触控显示装置及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器件领域，特别涉及一种触控显示装置及其制备方法。
【背景技术】
[0002]触控屏是电子装置比如触控屏手机、平板电脑、电子书等电子装置的重要组成部分。传统的触控屏一般包括显示模组及触控模组，触控模组通常包括两层层叠的ΙΤ0玻璃，两层ΙΤ0玻璃通过光学胶粘合在一起。
[0003]然而，随着人们对电子产品轻薄化的追求，目前触控屏至少包括两层ΙΤ0玻璃及用来粘合的光学胶，厚度较厚，限制了触控屏的发展。
【发明内容】
[0004]基于此，有必要提供一种厚度较薄的触控显示装置及其制备方法。
[0005]—种触控显示装置，其特征在于，包括薄膜晶体管基板、液晶层、彩色滤光片基板、触控感应层及高阻层，所述触控感应层形成于所述薄膜晶体管基板表面，所述液晶层形成于所述彩色滤光片基板朝向所述薄膜晶体管基板的表面，所述高阻层形成于所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面，所述触控感应层与所述高阻层电连接，所述高阻层的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物。
[0006]在其中一个实施方式中，所述触控感应层形成于所述薄膜晶体管基板朝向所述彩色滤光片基板的表面。
[0007]在其中一个实施方式中，所述高阻层的材料为质量比为60?70:100的氧化石墨与氧化锡的混合物。
[0008]在其中一个实施方式中，所述高阻层的厚度为12nm?25nm。
[0009]在其中一个实施方式中，所述触控感应层的材料为ΙΤ0。
[0010]一种上述触控显示装置的制备方法，，包括如下步骤:
[0011]提供薄膜晶体管基板，在所述薄膜晶体管基板表面形成触控感应层；
[0012]提供彩色滤光片基板，在所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面形成高阻层，所述高阻层的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物；
[0013]在所述彩色滤光片基板朝向所述薄膜晶体管基板的表面形成液晶层，以及
[0014]将所述触控感应层与所述高阻层电连接，得到触控显示装置。
[0015]在其中一个实施方式中，在所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面形成高阻层的操作为:通过真空磁控溅射的方式将靶材溅射至所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面，所述靶材为氧化石墨和氧化锡的混合物，镀膜室的真空度为
2.5X10 'Pa?3.5X 10 2Pa，所述彩色滤光片基板的表面温度为80°C?100°C，所述彩色滤光片基板的加热时间为1390s?1410s，混合气体流量为1265sccm2?1419sccm2，电压380V?480V，无氧电压680V?760V，过氧电压300V?330V，功率为6300W?7500W，靶溅距为40mm。
[0016]在其中一个实施方式中，所述混合气体为氧气和氩气的混合气体，其中，所述氧气流量为35sccm2?39sccm 2，所述氩气流量为1230sccm2?1380sccm2。
[0017]在其中一个实施方式中，所述靶材为质量比为60?70:100的氧化石墨与氧化锡的混合物。
[0018]在其中一个实施方式中，在所述彩色滤光片基板远离所述薄膜晶体管基板的表面形成高阻层之前，包括将所述彩色滤光片基板依次进行清洗处理、干燥处理及静电消散处理，所述清洗处理的操作包括依次进行纯水清洗、碱液清洗、二流体喷淋清洗、超纯水喷淋清洗及高压喷淋清洗，所述干燥处理包括依次进行冷风干燥和热风干燥。
[0019]上述触控显示装置，通过在薄膜晶体管基板表面形成触控感应层，并在薄膜晶体管的彩色滤光片基板表面形成高阻层，高阻层与触控感应层电连接形成触控模组。由于高阻层直接形成在彩色滤光片基板表面，无需再使用一层玻璃承载高阻层，相比传统的触控显示装置，减少了一层ΙΤ0玻璃及用来粘合的光学胶，从而上述触控显示装置较薄。另外，高阻层的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物，可以起到消除静电的作用，提高触控的灵敏度。
【附图说明】
[0020]图1为一实施方式的触控显示装置的结构示意图；
[0021]图2为一实施方式的触控显示装置的制备方法的流程图。
【具体实施方式】
[0022]下面主要结合具体附图及具体实施例对触控显示装置及其制备方法作进一步详细的说明。
[0023]请参阅图1，一实施方式的触控显示装置100，包括薄膜晶体管基板10、液晶层20、彩色滤光片基板30、触控感应层40及高阻层50。
