基底载体罩的制作方法

文档序号:7237170阅读:208来源:国知局
专利名称:基底载体罩的制作方法
技术领域
本发明通常涉OT于沉积空气感应材料的罩。
技术背景禾,有机活性物质的电子,存在于多种不同的电子设备中。在这种, 中,有机活化层夹在两个电tfc间。所述电子装置的一种类型是有机发光二极管("OLED")。由于它们的高能量 转换率和低加工成本,用于显示用途的OLED是很有前途的。这种显示器用于 电池供电的便携式电子设备是特别有前途的,其中包括蜂窝电话、个人数字助 理、手持个人电脑和DVD播放器。这些应用场合要求显示器斷氐电粒外还具 有高信息容量、^fe调和快速影像比率响应时间。当M31液相沉积在该电子设备中形成一个或多个iM机层时能够获得工艺 优势。然而,许多有机材料对于氧和/或水分是敏感的。在印刷过程中避免污染 的通常方法是将整个印刷工作置于惰性环境中。这个方法降低了印刷相对于热 蒸发的经鄉势。为了人员的的安全登录和为了重新开始该工艺,由于工艺的 紊乱和设备保养而需要很长的清洁时间来控制该工艺环境。必须处理大量的气 体,这需要可观的ftA。逸就需要一种沉积这种材料的新工艺。发明内容共一种便携式基底载体罩,它包括 载体魏件;可移动鶴物;,件与覆盖物之间的间隔件;和 气体入口。在一些实施例中,该基底载体罩还包括可拆卸的盖子。还鄉一种用于在基底上沉积空气感应材料的组件,戶; i^且件包括如上戶,的便携式基底载体罩,具有沉积台的材料沉积驢,戶脱沉积台具有前沿、后沿和两个侧边,和附着于沉积台后沿上的该液相沉积装置的固定覆盖物。在某些实施例中,该组件还包括在一个或两个沉积台侧近上的气体屏蔽歧管。还劍共一种用于在基底上沉积空气感应材料的方法,戶;M方^a括a、 J^共基底载体罩,该基底载体罩包括 载体彌牛;可移动SM物;魏件与M物之间的间隔件;禾口 气体入口;b、 移动该鶴物并将该基底置于该载体史射牛上;c、 将该SM物移回到载体^7承件上的基底上面;d、 Mil气体入口以基本恒定的气M0I弓l入惰性气体;e、 在保持惰性气,动的同时部分地移动该 物以暴露该基底的第一部 分,以及将该空气感应材料沉积到该基底的第一部分上;f、 在基底的第2到第n部分上重复步骤e;禾口g、 在保持气体流动的情况下替换基底和支撑上的a^物。在一些实施例中,该基底载体罩还包括可拆卸的盖子,以及该方法在步骤 g之后还包括h、 在保持气^^动的情况下将该盖子置于该,件:ti:,以将该盖子密封 到该,件上,随后中断气流。还樹共一种在基底上沉积空气感应材料的方法,戶脱方細舌a、衝共组件,该组件包括便携式基底载体罩,该便携式基底载体罩包括载体魏件;可移动覆盖物;顿件与覆盖物之间的间隔件; 气体入口;具有沉积台的材料沉积體,戶;M沉积台具有前沿、后沿和两^HI」边;以及在沉积台的后沿上附着于该液相沉积凝的固定歸物;b、 移动该SM物且将该基底置于该载体^f:件上;c、 将该 物移回到载体^7刹牛上的基底上面;d、 Mil气体入口以基本恒定的气術臓引入惰性气体;e、 将载体,件置于沉积台的前沿;f、 在保铮隋性气#^动的同时,将该载体,件部分地移动到沉积台中并 部分地移动该覆盖物以暴露沉积台中该基底的第一部分,以及在该基底的第一 部分上沉积该空气感应材料;g、 进一步地将该载体支承件移动到该沉积台中并且移动该S^物以暴,积台中该基底的第二部分,同时移动第一部分M:后沿且到固定覆盖物的下方;h、 在基底的第3到第n部分上重复步骤g;和i、 保持气術荒动的同时替换基底和史承件上的覆盖物。 ,一般说明和下面的详细说明仅仅是示范性和说明性的,且并没有限制本发明,本发明在附加权利要求中謝亍限定。


