I族金属和第1B族金属接触以形成加氢催化剂。
[0149] 第三十三种实施方式，其为第三十二种实施方式所述的方法，其进一步包括使煅 烧的载体与含氯化合物接触以形成氯化的载体;使该氯化的载体与洗液接触以形成冲洗的 载体;使该冲洗的载体与第VIII族金属和第1B族金属接触以形成加氢催化剂。
[0150]第三十四种实施方式，其为第三十二种至第三十三种实施方式的任何一项所述的 方法，其中该无机材料包括高表面积氧化铝
[0151]第三十五种实施方式，其为第三十四种实施方式所述的方法，其中高表面积氧化 铝包括活性氧化铝、γ氧化铝、p氧化铝、勃姆石、假勃姆石、三羟铝石或其组合。
[0152]第三十六种实施方式，其为第三十四种实施方式所述的方法，其中高表面积氧化 错基本上由活性氧化错和/或γ氧化错组成。
[0153] 第三十七种实施方式，其为在富含烯烃的烃流中将高度不饱和烃选择性加氢至较 不饱和烃的方法，其包括在将高度不饱和烃转化至较不饱和烃的有效条件下，在存在氢和 催化剂组合物的情况下，将包括高度不饱和烃的烃流体流引入至反应器中，其中催化剂组 合物的至少50%包括根据第三十二种实施方式所述的方法生产的加氢催化剂。
[0154] 第三十八种实施方式，其为一种方法，包括制备基本上由α-氧化铝组成的多个低 曲率颗粒状载体，该α-氧化铝由高表面积氧化铝形成，其中低曲率成形载体具有从约 0.05%至约5%的磨损;绘制低曲率颗粒状载体的作为微分汞压入的对数函数的孔径;和识 别具有至少两个峰的低曲率颗粒状载体，每个峰具有最大值，其中第一个峰包括具有等于 或大于约200nm的第一个孔径最大值的孔，和其中孔径的第一个峰表示大于或等于低曲率 颗粒状载体的总孔容的约5%。
[0155] 第三十九种实施方式，其为第三十八种实施方式所述的方法，其进一步包括售卖 低曲率颗粒状载体用于制备选择性加氢催化剂。
[0156] 第四十种实施方式，其为包括第10族金属、第1B族金属和第三十八种实施方式所 述的至少一种识别的低曲率颗粒状载体的加氢催化剂。
[0157] 第四十一种实施方式，其为包装产品，其包括第三十八种实施方式所述的至少一 种识别的低曲率颗粒状载体和描述识别的低曲率颗粒状载体在制备具有降低的结垢速率 的加氢催化剂中的用途的书面材料。
[0158]尽管已经显示和描述了本发明的实施方式，但在不背离本发明精神和教导的情况 下本领域技术人员可对其进行修饰。本文描述的实施方式仅仅是示例性的，并且不旨在是 限制性的。本文公开的本发明的许多变型和修饰是可能的并且在本发明的范围内。在明确 表述了范围或界限的地方，这些表达范围或界限应理解为包括落在所明确表述的范围或界 限内的同样量级的迭代范围或界限(例如，从约1至约10包括2,3,4,等;大于0.10包括0.11， 0.12,0.13,等）。就权利要求的任何要素使用术语"任选地"旨在表示该主题要素是必需的， 或可选地不是必需的。两种选择旨在在权利要求的范围内。较宽术语的使用，比如包括、包 含、具有等，应理解为提供对较窄术语比如由......组成、基本上由......组成、基本上包 括等的支持。
[0159]所以，保护范围不受上述说明书的限制，而是仅仅受所附权利要求限制，其范围包 括权利要求主题的所有等同方案。将每个和所有权利要求作为本发明的实施方式并入说明 书。因此，权利要求是进一步描述并且是本发明实施方式的附加。本文引用的全部专利、专 利申请和出版物的公开内容通过引用并入，程度是它们为本文阐释的那些提供示例性、程 序性或其他的详细补充。
【主权项】
