专利名称：基底校正装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及基底处理技术领域，尤其涉及一种基底校正装置。
背景技术：
在液晶显示器制造、半导体处理等工艺中，需要将基底(如玻璃基板、半导体晶片等)在不同处理设备间传送。该传送通常由机械臂进行，机械臂为多根，可伸入基底下方并支撑基底。由于机械臂取放操作的精度有限，但许多工艺(如光刻等)又对基底的位置要求十分严格，因此在用机械臂将基底放入处理设备后需对其位置进行校正才能进行后续处理。现有的基底校正装置如图1、图2所示，包括第一支撑单元、固定支撑单元3、驱动单元4、校正单元8。其中，固定支撑单元3为板状，且具有多个用于与基底9接触的凸起 31 ；第一支撑单元包括多个第一支撑杆11，第一支撑杆11通过固定支撑单元3中的套管32 穿过固定支撑单元3，套管32内可有滚轮、滚珠等以保证支撑杆11可在套管32中平稳运动，第一支撑杆11顶端具有用于接触基底9的第一支撑垫(即第一接触部)111 ；驱动单元 4包括连接各第一支撑杆11底端的驱动板41，驱动板41可在驱动器(如气缸、油缸、马达、 电机等，图中未示出)作用下升降，从而带动第一支撑单元升降；校正单元8则包括多个位于第一支撑单元周边的卡子81，卡子81可在校正驱动器(如气缸、油缸、马达、电机等，图中未示出)的驱动下侧向移动，从而在基底9位于第一支撑单元上时从侧面推动基底9以校正其位置。使用时，如图1所示，机械臂先将基底9放在第一支撑杆11上，卡子81推动基底 9以校正其位置；之后第一支撑杆11在驱动单元4的驱动下逐渐下降，使基底9如图2所示落在固定支撑单元3的凸起31上，并开始对基底9进行处理；处理完成后，各第一支撑杆 11再次升高而将基底9顶起，以便机械臂将其取走。其中，之所以在取、放基底9时用第一支撑单元支撑基底9，是因为固定支撑单元3上的凸起31很密集(以保证在处理过程中能稳定支撑基底9)，因此当基底9位于固定支撑单元3上时，机械臂无法伸入其下方，故只有当第一支撑单元的第一支撑杆11将基底9顶起后机械臂才能对其进行取放。发明人发现现有技术中至少存在如下问题校正单元8要校正基底9就必须克服第一支撑垫111与基底9间的最大静摩擦力(因基底9移动时的动摩擦力必定小于最大静摩擦力，故此处只考虑最大静摩擦力)；因此，如果第一支撑垫111与基底9间的静摩擦系数(即最大静摩擦力与压力的比值)较大，则卡子81难以推动基底9，甚至可能造成基底9 损伤(对于液晶显示器用的大尺寸、薄厚度的玻璃基板尤其如此)，而如果第一支撑垫111 与基底9间的静摩擦系数较小，则在第一支撑单元升降、机械臂取放等过程中，基底9又容易因外界因素的干扰而滑动，导致基底9位置不正确。总之，现有的基底校正装置无法在保证校正操作容易进行的情况下避免基底滑动
实用新型内容
[0006]本实用新型的实施例提供一种基底校正装置，其既可保证校正操作容易进行，又可避免基底滑动。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一种基底校正装置，包括第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。由于本实用新型的实施例的基底校正装置中具有静摩擦系数较大的第一支撑单元和静摩擦系数较小的第二支撑单元，且其中至少第一支撑单元可以升降，故在校正时可用第二支撑单元支撑基底以使校正容易进行，而在取放或升降基底时则可用第一支撑单元 (或第一支撑单元和第二支撑单元)支撑基底以避免其滑动；因此本实施例的基底校正装置既可保证校正操作容易进行，又可避免基底滑动。其中，“静摩擦系数”是指接触部和基底的接触面之间的最大静摩擦力与垂直于接触面的压力的比值。当一个支撑单元中具有多个接触部时，静摩擦系数是指基底同时与各接触部接触时的总的最大静摩擦力与总压力的比值。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一支撑单元包括多根用于支撑基底的第一支撑杆；所述第二支撑单元包括多根用于支撑基底的第二支撑杆。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述基底校正装置还包括固定支撑单元；所述驱动单元用于驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一支撑单元包括多根用于支撑基底的第一支撑杆；所述第二支撑单元包括多根用于支撑基底的第二支撑杆；所述固定支撑单元为板状，且其中具有用于供所述第一支撑杆和第二支撑杆穿过的套管。