在这里结合附图对实施例进行说明以增加对方案的働早。 图1包括基底载体罩的分解图。 图2包括固定覆盖物的图。本领域技术人员可以理解的是,为简单和清楚地说明附图中的物体,该物 体不一定按比例纟魏lj。例如,附图中一些物体的尺寸相对于其他物体可能放大 了,以有禾盱增加对实施例的了解。
具体实施方式
上面描述的很多方面和实施例仅是示范性的而非限制性的。在阅读本说明 书之后,本领域技术人员可以理解的是在不脱离本发明范围下其它方面和实施 例是有可能的。从下列详细说明和权利要求,任意一个或多个实施例的其它特征和好处将 显而易见。该详细说明首先确定随后的基底载体罩、组件、方法、有机发光二 极管和最后实例的术语的定义和澄清。1、术语的定义和澄清在确定如下戶,实施例的细节之前,先确定或澄清一些术语当指材料时,术语"空气感应"是指材料的性能会因Wtv或水分的存在而受到负面影响。术语"基底"尉旨可以是刚性或者柔性的且可以包括一种或多种材料的一个 或多个层的工件。该材料包括但是不局限于玻璃、聚合物或其它有机材料、金 属、或陶瓷材料或其组合物。术语"沉积"是指包括倒可常规的沉积技术,包拾湖沉积、液相沉积(驗 和不连续的技术)和热转移。如这里所4顿的,术语"包括""包含""具有"或它们的招可其它变化是指那些 非排他的包含。例如,包括元素列表的工艺、方法、物品或装置不一定仅限制 那些元素,还有可能包括列表或者该工艺、方法、物品或装置中没有明确表明 的其它元素。此外,除非明确地相反表明,"或"是指包含的或而不是指排它的或。例如,M下面的倒可一个而满足剝牛A或B: A是真(或#^)而B是假(或 不存在),A是假(或不存在)而B是真(或存在),以及A和B都是真(或存在)。同样,4顿"一"来描述这里所描述的元素和元件。这仅仅是为了方鹏见 和给出本发明范围的一般含义。应该将这个描述理解为包括一个或至少一个和 该单个同样包含复数个,除非已经明确其是另外的含义。相应于元素周期表内的列的族数目使用CRC Handbook of Chemistry and Physics, 8"版^(2000 - 2001)戶际的"新标注"惯例。除非另夕卜限定,这里4顿的所有技斜n科学术语具有属于本发明技术领域的普通技术人员所通常理解的相同含义。虽然与这里描述的相似或相当的方法 和材料能够用于本发明实施例的实施或湖赋,但是下面描述的是统的方法和材料。在这里结合参考的此处所提到的所有公开出版物、专利申请、专利和其 它参考物的全部内容,除非提到特定的段落。在发生冲突的情况下,以本说明 书(包括其限定)为准。此外,该材料、方法和实例仅仅是说明性地且不皿 行限制。对于这里没有描述的范围,有关具体材料、工艺操作和电路的许多细节都 是惯用的,且能够在教科书和有机发光二极管显示器、光电探测器、光电和半 导体组件论文的其它来源中查到。2、基底载体罩该便携式基底载体罩包括载体魏件;可移动SM物;^f"牛与覆盖物之间的间隔件; 气体入口;和可选择性地移动的盖子。该^f〈件是一平面的、其上能够放置和承载基底上的基底材料。该,件 能够由樹可稳定的材料制成,包括但不限于玻璃、聚合物、金属或陶瓷材料或 其组合物。术语"稳定"是指在其中{顿时不会与基底或环境互相作用的材料。该 支承件可以具有一些弹性,但是一般而言,该支承件基本上是刚性的。