专利名称：液晶显示装置的再生方法
技术领域：
本发明涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于，从在玻璃基板的表面上顺次形成从黑底膜、滤色器膜、保护膜、ITO膜、聚酰亚胺膜、金属膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封剂膜中选取的至少一个以上的该玻璃基板选择性地去除一个或多个膜。
背景技术：
液晶显示装置具有配置有透明电极、偏光板等的两片以上的玻璃板，液晶物质夹持在该玻璃板间。于是通过向该透明电极给予电荷，该液晶物质的方向发生变化，透过光的偏光方向也发生改变，因此用偏光板可以控制光的透过/不透过。于是通过将这种控制运用到细分的领域中，可以显示文字或图象。进而，液晶显示装置具有用于对电荷进行控制的薄膜晶体管(TFT)、用于对文字或图象进行着色的滤色器等。
图12为表示液晶显示装置一例构造的断面图。
在该例中，位于光入射一侧的玻璃基板11和位于光射出一侧的玻璃基板1相向配置。
在玻璃基板1的一面形成有栅格状或带状的黑底膜(以下称为BM膜)2，在该BM膜2的栅格或带上形成具有红(R)、绿(G)、蓝(B)各种颜色的滤色膜(以下称为CF膜)3。由透明树脂构成的保护膜(以下称为OC膜)4形成于CF膜3上。BM膜2通常由金属及/或金属氧化物或合成树脂构成，CF膜3由例如丙烯酸共聚物系彩色树脂构成。作为透明电极的ITO膜(铟锡氧化物)5及作为使液晶分子群按一定方向配列的取向膜的聚酰亚胺膜(以下称为PI膜)6顺次形成于该OC膜4的表面上。偏光膜7形成于玻璃基板1的另一侧。在以下本申请说明书中，将如该玻璃基板1那样，顺次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及PI膜6的一个或多个的玻璃基板称为滤色器侧玻璃基板。
TFT(薄膜晶体管)元件12以规定间隔形成于玻璃基板11的一面上。ITO膜15及PI膜16顺次形成于TFT元件12的表面上。作为该TFT元件12，多采用反交错a-SiTFT，反交错a-SiTFT有通道保护型和通道边缘型两种。
偏光膜17形成于玻璃基板11的另一面上。
在以下本申请说明书中，将如该玻璃基板11那样，顺次形成有TFT元件12、ITO膜15及PI膜16的一个或多个的玻璃基板称为TFT侧玻璃基板。
液晶8被封入PI膜6和16间，为了调整及维持该PI膜6和16间的间隔，在PI膜6和16间配置有调距板9。
在液晶显示装置中，通常从该玻璃基板11的、液晶8一侧的对侧照射背照光，在该状态下，通过在ITO膜5和15间外加对应于图象的电压，使液晶8的排列发生变化，控制光的透过/不透过，从而使画像得以显示。
上述滤色器侧玻璃基板及TFT侧玻璃基板，只有满足规定品质基准的，才能用于液晶显示装置。该品质基准高，无法满足品质基准，则不能用于液晶显示装置，大量产生被废弃处理的基板。因此，从该被废弃处理的基板，将玻璃基板上形成的各种膜等的全部或只是不满足品质基准的一部分去除，使玻璃基板再生，将该再生的基板再次用于滤色器侧玻璃基板及TFT侧玻璃基板等的制造中。
此外，对于TFT侧玻璃基板，为了制造装置的维修等而使制造停止后，在再次开始连续制造前，首先进行使用成膜条件设定用玻璃基板(以下称为虚设基板(dummy基板))的制造，对制造装置的各设定条件进行确认。作为该虚设基板，所使用的是在玻璃基板的整个面上形成由金属膜及合金膜(Ta、Mo、W、Ti、Cr、Al等及它们的合金)、氧化膜(SiOx、Ta2O5、Al2O3、ITO)、氮化膜(SiNx)等构成的单层膜或多层膜、PI膜等，并沿线路涂覆密封剂的虚设基板。通常，该虚设基板不能成为制品，常常是以同样的目的，在使用一回或多回后被废弃。因此，从该废弃的虚设基板去除所形成的各种膜等的全部或一部分，从而使玻璃基板再生。
以往为了从玻璃基板上去除各种膜等，需要使用剥离液。例如，当从形成由Cr制的BM膜、CF膜及ITO膜这三个膜的滤色器侧玻璃基板上，将这些膜的全部或一部分去除时，需将该滤色器侧玻璃基板浸渍于装有以下表1所示的剥离液的贮存槽中。
表1
但是，当采用该方法去除各种膜时，产生例如下述的问题。
