专利名称：一种基板搬运装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示器生产工艺技术领域，特别涉及一种基板搬运装置。
背景技术：
TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管-液晶显示器)生产工艺中，湿刻、清洗、剥离和显影等湿法工艺中通常采用设置玻璃基板以倾斜一定的角度方式进行搬运。对玻璃基板进行湿刻、清洗、剥离和显影等湿法工艺均是在腔室中完成的，一个腔室对玻璃基板完成相应的湿法工艺处理后，将其搬运到另一个腔室中继续进行相应的工序处理。在玻璃基板运动中，位于其上方的药液不断喷洒到玻璃基板的表面上，因此，将玻璃基板处于倾斜状态进行传输，有利于药液在玻璃基板表面的流动，使得玻璃基板的处理时间缩短，将药液和水的消耗量降到最低，并且有利于异物的排除。同时，倾斜放置玻璃基板，还有助于加快药液和水在玻璃基板上的置换速度，缩短了整个工艺中液体的循环时间，增加了液体的使用效率，进而加快了湿法工艺的处理速度。但由于重力的作用，处于倾斜在一个方向的玻璃基板上的药液和水均流向玻璃基板较低的一端，使得该端的液体较多，且存在积留，这样使得玻璃基板位于高处的一端接收到的药液比较新鲜，而位于底端的玻璃基板上留有大量的已发生过反应的药液，使得玻璃基板在湿法工艺中所受到的药液处理分布不均勻，导致造成最终产品出现不良品
实用新型内容(一 )要解决的技术问题本实用新型要解决的技术问题是提供一种基板搬运装置，以克服现有的因玻璃基板运输腔体一直固定倾向于一个方向，而造成作用在玻璃基板上的药液分布不均勻，导致玻璃基板在湿法工艺中所受到的处理工艺不均勻进而影响最终产品出现不良现象的缺陷。( 二 )技术方案为了解决上述问题，本实用新型提供一种基板搬运装置，包括至少一个腔室，所述腔室用于放置和传递基板，所述腔室按工序依次排布；调节器，其用于调节所述腔室的倾斜方向；至少一个所述腔室具有调节其倾斜方向的所述调节器。进一步地，当所述腔室的数量为三个或三个以上时，至少一个位于非两端的腔体上安装所述调节器。进一步地，与安装有调节器的腔室相邻的两个腔室的倾斜方向相反，安装有调节器腔室的初始倾斜方向与其前一个腔室的倾斜方向一致。进一步地，所述调节器包括两个升降杆，所述升降杆由驱动装置驱动上下移动；所述两个升降杆的顶端分别固定连接在所要安装的腔室的两端。进一步地，所述调节器包括一支架和一转轴，所述支架的上端固定在所要安装的腔室的底部，所述支架的下端安装在所述转轴上，所述转轴由驱动装置驱动旋转。[0016]进一步地，所述调节器包括一个升降杆、旋转支承轴和支柱，所述升降杆和支柱分别位于所要安装的腔室的两端，所述升降杆由驱动装置驱动上下移动，其顶端固定连接在所安装腔室的一端；所述旋转支承轴固定位于所安装腔室的中部。进一步地，所述支柱所在的平面低于所述旋转支承轴所在的平面。进一步地，所述腔室倾斜的角度小于或等于10°。(三)有益效果本实用新型提供的基板搬运装置，通过在腔体上设置调节器，可有效调整处于工艺状态下的玻璃基板的倾斜方向，使得作用在玻璃基板上的药液能够均勻地分布在玻璃基板的表面，促进玻璃基板的工艺效果，提高最终产品的良品率。
图1为本实用新型实施例一基板搬运装置结构示意图；图为本实用新型实施例基板搬运装置通过调节器调节状态示意图；图3为本实用新型实施例二基板搬运装置应用状态示意图；图4为本实用新型实施例三基板搬运装置结构示意图；图5为本实用新型实施例三基板搬运装置结构另一示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。实施例1如图1所示，本实用新型实施例提供一种基板搬运装置，其包括至少一个腔室1和调节器2。腔室1用于放置和传递基板，各腔室按工序依次排布调节器2，调节器2用于调节腔室1的倾斜方向；至少一个腔室1具有调节其倾斜方向的调节器2。该腔室1的具体数量可根据实际工艺操作需求而定。