵实现清洗废水的循环利用,节约水资源;

2.网状隔板滤得的砂浆可重新投入工厂的砂浆在线回收系统进行利用,降低生产成本。

3.箱体底部安装有滚轮,移动方便快捷,便于不同场地应用;

4.设置观察窗和排液口,便于清洗循环过滤水的定时更换;

5.利用漏斗形过滤网实现二重过滤,提高过滤水洁净度,增加过滤水循环次数,同时再次搜集可回收利用的砂浆。

可以理解的是,以上关于本实用新型的具体描述,仅用于说明本实用新型而并非受限于本实用新型实施例所描述的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换,以达到相同的技术效果;只要满足使用需要,都在本实用新型的保护范围之内。

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