(1)当只有ITO膜不满足品质时，不能在不损伤CF膜的情况下只去除ITO膜。
(2)当同时去除CF膜和ITO膜时，不能使BM膜及玻璃基板的浸蚀量减少，例如不能使一次处理中玻璃基板的浸蚀量达到5nm(50)以下。
除了上述3个膜外，对于形成有OC膜及PI膜的滤色器侧玻璃基板，也要求将不满足品质基准的一部分膜或全部膜去除，从而使玻璃基板再生，但尚未找到在不损伤应残存的膜、玻璃基板的情况下能使玻璃基板再生的剥离液。
此外，在TFT侧玻璃基板及虚设基板中，一般是通过将它们浸渍于装有剥离液的贮存槽中，去除TFT元件、规定膜或密封剂，但当使用已知的剥离液时，与滤色器侧玻璃基板的情况相同，存在着对应残存的薄膜造成损伤、玻璃基板被浸蚀等问题。
发明内容
针对上述情况，本发明的目的在于，提供一种通过使用规定的剥离液，能够只将不满足品质基准的一个或多个膜选择性地去除，不产生损伤应残存膜及玻璃基板被浸蚀等问题的液晶显示用滤色器侧玻璃基板、TFT侧玻璃基板及虚设基板等玻璃基板的再生方法。
更具体说，本发明涉及一种玻璃基板的再生方法，其目的在于提供下述(1)～(7)等。
(1)一种滤色器侧玻璃基板及TFT侧玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表侧的PI膜的下面形成有ITO膜时，通过使用含有中性有机溶剂或中性有机溶剂及多元醇类及/或水的溶液，能够在不损伤ITO膜以下膜的情况下，只将PI膜去除。
(2)一种滤色器侧玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表侧的ITO膜的下面形成有OC膜及/或CF膜时，通过使用含有卤素系无机酸或有机酸、或它们与多元醇类的水溶液，能够在不损伤OC膜以下膜的情况下，只将ITO膜去除。
(3)一种滤色器侧玻璃基板的再生方法，其中，在位于玻璃基板表侧的OC膜的下面形成有CF膜及BM膜时，通过使用含有无机酸的水溶液、有机或无机的碱性水溶液，能够在不损伤BM膜及玻璃基板的情况下，将OC膜及CF膜去除。
(4)一种滤色器侧玻璃基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有金属及/或金属化合物制的BM膜时，通过使用含有无机酸、有机酸或硝酸铈铵的水溶液，能够在玻璃基板不被浸蚀的情况下将BM膜去除。
(5)一种TFT侧玻璃基板的再生方法，其中，在形成有ITO膜和TFT元件时，通过使用含有无机酸、有机酸或硝酸铈铵的水溶液，能够将形成的全部膜去除。
(6)一种在玻璃基板不被浸蚀的情况下，能够将全部膜去除的虚设基板的再生方法，其特征在于在玻璃基板上形成有PI膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一个或多个时，将玻璃基板浸渍于含有中性有机溶剂、或中性有机溶剂及多元醇类及/或水的溶液中，将PI膜去除，将玻璃基板浸渍于含有卤素系无机酸或有机酸、或它们与多元醇类的水溶液中，将ITO膜去除，将玻璃基板浸渍于含有无机酸、有机酸、或硝酸铈铵的水溶液中，将PI膜及ITO膜以外的膜去除。
(7)一种虚设基板的再生方法，其中，在玻璃基板上形成有密封剂膜时，通过使用含有无机酸或有机酸的水溶液，能够在玻璃基板不被浸蚀的情况下，只将密封剂去除。
本发明的第一点在于提供了一种玻璃基板的再生方法，其特征在于从顺次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的一个或多个的玻璃基板的膜形成侧的外层侧，使用规定的剥离液，选择性地将该膜的一个或多个去除。在这里，由于BM膜用于在各色的滤色器间遮光，因此通常形成栅格状或带状，但并不限于此。CF膜由R、B、G各色的滤光器构成，形成于玻璃基板上，显示规定的颜色，为了确保各色滤色器间的遮光，优选如图12所示，搭架形成于BM膜上。OC膜被设计用来覆盖该CF膜的表面，ITO膜被设计成透明电极，PI膜被设计成用于使液晶取向的取向膜。本发明第一点所涉及的玻璃基板，通常用作液晶显示装置用的滤色器侧玻璃基板。作为本发明第一点所涉及的玻璃基板，可以只形成有从BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜中选取的一个膜，也可以依次形成有多个膜。此外，也可以依次形成有BM膜、CF膜、OC膜、ITO膜及PI膜的全部。