在调节器2的作用下，腔室1倾斜的角度小于或等于 10°，便于药液在玻璃基板的表面快速有效的进行循环运动。较优地，当腔室的数量为三个或三个以上时，至少一个位于非两端的腔体1上安装调节器2。为了减少调节器2的调整次数，安装有调节器2的腔室1的初始倾斜方向与其前一个腔室1的倾斜方向一致，这样可顺利接收从前一个腔室1中传输过来的玻璃基板。 设置与安装有调节器2的腔室1相邻的两个腔室1的倾斜方向相反，通过调节器2作用后转换过倾斜方向的腔室1可以顺利地将玻璃基板传输至下一个腔室中，这样可以确保调节器2通过一次升降作用，即可使腔室1中的玻璃基板发生倾斜方向的转换，进而使得药液可以较为均勻地分布在其表面，优化玻璃基板在湿法工艺中的处理效果，并可以最大程度的提高工艺效率，节约作业时间。通过调节器2的升降作用，可有效控制腔室的倾斜方向，进而改变玻璃基板的倾斜方向，便于药液在玻璃基板的表面快速有效的进行循环运动，确保位于玻璃基板表面的药液能够均勻地分布在其表面上，使得玻璃基板在湿法工艺中能够得到均勻有效的处理， 促进玻璃基板的工艺效果，提高最终产品的良品率。[0033]本实用新型实施例中腔室的数量为三个，具体为第一腔体11、第二腔体12和第三腔体13，玻璃基板在该三个腔体中进行不同步骤的湿法工艺处理。设置第一腔体11和第三腔体13水平倾斜的方向相反，即若第一腔体11向右下方倾斜，则第三腔体13向左下方倾斜。该调节器2安装在第二腔体12上，第二腔体12的初始倾斜方向与第一腔体11的倾斜方向一致，以便接收从第一腔体11中传出的玻璃基板。本实施例中的调节器2包括两个升降杆21，升降杆21由驱动装置(图未示)驱动上下移动；两个升降杆21的顶端分别固定连接在第二腔室12的两端。通过驱动装置驱动两个升降杆21处于不同的高度，进而可调整腔体的倾斜方向。参考图2a、图2b所示，当玻璃基板完全进入到第二腔体12中，且在该第二腔室12 进行清洗刻蚀到一半时，通过驱动升降杆21的升降高度，可将该第二腔室12由原来的向右下方倾斜变换成向左下方倾斜，玻璃基板也随着由原来的向右下方倾斜变换成向左下方倾斜，进而使得作用在玻璃基板上的药液在玻璃基板的表面做一次往复的循环运动，通过该循环运动使得药液可以均勻地分布在该玻璃基板上，使得玻璃基板在湿法工艺中可以得到均勻地处理。待在该第二腔室12中完成清洗或刻蚀工艺后，将该玻璃基板传出至第三腔室 13。由于则第三腔体13向左下方倾斜，通过该调节器2调整后的第二腔室12也转换成向左下方倾斜，因此，玻璃基板可以顺利地传入到第三腔室13中。将玻璃基板传输至第三腔室13后，该调节器2将第二腔体12调整回最初状态，使得第二腔体12的倾斜方向继续与第一腔体11保持一致，便于继续接收下一个玻璃基板。实施例2如图3所示，本实施例与实施例1的区别在于，该调节器2包括一支架22和一转轴23，支架22的上端固定在第二腔室12的底部，支架22的下端安装在转轴23上，转轴23 由驱动装置(图未示)驱动旋转。通过驱动装置传递过来的旋转动力驱动转轴23转动，带动支架22在转轴23上处于不同的角度，进而调节支架22的转角，将第二腔室12的倾斜方向进行改变。实施例3如图4、图5所示，本实施例与实施例上述的区别在于，该调节器2包括升降杆24、 旋转支承轴25和支柱沈。其中，升降杆M和支柱沈分别位于第二腔室12的两端，升降杆 24由驱动装置(图未示)驱动上下移动，其顶端固定连接在第二腔室12的一端；旋转支承轴25固定位于第二腔室12的中部。支柱沈所在的平面低于旋转支承轴25所在的平面。 当升降杆M处于伸长状态时，则第二腔室12的重心由支柱沈支撑，此时第二腔室2处于一个方向倾斜。当升降杆M处于拉缩状态时，则该第二腔室12的重心由升降杆M来支撑， 此时第二腔室12处于与前一个方向相反的方向倾斜。通过调节升降杆21的高度，使得第二腔室12的一端处于不同的高度，进而使得该腔室的倾斜方向发生变化。