1.一种光谱检测基板，其特征在于，包括形成于一基底上的至少一个光谱检测单元，所述光谱检测单元包括：
一用于使光波沿特定方向传播的波导，所述波导形成于所述基底的表面上；
一用于使特定波长的光波与所述波导耦合的选模耦合器，所述选模耦合器位于所述波导的输入端；
一用于感应从所述波导中输出的光波强度的感应器，所述感应器与所述波导的输出端相对设置。
2.如权利要求1所述的光谱检测基板，其特征在于，所述波导为条形波导。
3.如权利要求2所述的光谱检测基板，其特征在于，所述波导包括一形成于所述基底上的介质膜，所述介质膜限制所述光波的传播方向。
4.如权利要求3所述的光谱检测基板，其特征在于，所述介质膜的折射率大于所述基底的折射率。
5.如权利要求4所述的光谱检测基板，其特征在于，所述介质膜为磷化铟介质膜、锑化镓介质膜、砷化镓介质膜、磷砷化镓铟介质膜、铟砷化镓介质膜或硅掺杂氮化镓介质膜中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的光谱检测基板，其特征在于，所述基底为硅基底。
7.如权利要求1所述的光谱检测基板，其特征在于，所述选模耦合器为分布反馈激光器。
8.如权利要求7所述的光谱检测基板，其特征在于，所述分布反馈激光器包括形成于所述波导的输入端上的布喇格光栅。
9.如权利要求1所述的光谱检测基板，其特征在于，还包括一用于改变光波的输出方向的输出耦合器，所述输出耦合器形成于所述波导的输出端并与所述感应器相对设置。
10.如权利要求9所述的光谱检测基板，其特征在于，所述输出耦合器为八木天线。
11.如权利要求10所述的光谱检测基板，其特征在于，所述八木天线包括：一激励振子、一位于所述激励振子一侧的反射振子以及一位于所述激励振子另一侧的引向振子，所述激励振子、反射振子以及引向振子均形成于所述波导的上方。
12.如权利要求11所述的光谱检测基板，其特征在于，所述反射振子、所述激励振子以及所述引向振子沿着所述波导的延伸方向排列。
13.如权利要求11所述的光谱检测基板，其特征在于，所述反射振子和所述引向振子均为条状结构。
14.如权利要求11所述的光谱检测基板，其特征在于，所述激励振子包括一形成于波导上的金属层以及一横跨所述金属层的介质层。
15.如权利要求14所述的光谱检测基板，其特征在于，所述金属层为条状结构，其长度方向与所述波导的延伸方向平行，所述介质层于所述金属层的短边方向横跨所述金属层并延伸出，延伸出的介质层与所述波导接触。
16.如权利要求14所述的光谱检测基板，其特征在于，所述反射振子、引向振子和所述激励振子中的介质层的材料均为磷化铟、锑化镓、砷化镓、磷砷化镓铟、铟砷化镓或硅掺杂氮化镓中的一种或多种。
17.如权利要求14所述的光谱检测基板，其特征在于，所述金属层的材料为金。
18.如权利要求1所述的光谱检测基板，其特征在于，所述光谱检测基板还包括一用于保护所述感应器和耦合输出器的保护层，所述保护层覆盖于所述感应器和所述耦合输出器上。
19.如权利要求18所述的光谱检测基板，其特征在于，所述保护层的材料为蓝宝石。