在本发明的第一点中，从如上所述形成的膜的外层侧的膜，一个或多个膜被选择性地去除。其结果是，能够只将不满足品质基准的一个或多个膜去除，在残留有满足品质基准的膜的状态下，使玻璃基板再生，因此能够有效地使其再次利用于液晶显示装置的玻璃基板的制造等。
本发明第二点涉及该玻璃基板的再生方法，其特征在于将形成有PI膜及ITO膜的玻璃基板(其中PI膜为外层侧)，浸渍于含有从碳数为4～10的环状酯及碳数为3～10的羟基取代的脂肪醚中选取的至少一种的有机溶剂，或含有该有机溶剂及多元醇及/或水的溶剂中，选择性地将该PI膜去除。根据本发明第二点所涉及的再生方法，在不对ITO膜产生造成电阻值变化的损伤及污染的情况下，可以选择性地只去除PI膜。作为本发明第二点所适用的玻璃基板，其实例举出液晶显示装置用的滤色器侧玻璃基板及TFT侧玻璃基板，如果外层侧为PI膜，可以具有PI膜、ITO膜以外的膜或元件等。
碳数为4～10的环状酯及碳数为3～10的羟基取代的脂肪醚为中性有机溶剂，具体实例包括γ-丁内酯、甲基溶纤剂等。作为浸渍玻璃基板的溶剂，优选γ-丁内酯、甲基溶纤剂及它们的混合溶剂，特别优选含有50重量％以上γ-丁内酯的溶剂。
本发明的第三点涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于将形成有ITO膜及OC膜及/或CF膜的玻璃基板(其中ITO膜为外层侧)，浸渍于(1)含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸及氯磺酸中选取的一种以上的卤素系无机酸的水溶液、(2)含有从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种以上的有机酸的水溶液、或(3)含有该卤素系无机酸或该有机酸、及多元醇类的水溶液中，将该ITO膜选择性去除。
根据本发明第三点所涉及的再生方法，能够在不对CF膜造成透光率及色度变化等损害的情况下，选择性地只将ITO膜去除。作为本发明第三点所适用的玻璃基板，其具体实例为液晶显示装置用滤色器侧玻璃基板，如果外层侧为ITO膜，其可以具有CF膜、ITO膜、OC膜以外的膜。
本发明的第四点涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于将形成有OC膜、CF膜以及BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金属及/或金属氧化物，OC膜为外层侧)，浸渍于(1)含有从盐酸、硝酸、硫酸及磷酸中选取的一种以上的无机酸水溶液、或(2)含有从N一甲基-2-吡咯烷酮、氢氧化四甲基铵、氢氧化钾、氢氧化钠及肼中选取的一种以上的碱性水溶液中，将该BM膜以外的膜，例如OC膜、CF膜去除。
根据本发明第四点所涉及的再生方法，在不损伤该BM膜及玻璃基板的情况下，能够去除OC膜、CF膜等其他膜。作为本发明第四点所适用的玻璃基板，其实例举出液晶显示装置用滤色器侧玻璃基板。
本发明的第五点涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于将只形成有BM膜的玻璃基板(其中BM膜含有金属及/或金属氧化物)，浸渍于(1)含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液、或(2)含有硝酸铈铵液的水溶液中，将该BM膜去除。
根据本发明第五点所涉及的再生方法，能够在玻璃基板不被浸蚀的情况下，只将BM膜去除。作为本发明第五点所适用的玻璃基板，其实例举出液晶显示装置用滤色器侧玻璃基板。
本发明第六点提供了一种玻璃基板的再生方法，其特征在于从顺次形成有TFT元件、ITO膜及PI膜的一个或多个的玻璃基板的膜及元件形成侧的外层侧，用规定的剥离液，选择性地将该膜或元件的一个或多个去除。在这里，TFT元件可以为通常用于液晶显示装置等的薄膜晶体管，ITO膜及PI膜分别与上述本发明第一点中的ITO膜及PI膜相同。