该支承 件的尺寸招艮大禾雖上是由所4顿的液相沉积装备来确定。在一些实施例中, 该魏件具有至少1画的厚度;在一些实施例中,至少是lcm。该可移动SM物是基本为平面的基底材料,其覆盖该^7承件。"可移动"是 指覆盖物肖,在平行于i^7對牛平面的方向上移动,从而暴露该^f〈件的区域。 在一些实施例中,该覆盖物是沿该,件的长度可移动的。该覆盖物能够由任 何稳定的材料制成,包括但不限于玻璃、聚合物、金属或陶瓷材料或其组合物。 该覆盖物可以具有一些弹性,但是一般而言,该覆盖物基本上是刚性的。该覆 盖物的尺寸略小于i^m件的尺寸。在一些实施例中,该MM物具有至少lmm 的厚度;在一些实施例中,至少是lcm。在一些实施例中,覆盖物的至少一部 分透明的。设置间隔件以将该覆盖物与该^^件隔开。可以4顿任何类型的间隔件, 只要其允许该SM物相对于il^:件移动。在一些实施例中,该间隔件是支架。在一些实施例中,具有四个支架作为间隔件。在一些实施例中,该可移动a^物和该支承件之间的空隙被设计,于提供来自该支承件表面的气体的,速 度。该气体入口允许隋性气体被引入该载体上且沿该史承件流动。能够^ffl任 何常规气体入口,例如喷头。该气体入口连接到惰性气体源。惰性气体的实例 包括但是不局限于氮、氦和氩。在一些实施例中,该基底载体罩还包括可拆卸的盖子。当相连时,该可选 择的盖子完全地包覆载体支承件的上表面的至少一部分。该盖子嵌A^基本上 嵌入到该支承件中以包覆该载体支承件上表面的至少一部分从而在传送过程中 保护被包覆的基底。该盖子包括基座,该基座在其周边具有垂直或基本垂直且 邻接该基座的带状构件。该基座通常是平面的,但是不局限于此,例如可以 是圆顶状的。该带状物与该支承fH苟接,且其尺寸被设置成使其安装或驻留在 该支承件中。可选^i也,该盖子可以在基座上包括把手以帮助握持。该基座和 带状组件可以由相同或不同的材料制成。使用任何传统方法以在该支承件上将 该盖子放置到位,例如使用螺钉紧固件。或者,该盖子可以包括在带状物上的 连接装置或组件,以暂时地将覆盖物连接到该支承件上。该盖子能够由ffi可稳 定的材料制成,包括但不限于玻璃、聚合物、金属或陶瓷材料或其组合物。该 盖子可以具有一些弹性,但是一般而言,该盖子基本上是刚性的。该盖子的基底具有一区域和平面皿,其与受保护结构的区i凝Qym相同或基本相同。在一些实施例中,该载体还包括将气体从气体入口分配到载体,件表面 上的第一气体岐管。在一些实施例中,该载体包括多个歧管以分配惰性气体。 气体供应是可控的,并且能够因每个歧管而不同。在一些实施例中,该载体包 括第一和第二气体岐管。第"^体岐管在该支承件的一端和第二气体岐管在相 对端。具有气体供应管以将惰性气体从气体入口供应到第二气体岐管。在这些 实施例中,气流从载体的两端流过该支承件,在该,件上提供了较好的环境 控制。在一些实施例中,该载体还包括在i^c件上的定位销。该定位销育,用 于在该载体支承件上精确定位该基底。该定位销可以是被固定在位的,或者可 平行于该载体的表面移动以将该基底中心定位和定向。在一些实施例中,该载体还包括可移动的提升销,以用于将该基底抬到该载体的表面上方。该提升销允许机器臂达到基底之下。该提飛肖还可以同时是 定位销,由此包括在载体,件上精确定位该基底的功能。在一些实施例中,该盖子还包括阀门。在气^;节动的同时,将该盖子布置 在该支承件上并且与该阀门相连。因此保持被包覆的^7承件内部的压力近似相 同。只要连接i縫子,就能够关闭气流和关闭阀门。