1.一种溶液，其包含：
(i)一种或多种含氟酸化合物或含氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)一种或多种选自2,4-二羟基吡啶，吡啶，二氯哒嗪-3(2H)-酮，一种或多种含碘酸，硫酸，盐酸吡哆醇，硒酸，银(I)氧化物或银(II)氧化物中的一种或多种的额外的化合物；和
(iv)水。
2.权利要求1所述的溶液，其中组分(i)是氢氟酸。
3.权利要求1所述的溶液，其包含：
(i)氢氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)2,4-二羟基吡啶；和
(iv)水。
4.权利要求1所述的溶液，其包含：
(i)氢氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)吡啶；和
(iv)水。
5.权利要求1所述的溶液，其包含：
(i)氢氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)二氯哒嗪-3(2H)-酮；和
(iv)水。
6.权利要求1所述的溶液，其包含：
(i)氢氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)硫酸和一种或多种含碘酸；和
(iv)水。
7.权利要求6所述的溶液，其中组分(iii)是碘酸。
8.权利要求1所述的溶液，其包含：
(i)氢氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(ⅲ)盐酸吡哆醇；和
(iv)水。
9.权利要求1所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以足够快地蚀刻硅，以在小于约80秒内除去发射极。
10.权利要求1所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以生长薄膜，该薄膜在向其施加热预算后使表面钝化。
11.权利要求10所述的溶液，其中所述热预算是包含如下的退火预算：约400秒的在从约350℃至约725℃的温度下的上升线，随后约300秒的平稳期，然后约400秒的下降至约350℃的温度的下降线。
12.一种溶液，其包含：
(A)一种或多种含氟酸化合物或含氟酸；
(B)一种或多种选自如下物质的一种或多种的额外的化合物：2,4-二羟基吡啶，吡啶，二氯哒嗪-3(2H)-酮，一种或多种含碘酸，硫酸，盐酸吡哆醇，一种或多种含硒酸化合物或含硒酸，银(I)氧化物，或银(II)氧化物；和
(C)水。
13.权利要求12所述的溶液，其中组分(A)是氢氟酸。
14.权利要求12所述的溶液，其包含：
(A)氢氟酸；
(B)银(I)氧化物；和
(C)水。
15.权利要求12所述的溶液，其包含：
(A)氢氟酸；
(B)银(II)氧化物；和
(C)水。
16.权利要求12所述的溶液，其包含：
(A)氢氟酸；
(B)一种或多种含硒酸化合物或含硒酸；和
(C)水。
17.权利要求16所述的溶液，其中所述一种或多种含硒酸化合物或含硒酸是硒酸。
18.权利要求12所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以足够快地速度蚀刻硅，以在小于约80秒内除去发射极。
19.权利要求12所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以生长薄膜，该薄膜在向其施加热预算后使表面钝化。
20.权利要求19所述的溶液，其中所述热预算是包含如下的退火预算：约400秒的在从约350℃至约725℃的温度下的上升线，随后约300秒的平稳期，然后约400秒的下降至约350℃的温度的下降线。
21.一种溶液，其包含：
(a)约35重量％至约50重量％的一种或多种酸和/或酸性化合物，其中所述一种或多种酸和/或酸性化合物选自如下物质的一种或多种：含氟化物的酸化合物或含氟酸性化合物，硝酸，硫酸，或这些酸或酸性化合物中的任意两种的任何组合，或甚至所有三种这些酸或酸性化合物的任何组合；
(b)下述额外组分中的至少一种：
(b1)约0.005重量％至约25重量％的一种或多种选自2,4-二羟基吡啶、吡啶、二氯哒嗪-3(2H)-酮或盐酸吡哆醇的添加剂；
(b2)约0.00005重量％至约0.25重量％的选自含碘酸、含硒酸或它们的组合的第二酸；或
(b3)约0.0005重量％至约0.075重量％的银(I)氧化物或银(Ⅱ)氧化物；和
(c)剩余部分的水。
22.权利要求21所述的溶液，其中所述一种或多种酸和/或酸性化合物选自氢氟酸、硝酸、硫酸。
23.权利要求21所述的溶液，其中所述含碘酸是碘酸。
24.权利要求21所述的溶液，其中所述含硒酸是硒酸。
25.一种包含至少一个钝化层的结构，所述钝化层使用采用权利要求1至13的任一种或多种溶液的方法形成。
26.一种包含至少一个钝化层的结构，所述钝化层使用采用权利要求21至24任一项的任一种或多种溶液的方法形成。
27.一种包含至少一个富银层的结构，所述富银层使用采用权利要求14、15或21至24任一项的任一种或多种溶液的方法形成。
28.一种溶液，其包含：
(i)一种或多种含氟酸化合物或含氟酸；
(ⅱ)硝酸；
(iii)一种或多种选自如下物质的一种或多种的额外的化合物：2,4-二羟基吡啶，吡啶，二氯哒嗪-3(2H)-酮，一种或多种含碘酸，硫酸，盐酸吡哆醇、硒酸，银(I)氧化物，或银(II)氧化物；和
(iv)水。
29.权利要求28所述的溶液，其中组分(iii)是碘酸。
30.权利要求28或29任一项所述的溶液，其中组分(i)是氢氟酸。
31.权利要求28-30任一项所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以足够快地蚀刻硅，以在小于约80秒内除去发射极。
32.权利要求28-31任一项所述的溶液，其中所述溶液按配方配制以生长薄膜，该薄膜在向其施加热预算后使表面钝化。
33.权利要求28-32任一项所述的溶液，其中所述热预算是包含如下的退火预算：约400秒的在从约350℃至约725℃的温度下的上升线，随后约300秒的平稳期，然后约400秒的下降至约350℃的温度的下降线。
34.一种溶液，其包含：
(a)约35重量％至约50重量％的一种或多种酸和/或酸性化合物，其中所述一种或多种酸和/或酸性化合物选自如下物质的一种或多种：含氟化物的酸化合物或含氟酸性化合物、硝酸、硫酸或这些酸或酸性化合物中的任意两种的任何组合，或甚至所有三种这些酸或酸性化合物的任何组合；
(b)下述额外组分中的至少一种：
(b1)约0.005重量％至约25重量％的一种或多种选自2,4-二羟基吡啶、吡啶、二氯哒嗪-3(2H)-酮或盐酸吡哆醇的添加剂；
(b2)约0.00005重量％至约0.25重量％的选自含碘酸、含硒酸或它们的组合的第二酸；或
(b3)约0.0005重量％至约0.075重量％的银(I)氧化物或银(Ⅱ)氧化物；和
(c)剩余部分的水。
35.权利要求34所述的溶液，其中所述一种或多种酸和/或酸性化合物选自氢氟酸、硝酸、硫酸。
36.权利要求34或35任一项所述的溶液，其中所述含碘酸是碘酸。
37.权利要求34-36任一项所述的溶液，其中所述含硒酸是硒酸。