本发明第六点所涉及的玻璃基板，其通常用作液晶显示装置用TFT侧玻璃基板。
在本发明的第六点中，从上述形成的膜的外层侧，选择性地去除一个或多个膜。其结果是，能够只将不满足品质基准的一个或多个膜去除，在残留有满足品质基准的膜或元件的状态下，使玻璃基板再生，因此可以有效地再次利用于液晶显示装置用玻璃基板的制造等。
本发明第七点涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于将形成有ITO膜及TFT元件的玻璃基板(其中ITO膜为外层侧)，或形成有ITO膜、TFT元件和从金属膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中选取的一种以上的玻璃基板(其中ITO膜为外层侧)，浸渍于(1)含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，或(2)含有硝酸铈铵的水溶液中。
根据本发明第七点所涉及的再生方法，能够在玻璃基板不被浸蚀的情况下，将上述的全部膜去除。作为本发明第七点所适用的玻璃基板，其实例举出液晶显示装置用TFT侧玻璃基板。
本发明的第八点提供了一种玻璃基板的再生方法，其特征在于从顺次形成有PI膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封剂膜中的一个或多个的玻璃基板的膜形成侧的外层侧，用规定的剥离液，选择性地将该膜的一个或多个去除。在这里，ITO膜及PI膜分别与上述本发明第一点中的ITO膜及PI膜相同。
本发明第八点所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶显示装置制造用的虚设基板。
在本发明第八点中，从上述形成的膜的外层侧，将一个或多个膜选择性地去除。其结果是，能够只将不满足品质基准的一个或多个膜去除，在残留有满足品质基准的膜的状态下，能够使虚设基板再生，因此可以有效地再次利用虚设基板。
本发明第九点涉及一种玻璃基板的再生方法，其为形成有PI膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中的一个或多个的玻璃基板的再生方法，其特征在于包括(1)工序、(2)工序和(3)工序的至少一个工序(1)通过将该玻璃基板浸渍于含有从碳数为4～10的环状酯及碳数为3～10的羟基取代的脂肪醚中选取的至少一种的有机溶剂、或含有该有机溶剂及多元醇及/或水的溶剂中，去除PI膜；(2)通过将该玻璃基板浸渍于含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸及氯磺酸中选取的一种以上的卤素系无机酸的水溶液、含有选自草酸、乙酸和甲酸的一种以上的有机酸的水溶液或含有该卤素系无机酸或该有机酸、及多元醇类的水溶液中，将ITO膜去除；及(3)将该玻璃基板浸渍于含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，或含有硝酸铈铵液的水溶液中，将PI膜及ITO膜以外的膜去除。
本发明第九点所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶显示装置制造用的虚设基板。
在本发明第九点中，在玻璃基板不被浸蚀的情况下，可以将不满足品质基准的全部膜去除。
本发明第十点涉及一种玻璃基板的再生方法，其特征在于将只形成有密封剂的玻璃基板浸渍于含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液中，将该密封剂去除。
本发明第十点所涉及的玻璃基板，其通常被用作液晶显示装置制造用的虚设基板。
在本发明第十点中，在玻璃基板不被浸蚀的情况下，可以只将密封剂去除。