在图1中示出了便携式基底载体和罩的一实例的分解图。基底100在载体 ^f俯200的上表面上。该,件还包括端部止档件210。可移动覆盖物300 具有不透明部分310和透明部分320。该不透明部分位于框架330上。该透明部 分置于该不透明部分的开口中。该覆盖物还包括端片340。当该M物移动M; 该支承件时这些端片用来接触端部止档件210,且防止覆盖物完全从支承件移 出。间隔件400l戯爐成沿轨道410移动,该轨道410将附着于该力承件200 的外ii^彖。在^S510处气体入口 500附着于该,件。通)l!k累钉紧固件610, 该可选择的盖子600附于该M件。3、组件用于在基底上施加空气感应材料的组件包括 如上FM的便携式基底载体罩,具有沉积台的材料沉积體,戶欣沉积台具有前沿、后沿和两^i则边,和 附着于、Kf只台后沿上的该沉积^S的固定覆盖物。该材料沉积装置是能够以期望的样式沉积空气感应材料的樹可装置。在一 些实施例中,该皿是液相沉积装置且该空气感应材料作为液,积。术语"液 体"包括单一液##料和若干液^#料的组合物,这些可以是溶液、悬浮液、混悬液和乳化液。液相沉积技术包,续和不连续的技术。可以用于在这里所描 述的基底载体的连续沉积技术包括但是不局限于凹版涂布、幕帘涂布、缝隙模 (slot-die)涂布、喷涂和连续喷口涂布。不连续的沉积技术包括但是不局限于 墨喷印刷、凹板印刷和丝网印刷。该沉积體包括沉积台。这是发生沉积的区域。它构成 ^的主要部 分或仅仅一小部分。该沉积台可以是任何形状。在一些实施例中,该沉积台基 本上是矩形。该沉积台具有前沿和后沿。具有该基底的基底载体首先移动到该 沉积台的前沿,移动穿越该沉积台,随后通过该后沿移动越过该台。该沉积台 还具有两个侧边。在一些实施例中,所述侧边基本上垂直于前沿和后沿。固定覆盖物在沉积台后沿上附着于该沉积纏。"固定'是指相对于该沉积 装置,该覆盖物不可移动。它可是可拆卸的或是7JC久性连接到该装置上的。该 固定覆盖物的位置被设定为当其从后沿退出该沉积台时其位于该基底载体上 方。在一些实施例中,该固定a^物的皿被设定为使该固定M物和该载体 支7承件之间的间距与该载体上的可移动覆盖物和该载体支承件之间的间距基本 相同。在图2中示出了固定覆盖物的一个实例。该固定覆盖物700 Mil,件710附着于沉积^g。在该固定a^物下面M该基底载体。在一些实施例中,该组件还包括在沉积台一侧或两侧上的惰性气体屏蔽歧 管。这有助于控制沉积台上的环境。4、方法用于在基底上沉积空气感应材料的该方、 跑括a、 iif共基底载体,该基底载体包括载体魏件; 可移动,物;5^:件与am物之间的间隔件; 气体入口;和可选择的可移动盖子;b、 如果有盖子的话,除去该盖子,移动该覆盖物并在该载体録件上配置 该基底;c、 移回位于载体^^件上的基底上方的覆盖物;d、 以基本恒定的气^^^W气体入口引入惰性气体;e、 在保持惰性气体流动的同时部分地移动该覆盖物以暴露该基底的第一部 分,和在该基底的第一部分上沉积该空气感应材料;f、 在基底的第2到第n部分上重复步骤e;和g、 在保持气体流动的情况下选择性地将iM子置于该^^件^1,以将该 ,件密封到该盖子,随后中断气流。打开该载体基底和罩以允许将该基底放置到载体,件上。如果有盖子的 话,去除该盖子,并移动该覆盖物,从而可接近该,件。在一些实施例中, 通过采用定位销或其它定位^H己来使基底对齐,从而将该基底定位于支承件上的特定位置。