一种磁瓦用双重清洗装置的制作方法

文档序号:26041458发布日期:2021-07-27 13:52阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:包括底座(1),所述底座(1)上从左至右分别设置有第一清洗腔(2)、第二清洗腔(3)和烘干腔(4),且第一清洗腔(2)、第二清洗腔(3)和烘干腔(4)的左、右侧壁上均开设有腔门,所述底座(1)上设置有一贯穿第一清洗腔(2)、第二清洗腔(3)和烘干腔(4)的操作台(5),所述操作台(5)内设置有导轨(6),且导轨(6)内安装有螺纹杆(7),所述螺纹杆(7)与导轨(6)之间转动连接,且螺纹杆(7)上至少安装有一个传动块(8),所述传动块(8)的内壁上设置有与螺纹杆(7)外螺纹相适配的内螺纹,所述传动块(8)与导轨(6)之间滑动连接,所述传动块(8)的顶部伸出操作台(5)连接有放置磁瓦本体(20)的置物板(9);

所述第一清洗腔(2)的顶部中心位置安装有毛刷(10),且第一清洗腔(2)的顶部、位于毛刷(10)的左右位置、与毛刷(10)相间设置有多个喷头(11),所述第二清洗腔(3)的内部组成结构与第一清洗腔(2)相同,所述烘干腔(4)的四周内壁上均通过支撑杆(13)连接有烘干灯(14)。

2.根据权利要求1所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述置物板(9)上等间距设置有多个用于吸合磁瓦本体(20)的支撑磁铁件(16)。

3.根据权利要求2所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述支撑磁铁件(16)的底面上设置有滑块(17),所述置物板(9)的顶面内设置有与滑块(17)相适配实现滑动的滑槽(18)。

4.根据权利要求3所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述置物板(9)上设置有限制固定滑块(17)位置的限位销(19)。

5.根据权利要求1所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述第一清洗腔(2)的四周内壁上也均布有喷头(11)。

6.根据权利要求1所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述支撑杆(13)的外端设置有可水平和垂直方向调整烘干灯(14)角度的安装夹码(15)。

7.根据权利要求1所述的一种磁瓦用双重清洗装置,其特征在于:所述螺纹杆(7)的一端通过联轴器连接有转动用手轮(12)。


技术总结
本实用新型公开了一种磁瓦用双重清洗装置,包括底座,所述底座上从左至右分别设置有第一清洗腔、第二清洗腔和烘干腔,且第一清洗腔、第二清洗腔和烘干腔的左、右侧壁上均开设有腔门,所述底座上设置有一贯穿第一清洗腔、第二清洗腔和烘干腔的操作台,所述操作台内设置有导轨,且导轨内安装有螺纹杆,所述螺纹杆与导轨之间转动连接。该磁瓦用双重清洗装置设置有两道清洗装置,分别为第一清洗腔与第二清洗腔,通过喷头配合毛刷对磁瓦表面的浮尘进行两次刷洗、冲洗,能够更好、更快速的冲刷掉磁瓦表面的浮尘,加大磁瓦的清洁力度与,提高清洗质量;并且支撑磁铁件能够吸住磁瓦本体,防止磁瓦本体在冲刷清洗或者烘干过程中移位。

技术研发人员:沈忠武
受保护的技术使用者:镇江金港磁性元件有限公司
技术研发日:2020.11.02
技术公布日:2021.07.27
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