图1为表示本发明实施例1中的再生处理前的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图2为表示本发明实施例1中的再生处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图3为表示本发明实施例2中的再生处理前的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图4为表示本发明实施例2中的再生处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图5为表示本发明实施例3中的再生处理前的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图6为表示本发明实施例3中的再生处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图。
图7为表示BM膜的厚度与处理次数关系的图。
图8为表示BM膜的OD值与处理次数关系的图。
图9为表示本发明实施例4中的再生处理前的TFT侧玻璃基板的断面图。
图10为表示本发明实施例5中的虚设基板的断面图。
图11为表示本发明实施例6中的虚设基板的断面图。
图12为表示液晶显示装置一例构造的断面图。
符号说明1，11，21 玻璃基板2 BM膜3 CF膜4 OC膜5，15 ITO膜6，16 PI膜7 偏光膜8 液晶9 调距板10 光12 TFT元件18 金属膜19 密封剂具体实施方式
以下根据实施例及附图对本发明进行具体说明。但实施例并不限定本发明的范围。
图1及图2为表示液晶显示装置的滤色器侧玻璃基板的一例的断面图。图1为表示在进行该实施例的再生处理前的滤色器侧玻璃基板的断面图。图1及图2为以显微镜照片所确认的为基准图示的模式图。在这方面，在图3～图6及图9～图11中也相同。
如图1所示，在处理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4、ITO膜5及厚度2μ的PI膜6。
将该玻璃基板1浸渍于装有由γ-丁内酯(100％)构成的剥离液的存储槽中，在60℃下浸渍2小时，取出并水洗。其后，投入到枚叶(扇片)式洗涤机中，进行纯水洗涤和气刀干燥。
图2为表示进行了以上处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图。在图1中，有PI膜6，在图2中不存在PI膜6，表示只有PI膜6被选择性地去除。此外，确认对ITO膜5没有产生电阻值变化及污染等损伤。而且也确认玻璃基板1没有被浸蚀。
如图3所示，在处理前的玻璃基板1上，依次形成有BM膜2、CF膜3、OC膜4及厚度1000的ITO膜5。
将该玻璃基板1浸渍于装有剥离液的存储槽中，该剥离液由氢碘酸、乙二醇及水以重量比30/30/40组成的混合溶剂构成，在40℃下浸渍2小时，取出并水洗。其后，投入到扇片式洗涤机中，进行纯水洗涤和气刀干燥。
图4为表示进行了以上处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图及表示其表面状态的照片。在图3中有ITO膜5，在图4中不存在ITO膜5，表示只有ITO膜5被选择性地去除。此外，确认对CF膜3没有造成透过率及色度变化等损伤。进而，也确认玻璃基板1没有被浸蚀。
作为本实施例的剥离液，代替上述剥离液，还可以使用含有草酸、乙酸及甲酸的一种或多种与多元醇的水溶液。实施例3图5及图6为表示液晶显示装置的滤色器侧玻璃基板的一例的断面图。图5为表示进行该实施例的再生处理前的滤色器侧玻璃基板的断面图。
如图5所示，在处理前的玻璃基板1上，依次形成有厚度为2000的Cr制BM膜2、厚度为1.5μ的CF膜3、以及厚度为1μ的OC膜4。
将该玻璃基板1浸渍于装有由N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、氢氧化四甲基铵(TMAH)及水以重量比30/30/40的混合溶剂构成的剥离液的存储槽中，在60℃下浸渍2小时，取出并水洗。其后，投入到扇片式洗涤机中，进行纯水洗涤和气刀干燥。
图6为表示进行了以上处理后的滤色器侧玻璃基板的断面图。在图5中确认有BM膜2、CF膜3和OC膜4。在图6中只有BM膜2，表示CF膜3及OC膜4被选择性地去除。此外，玻璃基板1没有被浸蚀也得到确认。