随后移回支承件和基底上方的该SM物。随后可将包含该基底的该便携式基底载体移动到将在其中进行空气感应材 料沉积的设备上。在一些实施例中,通过墨喷印刷来沉积包含该空气感应材料 的液体。在一些实施例中,通,续喷口涂布来沉积包含该空气感应材料的液 体。以基本恒定的气体^iiiiii气体入口引入惰性气体。在一些实施例中,具 有一个以上的气体入口,且气体M:所有的气体入口而被引入。对于旨入口,气体流速可能是相同或不同的,然而气#^01保持基本恒定以使得载体支承件 和载体皿物之间的环境保持基本恒定。在一些实施例中,具有该基底的基底载体随后穿过沉积台。例如,可在喷 墨印刷头下穿过。为了允许空气感应材料的沉积到基底上,沉积台中的该载体 覆盖物部分地移动以刚好暴露该基底的第一部分。在该基底的第一部分上以期 望的样式施加该空气感应材料。随后,该载体和移动该覆盖物以暴露该基底 的第二部分。在该基底的第二部分上以期望的样式施加该空气感应材料。在该基底的第3、第4...和第n部分上重复进fi^—步骤,其中第一到第n部分代表 基底的整个区域,在该区域上沉积该空气感应材料。在该基底的第n部分上沉积该空气感光材料之后,替换基底和^件上面 的该载fflM物。麟气術荒动。当在该沉积,上存在固定覆盖物时,在沉积之后由固定覆盖物来覆盖该 基底的每个部分。例如,当暴露该基底的第二部分以进行沉积时, 该第一 部分使其ffl31沉积台后沿而超迚沉积台,以使得其能够被固定覆盖物所覆盖。 这样,该基底的每铺分首先被该载体覆盖物覆盖,在沉积空气感应材料的同 时将其暴露,随后由固定覆盖物来覆盖它。固定覆盖物和可移动载体覆盖物的 组合产生一开口,该开口具有固定宽度,基底在该宽度下移动。具有的固定开 口宽度导致在基底表面上的更疸定的流速。当在沉积台的侧处存在一个或多^体屏蔽歧管时,在沉积过程中将惰 性气体弓l入到其中以进一步控制环境。在一些实施例中'在沉积之后,在保持气体流动的同时,将盖子布置在支 承件的上面并固定在位。如果该盖子具有气阀,在气^^动的同时使其打开。 随后中断气流且闭合该盖子上的气阀。倉,根据需要将该基底载体罩移动至怀同的设备上以用 —步的处理。在自动工艺中,该可选择的盖子是不需要的。在这种情况下,该基底可被 输送到随后的处理中,停止于基底载体罩。然后可在惰性环境种将基底拆下, 以进行进一步的处理。在这种情况下,可选择性地延续气流以,该基底。在一些实施例中,使用相同的沉积设备以在该基底上沉积第二空气感光材 料。在这种情况下,替换载体鶴物并再次开始沉积处理。如果存在载体盖子 的话,先不施加该载体盖子,直到所有基底都被移到不同设备上为止。4、有机发光二极管使用在这里描述的基底载体罩的一种装置是有机发光二极管("OLED")。 按7娇,OLED包括以下的层阳极;舰空:A^人阳极层注入和传输的一个或 多个空穴注A/〗专lf层;电致发光层; 一个或多个可选择的电子注A/传输层;和阴极层。支承构件可邻接阳极或阴极。该支承构件通常与阳极邻接。可用于OLED各种层的材料是公知的。在大部分鲍调OLED中,该體具有三套子像素区域。该电致发光层被 分成包括第一场致发光材料的第一子像素区域、包括第二场致发光材料的第二 子像素区域和包括第三场致发光材料的第三子像素区域。通过在该装置上施加 电压,第一子像素区域對寸第一颜色的光,第二子像素区域鄉第二颜色的光和第三子像素区域mt第三颜色的光。在一些实施例中,在这里描述的该基底载体罩用于沉积一个或多个空穴注 A/传输层。