1. 一种组合物，其包括： 载体，其由高表面积氧化铝形成并且具有低曲率颗粒形状;和 至少一种催化活性金属， 其中所述载体具有孔、总孔容和孔径分布;其中所述孔径分布显示孔径的至少两个峰， 每个峰具有最大值;其中第一个峰具有等于或大于约200nm的孔径的第一个最大值，和第二 个峰具有小于约200nm的孔径的第二个最大值;并且其中大于或等于所述载体的总孔容的 约5 %包含在孔径的第一个峰内。2. 权利要求1所述的组合物，其中所述低曲率颗粒形状是球体。3. 权利要求1所述的组合物，其中所述低曲率颗粒形状是精制的挤出物。4. 任一前述权利要求所述的组合物，其中所述高表面积氧化铝包括活性氧化铝、γ氧 化铝、Ρ氧化铝、勃姆石、假勃姆石、三羟铝石或其组合。5. 权利要求1-3任一项所述的组合物，其中所述高表面积氧化铝基本上由活性氧化铝 和/或γ氧化铝组成。6. 任一前述权利要求所述的组合物，其中所述孔径的第一个峰的第一个最大值从约 200nm 至约 9000nm。7. 任一前述权利要求所述的组合物，其中大于或等于所述载体的总孔容的约10%包含 在孔径的第一个峰内。8. 任一前述权利要求所述的组合物，其中所述孔径的第一个峰的第一个最大值从约 400nm 至约 8000nm。9. 任一前述权利要求所述的组合物，其中大于或等于所述载体的总孔容的约15%包含 在孔径的第一个峰内。10. 任一前述权利要求所述的组合物，其具有从约lm2/g至约35m2/g的表面积。11. 任一前述权利要求所述的组合物，其具有从约0. lcc/g至约0.9cc/g的总孔容，通过 微分汞压入确定。12. 任一前述权利要求所述的组合物，其中在第一个峰的第一个最大值和第二个峰的 第二个最大值之间的距离至少约400nm。13. 任一前述权利要求所述的组合物，其中第一个峰是非高斯的，并且具有大于第二个 峰的半高峰宽度的半高峰宽度。14. 任一前述权利要求所述的组合物，其中所述载体具有从约llbf至约501bf的压碎强 度。15. 任一前述权利要求所述的组合物，其中所述载体具有从约0.05 %至约5 %的磨损。16. 权利要求2所述的组合物，其中所述球体具有从约1mm至约10mm的直径。17. 任一前述权利要求所述的组合物，其进一步包括卤化物。18. 任一前述权利要求所述的组合物，其进一步包括第10族金属。19. 任一前述权利要求所述的组合物，其进一步包括第1B族金属。20. 任一前述权利要求所述的组合物，其进一步包括氯化物。21. -种制备加氢催化剂的方法，其包括： 使包括高表面积氧化铝、成孔剂和水的混合物成形以形成成形载体，其中所述成形载 体包括低曲率颗粒形状； 干燥所述成形载体以形成干燥的载体； 煅烧所述干燥的载体以形成煅烧的载体； 使所述煅烧的载体与含氯化合物接触以形成氯化的载体； 降低所述氯化的载体中氯化物的量以形成清洁的载体;和 使所述清洁的载体与第10族金属和第1B族金属接触以形成加氢催化剂， 其中所述加氢催化剂的孔径分布显示孔径的至少两个峰，每个峰具有最大值，其中第 一个峰具有等于或大于约2〇〇nm的孔径的第一个最大值，和第二个峰具有小于约200nm的孔 径的第二个最大值。22. 权利要求21所述的方法，其中所述煅烧的载体、所述氯化的载体、所述清洁的载体 或所述加氢催化剂具有从约lm2/g至约35m 2/g的表面积。23. 权利要求21或22所述的方法，其中所述煅烧的载体、所述氯化的载体、所述清洁的 载体或所述加氢催化剂具有从约〇. lcc/g至约0.9cc/g的总孔容，通过压萊法确定。24. 权利要求21、22或23所述的方法，其中所述成形载体是球体或精制的挤出物。25. 权利要求24所述的方法，其中所述球体具有从约1mm至约10mm的直径。26. 权利要求21至25任一项所述的方法，其中所述煅烧的载体、所述氯化的载体、所述 清洁的载体或所述加氢催化剂具有从约llbf至约501bf的压碎强度。27. 权利要求21至26任一项所述的方法，其中所述煅烧的载体、所述氯化的载体、所述 清洁的载体或所述加氢催化剂具有从约0.05%至约5%的磨损。28. 权利要求21至27任一项所述的方法，其中大于或等于加氢催化剂的总孔容的约5% 包含在孔径的第一个峰内。29. 权利要求21至28任一项所述的方法，其中所述高表面积氧化铝包括活性氧化铝、γ 氧化铝、Ρ氧化铝、勃姆石、假勃姆石、三羟铝石或其组合。30. 权利要求21至29任一项所述的方法，其中所述高表面积氧化铝基本上由活性氧化 错和/或γ氧化错组成。