图7表示以三种厚度的BM膜2为基础，分别反复多次进行实施例3的再生处理(实施例3中采用剥离液的处理)时，BM膜2的厚度与处理次数之间的关系。厚度为采用触针式表面粗度计所测定的BM膜2的规定位置的厚度，表示离玻璃基板1的厚度。
图8表示反复进行实施例3的再生处理时，BM膜2的OD值(光学浓度)与处理次数之间关系。OD值使用光透过浓度计进行测定。
从图7及图8可以判定，即使处理次数增加，BM膜2的厚度及OD值也基本上保持一定。由于OD值保持一定，因此可以判定BM膜2没有被浸蚀，由于BM膜2离玻璃基板1的厚度保持一定，因此可以判定玻璃基板1没有被浸蚀。
作为本实施例的剥离液，代替上述剥离液，还可以使用含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸及氯磺酸中选取的一种或多种的水溶液，或含有从氢氧化钾、氢氧化钠及肼中选取的一种或多种的水溶液。
此外，当BM膜2不为Cr制，而为树脂制时，通过上述本实施例的处理，BM膜2、CF膜3及OC膜4都被去除。此时，可以将玻璃基板1作为纯玻璃进行再利用。
通过将该玻璃基板1浸渍于含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的一种或多种的水溶液，或含有硝酸铈铵的水溶液中，玻璃基板1上形成的Cr制BM膜被去除。
如上所示，通过进行实施例1～3的全部处理，可以将图1所示的滤色器侧玻璃基板的全部膜彻底地去除。而且，由于BM膜2及玻璃基板1几乎没有被浸蚀，因此可以有效地将该玻璃基板1进行再利用。
如图9所示，在处理前的玻璃基板11上依次形成有TFT元件12、厚度为1000的ITO膜15及厚度为2μ的PI膜16。
与实施例1相同，选择性地去除PI膜16(此时没有发现ITO膜损伤)，与实施例2相同，选择性地去除ITO膜15后，通过在80℃的硫酸中浸渍2小时，然后在80℃的磷酸中浸渍2小时，TFT元件12剥离。通过该处理，TFT元件12、ITO膜15及PI膜16从玻璃基板11被完全去除。也确认玻璃基板11没有被浸蚀。
即，如从该实施例所看到的那样，可以从TFT侧玻璃基板将TFT元件12、ITO膜15及PI膜16全部去除，而且玻璃基板11几乎没有被浸蚀，因此可以有效地将该玻璃基板11进行再利用。
将该虚设基板在80℃的硫酸中浸渍2小时，然后在80℃的磷酸中浸渍2小时，将金属膜18完全去除。也确认玻璃基板21没有被浸蚀。
作为本实施例的剥离液，代替上述剥离液，还可以使用含有从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种或多种的水溶液，或硝酸铈铵。实施例6图11为虚设基板的一例，在玻璃基板21上面涂有图案化的密封剂19。
将该虚设基板在80℃的硫酸中浸渍2小时，然后在80℃的磷酸中浸渍2小时，将密封剂19完全去除。玻璃基板21没有被浸蚀也得以确认。
作为本实施例的剥离液，代替上述剥离液，还可以使用含有从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种或多种的水溶液。
根据上述本发明第九点的说明可以看到，在虚设基板中形成有PI膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜及氮化膜的一个或多个时，例如，通过将该玻璃基板浸渍于含有γ-丁内酯及/或甲基溶纤剂的中性有机溶剂、或该有机溶剂与水的混合溶剂中，除去PI膜，将玻璃基板浸渍于含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸及氯磺酸中选取的一种以上的卤素系无机酸的水溶液、或从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种以上的有机酸的水溶液中，除去ITO膜，将玻璃基板浸渍于含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液、或含有硝酸铈铵液的水溶液中，除去PI膜及ITO膜以外的膜，可以从该玻璃基板将全部膜去除。
即，如从上述实施例等中可以看到的那样，由于可以将虚设基板中的金属膜18、合金膜、氧化膜、氮化膜、ITO膜、聚酰亚胺膜及密封剂19全部去除，并且玻璃基板21几乎不被浸蚀，因此可以将该玻璃基板21有效地再利用。