在一些实施例中,该基底载体罩用于一个或多个场致发光材料的沉 积。在一些实施例中,在这里描述的该基底载体罩用于沉积一个或多个电子注 A/传输层。实例在下面的实例中夂顿描述在这里描述的方案,这些实例没有限制本发明的 范围,本发明的范围在权利要求中描述。 实例1实例1说明了用于沉积空气感应环金属铱复合物的便携式基底载体罩的应 用。例如,这种复合吻已经在Grushin等人的U.S专利6,670,645中描述了。使用这里所描述的便携式基底载体来制备无源矩阵显示器。使用标准 OLED工艺在玻璃m以152mm x 152mm的尺寸形成i^S示器,其具有铟锡氧化物层。由复合有氟化磺酸聚合物的聚吡咯组成的空穴注入层被涂布在齡玻璃fch且在130摄氏度下Ti喿到180纳米的厚度。由可交^S穴传输聚合物组 成的空穴传输层被涂布在空穴注入层之上,分布在^f层、并在200摄氏度下 固化到20纳米的厚度。该组件是在其上沉积有空气感光材料的基底。所述基底 被置于图1中示出的基底罩之中,并且通过真空而被夹钳到连续喷口印刷器 (DaNipponScreen)的行进台面上。用氮以15标)f^:方K/每小时的流3I^t该罩 进行吹扫。该罩向着沉积台的前沿移动,在那里进行喷墨印刷。移回该可移动 覆盖物以暴露该基底的第一部分。包括以甲苯和3,4-二甲基苯甲1^斤混合的场致发光环金属铱复合物的所放出的墨水被印刷在第一部分的空穴传输层上。将该 载体向前移动并移回该可移动覆盖物以暴露该基底的第二部分。同时,该基底的第一部分移动到附着于该印刷设备的固定覆盖物之下。反复执行该工艺直到 印刷了该基底的所有部分。随后在替换载体支承件上的可移动覆盖物的同时从 该沉积台上移回该基底载体。随后在该,件上放置该可拆卸的盖子,中断气 流,并且闭合该盖子阀门。包含该印刷基底的该便携式载体罩随后移到氮手套 箱中,在这里进行进一步的处理。在氮气氛下以105'C中烘烤该显示板30^H中。 沉积包括20纳米四(8-羟 林)锆、1.5纳米LiF和350纳米铝的阴极。采用玻璃盖和环氧树脂来^ai寸该显示器。需要注意的是并不是需要所有以上推M或实例中所描述的作业, 一部射寺 定的作业可能不需要,而且除这些描粒外还可能执行一个或多个其它的作业。 此外,其中所列出的作业7娘也不是其中它们必然的执行 娇。在战说明书中,参考具体实施例己经描述了该方案。然而, 一个本领域 普通技术人员可以理解的是在不脱离作为下述权禾頓求的本发明范围的情况下 可以进行各种改变和变化。因此,该说明书和附图仅是说明性的而不是限制性 的,并J^f有的这种改进被确定为包括在本发明的范围内。参考具体实施例上面已经描述了好处、其它优势和针对问题的解决方法。然而,该好处、优势、针对问题的解决方法和其它可能导致樹可发生或变得更 加确定的好处、优势劍军决方法的特征不被认为是任一^^f有权利要求的决定 性的、所需要的、,素特征。为清楚起见,在这里描述的^5:实施例中的范围,应该理解的是可能同时在单一实施例中使用其组合。相反地,为方便起见,在描述的单个实施例的范围中,各种特征同时也可以分另l展供或以任何再组合的方式提供。此外,参 考范围内的数值包括范围内的^数值。
权利要求
1、一种便携式基底载体罩包括具有一表面的载体支承件;可移动覆盖物;支承件与覆盖物之间的间隔件;和气体入口。
2、 如权利要求1戶腿的载体,其特征在于,它还包括第i体岐管,以从 气体入口穿越该载体彌牛表面分配气体。
3、 如权利要求2戶,的载体,^tt征在于,它还包括第二气体岐管和,AA 口到第二歧管的供气管。