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一支撑杆和第二支撑杆的下端链接滚珠或滚轮；所述驱动单元包括驱动板和用于沿水平方向驱动所述驱动板的驱动器； 而驱动板具有用于支撑所述第一支撑杆、并在驱动板沿水平方向运动时带动所述第一支撑杆进行升降的第一支撑面；用于支撑所述第二支撑杆、并在驱动板沿水平方向运动时带动所述第二支撑杆进行升降的第二支撑面。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一支撑面和第二支撑面相互平行，且所述第一支撑面上具有一凹陷部。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述固定支撑单元上具有多个用于接触基底的凸起。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述校正单元包括用于推压所述基底侧面以使基底运动的卡子；用于驱动所述卡子运动的校正驱动器。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一接触部为第一支撑垫；所述第二接触部为滚轮或滚珠。[0023]作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述第一接触部为第一支撑垫；所述第二接触部为第二支撑垫。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为现有的基底校正装置的局部结构示意图；图2为现有的基底校正装置的局部结构示意图；图3为本实用新型实施例的基底校正装置的局部结构示意图；图4为本实用新型实施例的基底校正装置的局部结构示意图；图5为本实用新型实施例的基底校正装置的局部结构示意图；图6为本实用新型实施例的基底校正装置的局部结构示意图；其中附图标记为11、第一支撑杆；111、第一支撑垫；112、滚轮；21、第二支撑杆； 211、滚珠；212、滚轮；3、固定支撑单元；31、凸起；32、套管；4、驱动单元；41、驱动板；8、校正单元；81、卡子；9、基底。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型实施例提供一种基底校正装置，包括第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。由于本实用新型的实施例的基底校正装置中具有静摩擦系数较大的第一支撑单元和静摩擦系数较小的第二支撑单元，且其中至少第一支撑单元可以升降，故在校正时可用第二支撑单元支撑基底以使校正容易进行，而在取放或升降基底时则可用第一支撑单元 (或第一支撑单元和第二支撑单元)支撑基底以避免其滑动；因此本实施例的基底校正装置既可保证校正操作容易进行，又可避免基底滑动。实施例本实用新型实施例提供一种基底校正装置，如图3至图6所示，其包括第一支撑单元、第二支撑单元、驱动单元4、校正单元8。[0041]第一支撑单元用于支撑基底9，其顶部具有用于与基底9接触的第一接触部，第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元用于支撑基底9，其顶部具有用于与基底9接触的第二接触部，第二接触部与基底间具有第二静摩擦系数，该第二静摩擦系数小于第一静摩擦系数。由于第二静摩擦系数小于第一静摩擦系数，故当基底9被支撑在第二支撑单元上时，其最大静摩擦力比基底9被支撑在第一支撑单元上时的最大静摩擦力小，或者说基底9 位于第二支撑单元上时比位于第一支撑单元上时“更容易”被从侧向推动(因为压力通常都等于基底9的重力)。因此，本实施例的基底校正装置中，可在基底9被支撑在第二支撑单元上时校正其位置，而在取放或升降基底9时用第一支撑单元(或第一支撑单元和第二支撑单元)共同支撑基底9，从而既保证校正操作容易进行，又避免基底9滑动。优选地，第一支撑单元包括多根用于支撑基底9的第一支撑杆11，各第一支撑杆 11的顶端即为第一接触部(为保证各第一支撑杆11顶端可同时接触基底，它们优选位于同一平面中，更优选位于同一水平面中)；第二支撑单元则包括多根用于支撑基底9的第二支撑杆21，各第二支撑杆21的顶端即为第二接触部(为保证各第二支撑杆21顶端可同时接触基底，它们优选位于同一平面中，更优选位于同一水平面中)。显然，为了保证支撑的稳定，每个支撑单元中优选应包括多个均勻分布在不同位置处的支撑杆，图3至图6中只示出了一个第一支撑杆11和一个第二支撑杆21是因为这些附图只显示了基底校正装置的局部结构。