如上所述，根据本发明，可以将形成于液晶显示装置用的滤色器侧玻璃基板、TFT侧玻璃基板及虚设基板上的全部膜或元件去除。而且，由于可以在制造工序中选择性地只将不满足品质基准的膜及形成的膜去除，同时残留满足品质的膜，因此可以有效地使液晶显示装置用的滤色器侧玻璃基板、TFT侧玻璃基板及虚设基板再生。
即，通过使用本发明的再生方法，可以从制造中不良的滤色器侧玻璃基板、TFT侧玻璃基板及虚设基板中，只将不满足品质基准的膜或元件去除，从而使其能再利用。进而，可以从成为废品的上述玻璃基板中将全部膜去除，从而使其能够再利用。
列举更为具体的例子进行说明，根据本发明第一点、本发明第六点及本发明第八点，可以选择性地只将不满足品质基准的一个或多个膜去除，在残留有满足品质基准的膜等的状态下，能够有效地将玻璃基板进行再利用。
根据本发明第二点，在对ITO膜不产生电阻值变化等损伤及污染的情况下，可以选择性地只去除PI膜，而玻璃基板也不被浸蚀。
根据本发明第三点，在对滤色器侧玻璃基板等中的CF膜不产生透过率及色度变化等损伤的情况下，可以选择性地只去除ITO膜，而玻璃基板也几乎不被浸蚀。
根据本发明第四点，可以在玻璃基板几乎不被浸蚀的情况下，将不满足品质基准的BM膜以外的膜去除。
根据本发明第五点，可以在玻璃基板几乎不被浸蚀的情况下，只将BM膜去除。
根据本发明第七点，在TFT侧玻璃基板中，可以在玻璃基板几乎不被浸蚀的情况下，从TFT侧玻璃基板将不满足品质基准的全部膜去除。
根据本发明第九点，可以在玻璃基板几乎不被浸蚀的情况下，从虚设基板将不满足品质基准的全部膜去除。
根据本发明第十点，可以在玻璃基板几乎不被浸蚀的情况下，只将密封材料去除。
权利要求
1.一种玻璃基板的再生方法，其特征在于，从顺次形成有黑底膜、滤色器膜、保护膜、ITO膜及聚酰亚胺膜中的1个或多个的玻璃基板的、膜形成侧的外层侧，用规定的剥离液，将该膜的1个或多个选择性地去除。
2.根据权利要求1记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有聚酰亚胺膜及ITO膜，使聚酰亚胺膜成为外层侧，规定的剥离液为含有从碳数4～10的环状酯及碳数3～10的羟基取代的脂肪醚中选取的至少一种的有机溶剂，或含有该有机溶剂及多元醇及/或水的溶剂，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中，选择性地将该聚酰亚胺膜去除。
3.根据权利要求2记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，碳数4～10的环状酯及碳数3～10的羟基取代的脂肪醚为从γ-丁内酯及甲基溶纤剂中选取的1种以上。
4.根据权利要求1记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有ITO膜及保护膜及/或滤色器膜，使得ITO膜成为外层侧，规定的剥离液为(1)含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸及氯磺酸中选取的一种以上的卤素系无机酸的水溶液，(2)含有从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种以上的有机酸的水溶液，或(3)含有该卤素系无机酸或该有机酸及多元醇类的水溶液，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中，选择性地将该ITO膜去除。
5.根据权利要求1记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上至少形成有保护膜、滤色器膜和含有金属及/或金属氧化物的黑底膜，使得保护膜成为外层侧，规定的剥离液为(1)含有从盐酸、硝酸、硫酸及磷酸中选取的一种以上的无机酸水溶液，或(2)含有从N-甲基-2-吡咯烷酮、氢氧化四甲基铵、氢氧化钾、氢氧化钠及肼中选取的一种以上的碱性水溶液，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中，将该黑底膜以外的膜去除。