[0024]液晶层20位于薄膜晶体管(TFT)基板10与彩色滤光片基板30之间，液晶层20形成于彩色滤光片基板30朝向薄膜晶体管基板10的表面。触控感应层40形成于薄膜晶体管基板10表面，高阻层50形成于所述彩色滤光片基板30远离薄膜晶体管基板10的表面，触控感应层40与高阻层50电连接。具体的，触控感应层40与高阻层50电连接可通过引线连接。
[0025]薄膜晶体管基板10、彩色滤光片基板30及液晶层20组成显示模组，触控感应层40与高阻层50电连接组成触控模组。
[0026]具体的，触控感应层40可以形成于薄膜晶体管基板10朝向彩色滤光片基板30的表面，也可以形成于薄膜晶体管基板10远离彩色滤光片基板30的表面。
[0027]具体在本实施方式中，触控感应层40形成于薄膜晶体管基板10朝向彩色滤光片基板30的表面，液晶层20形成于彩色滤光片基板30朝向薄膜晶体管基板10的表面，高阻层50形成于彩色滤光片基板30远离薄膜晶体管基板10的表面。触控感应层40可嵌入到与液晶层20中，使得触摸面板功能嵌入到液晶像素中，在显示屏内部嵌入触摸传感器功能，构成In-Cell类型的触控显示装置，使得屏幕更加轻薄。
[0028]当然，触控显示装置100还包括电极、偏光片、盖板等其他元件，在此不做赘述。
[0029]具体的，尚阻层50的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物。
[0030]氧化石墨(Graphite oxide，GO)是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能。氧化锡(Sn02)为一种活性氧化物，具有半导体特性。氧化石墨与氧化锡混合可得到性能优异的复合材料。氧化锡可改变氧化石墨的表面性质，氧化石墨高孔隙率、大表面积的特点又可提升氧化锡的分散性，二者的协同作用导致氧化石墨和氧化锡的混合物具有优良的吸附性能和电学特性。
[0031]优选的，高阻层的材料为质量比为60?70:100的氧化石墨与氧化锡的混合物。
[0032]具体在本实施方式中，氧化石墨与氧化锡的质量比为40.4:59.6。
[0033]优选的，高阻层50的厚度为12nm?25nm。
[0034]优选的，高阻层50的透光率多96%，此处透光率指的是彩色滤光片基板30表面形成高阻层50后与形成高阻层50前的透光率的比值。
[0035]优选的，高阻层50 的色差 L = 39.3，a = -1.8，b = -4.8，Λ E 彡 0.5。
[0036]优选的，触控感应层40的材料为ΙΤ0，当然，触控感应层40的材料不限于为ΙΤ0，也可以为其他导电材料如ΑΖ0等。
[0037]上述触控显示装置，通过在薄膜晶体管基板表面形成触控感应层，并在薄膜晶体管的彩色滤光片基板表面形成高阻层，高阻层与触控感应层电连接形成触控模组。由于高阻层直接形成在彩色滤光片基板表面，无需再使用一层玻璃承载高阻层。高阻层的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物，具有优良的吸附性能，无需使用光学胶粘合，相比传统的触控显示装置，减少了一层ΙΤ0玻璃及用来粘合的光学胶，从而上述触控显示装置较薄、透光性较好。另外，氧化石墨和氧化锡的混合物，可以起到消除静电的作用，提高触控的灵敏度。
[0038]如图2所示的上述触控显示装置的制备方法，包括如下步骤:
[0039]S10、提供薄膜晶体管基板，在薄膜晶体管基板表面形成触控感应层。
[0040]触控感应层40的材料为ΙΤ0，当然，触控感应层40的材料不限于为ΙΤ0，也可以为其他导电材料如ΑΖ0等。
[0041]具体的，可通过丝印法或真空磁控溅射的方式在薄膜晶体管基板表面镀膜，并采用化学蚀刻法进行图形制备，得到触控感应层。
[0042]具体在本实施方式中，在薄膜晶体管基板朝向彩色滤光片基板的表面形成触控感应层。
[0043]S20、提供彩色滤光片基板，在彩色滤光片基板远离薄膜晶体管基板的表面形成高阻层，高阻层的材料为氧化石墨和氧化锡的混合物。
[0044]具体的，可通过真空磁控溅射的方式将靶材溅射至彩色滤光片基板远离薄膜晶体管基板的表面，形成高阻层，靶材为氧化石墨和氧化锡的混合物。
[0045]优选的靶材为质量比为60?70:100的氧化石墨与氧化锡的混合物
[0046]具体在本实施方式中，氧化石墨与氧化锡的质量比为40.4:59.6。
[0047]具体的真空磁控溅射的工艺条件为:镀膜室的真空度为2.5X 10 'Pa?
3.5 X 10 2 P a，彩色滤光片基板的表面温度为8 0 °C?10 0 °C，彩色滤光片基板的加热时间为1390s?1410s，混合气体流量为1265sccm2?1419sccm2，电压380V?480V，无氧电压680V?760V，过氧电压300V?330V，功率为6300W?7500W，靶溅距为40mm。
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