31. -种由高表面积氧化铝形成的低曲率颗粒形状载体，其中所述低曲率颗粒形状载 体的孔径分布显示孔径的至少两个峰，每个峰具有最大值;其中第一个峰具有等于或大于 约200nm的孔径的第一个最大值，和第二个峰具有小于约200nm的孔径的第二个最大值;其 中大于或等于低曲率颗粒形状载体的总孔容的约15%包含在孔径的第一个峰内；并且其中 所述低曲率颗粒形状载体是球体或精制的挤出物并且具有从约0.05%至约5%的磨损。32. -种制备加氢催化剂的方法，其包括： 选择具有孔径的多峰分布的无机材料，其中孔径的至少一种分布包括具有等于或大于 约200nm的直径的孔； 使包括所述无机材料和水的混合物成形以形成成形载体，其中所述成形载体具有低曲 率颗粒形状和从约〇. 05 %至约5 %的磨损； 干燥所述成形载体以形成干燥的载体； 煅烧所述干燥的载体以形成煅烧的载体;和 使所述煅烧的载体与第VIII族金属和第1B族金属接触以形成加氢催化剂。33. 权利要求32所述的方法，其进一步包括使所述煅烧的载体与含氯化合物接触以形 成氯化的载体;使氯化的载体与洗液接触以形成冲洗的载体;使冲洗的载体与第VIII族金 属和第1B族金属接触以形成加氢催化剂。34. 权利要求32或33所述的方法，其中所述无机材料包括高表面积氧化铝。35. 权利要求34所述的方法，其中所述高表面积氧化铝包括活性氧化铝、γ氧化铝、P氧 化铝、勃姆石、假勃姆石、三羟铝石或其组合。36. 权利要求35所述的方法，其中所述高表面积氧化铝基本上由活性氧化铝和/或γ氧 化铝组成。37. -种在富含烯烃的烃流中将高度不饱和烃选择性加氢为较不饱和烃的方法，其包 括在将高度不饱和烃转化为较不饱和烃的有效条件下，在存在氢和催化剂组合物的情况 下，将包括高度不饱和烃的烃流体流引入至反应器中， 其中所述催化剂组合物的至少50%包括根据权利要求32生产的加氢催化剂。38. -种方法，其包括： 制备多个低曲率颗粒状载体，其基本上由氧化铝组成，所述氧化铝由高表面积氧 化铝形成，其中所述低曲率状载体具有从约0.05%至约5%的磨损； 绘制所述低曲率颗粒状载体的作为微分汞压入的对数函数的孔径;和 识别具有至少两个峰的所述低曲率颗粒状载体，每个峰具有最大值，其中第一个峰包 括具有等于或大于约200nm的第一个孔径最大值的孔，并且其中所述孔径的第一个峰表示 大于或等于所述低曲率颗粒状载体的总孔容的约5%。39. 权利要求38所述的方法，其进一步包括售卖所述低曲率颗粒状载体用于制备选择 性加氢催化剂。40. -种加氢催化剂，其包括第10族金属、第1B族金属和权利要求38所述的至少一种识 别的低曲率颗粒状载体。41. 一种包装产品，其包括权利要求38所述的至少一种识别的低曲率颗粒状载体和描 述识别的低曲率颗粒状载体在制备具有降低的结垢速率的加氢催化剂中的用途的书面材 料。
【专利摘要】一种组合物，其包括由高表面积氧化铝形成并且具有低曲率颗粒形状的载体；和至少一种催化活性金属，其中所述载体具有孔、总孔容和孔径分布；其中所述孔径分布显示孔径的至少两个峰，每个峰具有最大值；其中第一个峰具有等于或大于约200nm的孔径的第一个最大值，和第二个峰具有小于约200nm的孔径的第二个最大值；并且其中大于或等于所述载体的总孔容的约5％包含在孔径的第一个峰内。
【IPC分类】B01J37/00, B01J35/00, B01J37/06, C07C29/50, B01J21/04, B01J23/50, B01J23/58, B01J35/02, B01J23/44, B01J35/10, B01J27/13, B01J37/02
【公开号】CN105555404
【申请号】CN201380079219
【发明人】T-T·P·张, J·贝格曼斯特三世, S·L·凯利, M·J·布林, J·C·德拉马塔, D·R·穆尼
【申请人】切弗朗菲利浦化学公司, 巴斯夫公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2013年9月6日
【公告号】CA2922259A1, EP3041608A1, WO2015034521A1