这种支撑杆形式的支撑单元结构简单，节省材料，易于保证支撑均勻，并能使机械臂的取放操作容易进行。当然，支撑单元也可为其它的形式，例如为支撑柱、支撑台等，只要其能支撑基底9 并保证第二静摩擦系数大于第一静摩擦系数即可。显然，在其它形式的支撑单元中，一个支撑单元中也可包括多个支撑柱、支撑台等。显然，通过采用不同形式的第一接触部和第二接触部，即可实现上述静摩擦系数的关系。例如，优选地，第一接触部可为第一支撑垫111(例如为位于各第一支撑杆11上端的第一支撑垫111)，而第二接触部则为滚珠211或滚轮(如为位于各第二支撑杆21上端的滚珠211或滚轮)；这样，基底9与第二接触部间为滚动摩擦，而与第一接触部间为滑动摩擦，由于滚动摩擦系数通常远小于滑动摩擦系数，因此这种接触部可容易地保证第二静摩擦系数小于第一静摩擦系数。再如，优选地，第一接触部可为第一支撑垫111，而第二接触部可为第二支撑垫； 通过将两种支撑垫设置为不同的形式即可实现上述的静摩擦系数关系，如两种支撑垫表面的粗糙度不同(如第一支撑垫111表面为波纹面，而第二支撑垫表面为抛光面)，或者两种支撑垫的材质不同(如第一支撑垫为橡胶，而第二支撑垫为光滑金属)，或在第二支撑垫表面增设润滑膜等。这种支撑垫形式的接触部结构简单，易于保证支撑的平稳。显然，由于上述静摩擦系数的关系可通过多种已知的方法实现，故在此不再对其逐一详细描述。校正单元8则用于校正被支撑在第二支撑单元上的基底9的位置。优选地，校正单元8包括用于推压基底9侧面以使其移动的卡子81，该卡子81可在校正驱动器(如气缸、油缸、马达、电机等，图中未示出)的作用下移动，从而校正基底9的位置。优选地，基底校正装置中还包括固定支撑单元3 ；该固定支撑单元3用于在处理过程(如沉积、光刻)中支撑基底9，从而保证处理过程中基底9的稳定。当然，基底校正装置中也可没有固定支撑单元3，而是用第一支撑单元在处理过程中支撑基底9。优选地，该固定支撑单元3为板状，且其中具有多个用于供第一支撑杆11和第二支撑杆21穿管的套管32，套管32内壁还可设有滚珠等，从而保证第一支撑杆11和第二支撑杆21可顺利地在套管32中滑动。更优选地，固定支撑单元3上有多个用于支撑基底9 的凸起31，这种形式的固定支撑单元3结构简单，并能为基底9提供稳定的支撑。优选地，驱动单元4用于驱动第一支撑单元和第二支撑单元进行升降，从而在不同时刻用不同的支撑单元支撑基底。优选地，第一支撑杆11和第二支撑杆21下端连接有滚珠或滚轮112、212 ；驱动单元4则包括驱动板41和用于驱动该驱动板41沿水平方向运动的驱动器(如气缸、油缸、马达、电机等，图中未示出)。其中，驱动板41包括用于支撑第一支撑杆11、并在驱动板41 沿水平方向运动时带动第一支撑杆11进行升降的第一支撑面411 ；以及用于支撑第二支撑杆21、并在驱动板41沿水平方向运动时带动第二支撑杆21进行升降的第二支撑面421。显然，由于第一支撑杆11和第二支撑杆21被套在固定支撑单元3的套管32中， 且它们下端有滚珠或滚轮112、212，故当驱动板41沿水平方向运动时第一支撑杆11和第二支撑杆21不会侧向移动，而是在相应的支撑面411、412上滑动。因此，只要第一支撑面411 和第二支撑面412沿驱动板41的运动方向上高度有变化，那么当驱动板41沿水平方向运动时，两支撑杆11、21下端也会随着支撑面411、412高度的变化而上下运动，从而带动支撑杆11、21升降。这样，通过设置不同形状的第一支撑面411和第二支撑面412，即可控制第一支撑杆11和第二支撑杆21按照不同的预订方式运动。这种形式的驱动单元4中只使用一个驱动器即可驱动第一支撑单元和第二支撑单元按照不同的方式运动，结构简单，成本低。具体地，第一支撑面411和第二支撑面412可相互平行，且第一支撑面411上具有一凹陷部4111。在放入基底9的操作中，驱动板41可一直向右运动；如图3所示，当机械臂将基底9放入时，第一支撑杆11和第二支撑杆21共同支撑基底9，从而保证支撑的稳定， 而随着驱动板41的运动，第一支撑杆11和第二支撑杆21 —起带着基底9降低；如图4所示，当第一支撑杆11运动到凹陷部4111中时其高度迅速降低，基底9被第二支撑杆21单独支撑，由于基底9与第二接触部(滚珠211)间的最大静摩擦系数较低，故此时可用卡子 81容易地推动基底9以校正其位置；如图5所示，校正完成时，第一支撑杆11下端正好从凹陷部4111中运动出来，从而第一支撑杆11和第二支撑杆21再次共同支撑基底9 ；最后， 如图6所示，第一支撑杆11和第二支撑杆21继续一同降低，从而使基底9落在固定支撑部 3的凸起31上而开始进行处理过程。