4、 如权利要求1戶腐的载体,其特征在于,该间隔件包括支架。
5、 如权利要求1所述的载体,^fT征在于,该载体^:件还包括用于在该 細牛上校准基底的定位销。
6、 如权利要求1所述的载体,其特征在于,它还包括可移动的盖子。
7、 如权利要求6戶脱的载体,其特征在于,该盖子还包括阀门。
8、 一种用于在基底上沉积空气感光材料的组件,所述组件包括 便携式基底载体罩,它包括载体支承件; 可移动鶴物;史承件与覆盖物之间的间隔件; 气体入口;具有沉积台的材料沉积驢,戶舰沉积台具有前沿、后沿和两个侧边,和在沉积台的后沿上附着于该液相沉积^s的固定a^物。
9、 如权利要求8戶,的组件,其特征在于,它包括在沉积台侦iJ:&Jl的至少 —n体屏蔽歧管。
10、 如权利要求9戶腐的组件,其特征在于,它包括在沉积台^Hiiih的气体屏蔽歧管。
11、 用于在基底上沉积空气感应材料的方法,戶;M方、^括a、提鹏底载体罩,该基底载体罩包括载体支承件; 可移动鶴物;^f〈件与鶴物之间的间隔件;和 气体入口;b、 移动该盖子并将该基底置于该载体^^件上;c、 将 物移回到载体力承件上的基底上面;d、 Mii气体入口以基本恒定的气術l3I引入惰性气体;e、 在保持惰性气術荒动的同时部分地移动该覆盖物以暴露该基底的第一部 分,以及在该基底的第一部分上沉积该空气感应材料;f、 在基底的第2到第n部分上重复步骤e;和g、 保持气術荒动的同时替换基底和支撑上的覆盖物。
12、 如权利要求ll所述的方法,其特征在于,该基底载体罩还包括可移动 的盖子,JM的方法在步骤g之后还包括h、 在傲寺气術荒动的情况下将该盖子置于该,件之上,以将该盖子密封 到该5^:件上,随后中断气流。
13、 用于在基底上沉积空气感应材料的方法,戶;f^方^a括a、 提供组件,该组件包括便携式基底载体罩,该便携式基底载体罩包括载体魏件',可移动mm物;^f〈件与覆盖物之间的间隔件; 气体入口;具有沉积台的材料沉积錢,戶;f^沉积台具有前沿、后沿和两1M则边,和在沉积台的后沿上附着于该液相沉积潔置的固定am物。b、 移动该覆盖物且将该基底置于该载体,件上;c、 将Sm物移回到载体,件上的基底上面;d、 M气体入口以基本恒定的气術^I引入惰性气体;e、 将载体,件置于沉积台的前沿;f、 在保持隋性气術荒动的同时,将该载体魏件部分地移动至(腕积台中并 部分地移动该覆盖物以暴,积台中该基底的第一部分,以及在该基底的第一部分上沉积该空气感应材料;g、 进一步地将该载体^f〈件移动到该沉积台中并且移动该Sm物以暴,积台中该基底的第二部分,同时移动第一部分S31后沿且到固定覆盖物的下方;h、 在基底的第3到第n部分上重复步骤g;和i、 保 动的同时替换基底和,件上的^物。
全文摘要
本发明提供一种便携式基底载体罩。该载体罩具有载体支承件;可移动覆盖物;支承件与覆盖物之间的间隔件;气体入口;和可移动的盖子。还提供使用该便携式基底载体罩用于在基底上沉积空气感应材料的组件和方法。
文档编号H01L51/56GK101237027SQ20071018212
公开日2008年8月6日 申请日期2007年8月3日 优先权日2006年8月4日
发明者C·D·郎, J·A·佩洛托, J·N·缇尔顿, T·P·达利 申请人:E.I.内穆尔杜邦公司
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