6.根据权利要求1记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上只形成含有金属及/或金属氧化物的黑底膜，规定的剥离液为(1)含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，或(2)含有硝酸铈铵液的水溶液，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中，将该黑底膜去除。
7.一种玻璃基板的再生方法，其特征在于，从顺次形成有TFT元件、ITO膜及聚酰亚胺膜的1个或多个的玻璃基板的、膜及元件形成侧的外层侧，用规定的剥离液，将该膜或元件的1个或多个选择性地去除。
8.根据权利要求7记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于。在玻璃基板上至少形成有ITO膜及TFT元件，使得ITO膜成为外层侧，或在玻璃基板上形成有ITO膜、TFT元件和从金属膜、合金膜、氧化膜及氮化膜中选取的一个以上，使得ITO膜成为外层侧，规定的剥离液为(1)含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，或(2)含有硝酸铈铵的水溶液，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中。
9.一种玻璃基板的再生方法，其特征在于，从顺次形成有聚酰亚胺膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封剂膜的一个或多个的玻璃基板的、膜形成侧的外层侧，用规定的剥离液，将该膜的一个或多个选择性地去除。
10.根据权利要求9记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，包括(1)工序、(2)工序和(3)工序中的至少一个工序(1)通过将该玻璃基板浸渍于含有从碳数4～10的环状酯及碳数3～10的羟基取代的脂肪醚中选取的至少一种的有机系溶剂，或含有该有机系溶剂及多元醇及/或水的溶剂中，从而将聚酰亚胺膜去除；(2)通过将玻璃基板浸渍于含有从盐酸、氢溴酸、氢碘酸及氯磺酸中选取的一种以上的卤素系无机酸的水溶液，含有从草酸、乙酸及甲酸中选取的一种以上的有机酸的水溶液，或含有该卤素系无机酸或该有机酸及多元醇类的水溶液中，从而将ITO膜去除；及(3)通过将该玻璃基板浸渍于含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，或含有硝酸铈铵液的水溶液中，从而将聚酰亚胺膜及ITO膜以外的膜去除。
11.根据权利要求10记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，碳数4～10的环状酯及碳数3～10的羟基取代的脂肪醚为从γ-丁内酯及甲基溶纤剂中选取的一种以上。
12.根据权利要求9记载的玻璃基板的再生方法，其特征在于，在玻璃基板上只形成有密封剂膜，规定的剥离液为含有从盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、氯磺酸、草酸、乙酸及甲酸中选取的至少一种的水溶液，将该玻璃基板浸渍于该剥离液中，从而将该密封剂膜除去。
全文摘要
提供一种能发挥出色效果的液晶显示用滤色器侧玻璃基板、TFT侧玻璃基板及虚设基板等玻璃基板的再生方法，包括从顺次形成有黑底膜、滤色器膜、保护膜、ITO膜及聚酰亚胺膜中的一个或多个的玻璃基板，顺次形成有TFT元件、ITO膜及聚酰亚胺膜中的一个或多个的玻璃基板，或顺次形成有聚酰亚胺膜、ITO膜、金属膜、合金膜、氧化膜、氮化膜及密封剂膜中的一个或多个的玻璃基板的外层侧，用规定的剥离液，选择性地将这些膜的一个或多个去除。
文档编号H01L21/02GK1432849SQ03101680
公开日2003年7月30日 申请日期2003年1月14日 优先权日2002年1月16日
发明者西山智弘, 出口干郎, 糸川胜博, 溝口幸一 申请人:西山不锈化学股份有限公司