处理完成后，驱动板41可向左运动，从而以与上述过程相反的方式将基底9顶起。这种方式的驱动板41结构简单，易于制造，可容易地实现两支撑单元间的准确配合。显然，第一支撑单元和第二支撑单元的运行方式也可有所不同，例如可为基底9 放入时先由第一支撑单元单独支撑；之后第一支撑单元降低而第二支撑单元保持不动(可通过在第二支撑面412上设置水平段实现)，当基底9落在第二支撑单元上时进行校正； 校正完成后第一支撑单元升高而再次独立支撑基底9 ；最后第一支撑单元和第二支撑单元一同降低而使基底9落在固定支撑单元3上。由于本领域技术人员根据基本的几何学知识即可设计出使第一支撑单元和第二支撑单元按照预订规律运动的第一支撑面411和第二支撑面412，故在此不再对第一支撑面411和第二支撑面412的具体形式进行详细描述。当然，该驱动单元4也可为其它形式，例如，其可包括两个驱动板，每个驱动板连接一个支撑单元，而两驱动板可分别在两个驱动器(如气缸、油缸、马达、电机)的作用下独立运动。由于驱动单元4可采用多种已知形式，故在此不再对其进行详细描述。当然，驱动单元9也可只驱动第一支撑单元进行升降。例如，在不使用固定支撑单元3时，机械臂可先将基底9放在最大静摩擦系数较大的第一支撑单元上，之后第一支撑单元下降，从而使基底9落在最大静摩擦系数较小的第二支撑单元上，校正单元8即可校正基底9位置，之后第一支撑单元上升，再次支撑其基底9，以进行处理过程。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种基底校正装置，其特征在于，包括第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。
2.根据权利要求1所述的基底校正装置，其特征在于， 所述第一支撑单元包括多根用于支撑基底的第一支撑杆； 所述第二支撑单元包括多根用于支撑基底的第二支撑杆。
3.根据权利要求1所述的基底校正装置，其特征在于， 所述基底校正装置还包括固定支撑单元；所述驱动单元用于驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降。
4.根据权利要求3所述的基底校正装置，其特征在于， 所述第一支撑单元包括多根用于支撑基底的第一支撑杆； 所述第二支撑单元包括多根用于支撑基底的第二支撑杆；所述固定支撑单元为板状，且其中具有用于供所述第一支撑杆和第二支撑杆穿过的套管。
5.根据权利要求4所述的基底校正装置，其特征在于，所述第一支撑杆和第二支撑杆的下端链接滚珠或滚轮；所述驱动单元包括驱动板和用于沿水平方向驱动所述驱动板的驱动器；而驱动板具有用于支撑所述第一支撑杆、并在驱动板沿水平方向运动时带动所述第一支撑杆进行升降的第一支撑面；用于支撑所述第二支撑杆、并在驱动板沿水平方向运动时带动所述第二支撑杆进行升降的第二支撑面。
6.根据权利要求5所述的基底校正装置，其特征在于，所述第一支撑面和第二支撑面相互平行，且所述第一支撑面上具有一凹陷部。
7.根据权利要求3所述的基底校正装置，其特征在于， 所述固定支撑单元上具有多个用于接触基底的凸起。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的基底校正装置，其特征在于，所述校正单元包括 用于推压所述基底侧面以使基底运动的卡子；用于驱动所述卡子运动的校正驱动器。
9.根据权利要求1至7中任意一项所述的基底校正装置，其特征在于， 所述第一接触部为第一支撑垫；所述第二接触部为滚轮或滚珠。
10.根据权利要求1至7中任意一项所述的基底校正装置，其特征在于， 所述第一接触部为第一支撑垫；所述第二接触部为第二支撑垫。
专利摘要本实用新型提供一种基底校正装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底校正装置不能既保证校正操作容易进行又避免基底滑动的问题。本实用新型的基底校正装置包括第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。本实用新型可用于校正液晶显示器的玻璃基板等。
文档编号H01L21/683GK202111071SQ201120086248
公开日2012年1月11日 申请日期2011年3月29日 优先权日2011年3月29日
发明者刘还平, 周贺, 常有军, 潘梦霄 申请人:北京京东方光电科技有限公司