买施例4本实施例与上述实施例存在的区别为根据实际操作情况和测试需要，也可以在每个腔体底部安装调节器，即在第一腔体11、第二腔体12和第三腔体13的底部均安装调节器2，为了顺利接收玻璃基板，该第一腔体11、第二腔体12和第三腔体13的倾斜方向应保持一致，例如设置第一腔体11、第二腔体12和第三腔体13均向右下方倾斜。该当玻璃基板在第一腔室11进行湿法工艺处理时，可在处理进程中的任意时刻通过调节器2对腔体 1倾斜方向的调整，对玻璃基板完成一次倾斜方向的转换，即由向右下方倾斜转换成向左下方倾斜，待玻璃基板在该腔室中完成相应的湿法工艺时，再次通过调节器2，将玻璃基板再次转换成最初倾斜方向，进而将玻璃基板顺利传输至第二腔室。同理，第二腔室12和第三腔室13中均可采用相同的转换原理对玻璃基板进行倾斜方向的改变，进而使得作用在玻璃基板表面的药液能够更加充分地均勻分布在玻璃基板上，使得玻璃基板在湿法工艺的任何步骤中都能够得到较好的工艺处理。另外，根据实际需求，通过调整调节器的高度，也可使各腔室处于水平状态传输来满足不同工艺对玻璃基板的放置需求。本实用新型实施例中的调节器除了上述描述的结构之外，还可以为任意使得腔室能够发生倾斜方向转换的现有产品。本实用新型提供的基板搬运装置，通过在腔体上设置调节器，可有效调整处于工艺状态下的玻璃基板的倾斜方向，使得作用在玻璃基板上的药液能够均勻地分布在玻璃基板的表面，促进玻璃基板的工艺效果，提高最终产品的良品率。以上实施方式仅用于说明本实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴，本实用新型的专利保护范围应由权利要求限定。
权利要求1.一种基板搬运装置，其特征在于，包括至少一个腔室，所述腔室用于放置和传递基板，所述腔室按工序依次排布；调节器，其用于调节所述腔室的倾斜方向；至少一个所述腔室具有调节其倾斜方向的所述调节器。
2.如权利要求1所述的基板搬运装置，其特征在于，当所述腔室的数量为三个或三个以上时，至少一个位于非两端的腔体上安装所述调节器。
3.如权利要求2所述的基板搬运装置，其特征在于，与安装有调节器的腔室相邻的两个腔室的倾斜方向相反，安装有调节器腔室的初始倾斜方向与其前一个腔室的倾斜方向一致。
4.如权利要求1-3任一项所述的基板搬运装置，其特征在于，所述调节器包括两个升降杆，所述升降杆由驱动装置驱动上下移动；所述两个升降杆的顶端分别固定连接在所要安装的腔室的两端。
5.如权利要求1-3任一项所述的基板搬运装置，其特征在于，所述调节器包括一支架和一转轴，所述支架的上端固定在所要安装的腔室的底部，所述支架的下端安装在所述转轴上，所述转轴由驱动装置驱动旋转。
6.如权利要求1-3任一项所述的基板搬运装置，其特征在于，所述调节器包括一个升降杆、旋转支承轴和支柱，所述升降杆和支柱分别位于所要安装的腔室的两端，所述升降杆由驱动装置驱动上下移动，其顶端固定连接在所安装腔室的一端；所述旋转支承轴固定位于所安装腔室的中部。
7.如权利要求6所述的基板搬运装置，其特征在于，所述支柱所在的平面低于所述旋转支承轴所在的平面。
8.如权利要求1所述的基板搬运装置，其特征在于，所述腔室倾斜的角度小于或等于 10°。
专利摘要本实用新型涉及液晶显示器生产工艺技术领域，特别涉及一种基板搬运装置。该基板搬运装置，包括至少一个腔室，腔室用于放置和传递基板，所述腔室按工序依次排布；调节器，其用于调节所述腔室的倾斜方向；至少一个腔室具有调节其倾斜方向的所述调节器。本实用新型提供的基板搬运装置，通过在腔体上设置调节器，可有效调整处于工艺状态下的玻璃基板的倾斜方向，使得作用在玻璃基板上的药液能够均匀地分布在玻璃基板的表面，促进玻璃基板的工艺效果，提高最终产品的良品率。
文档编号H01L21/677GK202178242SQ20112030498
公开日2012年3月28日 申请日期2011年8月19日 优先权日2011年8月19日
发明者刘耀, 孙亮, 李梁梁, 白金超, 郝昭慧 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司