一种RIE制绒硅片表面修饰清洗方法与流程

文档序号:11973047阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开一种RIE制绒硅片表面修饰清洗方法,包括如下步骤:准备RIE制绒硅片,并检测绒面反射率;根据上述测试的反射率结果配制初次修饰清洗药液,将硅片绒面浸入所述初次修饰清洗药液中进行初次清洗;将RIE制绒硅片取出,并采用去离子水清洗,去除硅片表面残留的药液;采用二次清洗液继续对制绒硅片清洗;采用去离子水冲洗RIE制绒硅片,并用吹干。本发明根据RIE方法制绒的硅片表面特征配制特定比例的清洗药液,通过搭配适当的清洗温度和清洗时间有效去除硅片表面的缺陷,去除硅片绒面上尺寸严重偏小的凹坑,使绒面形貌平滑;采用本发明方法清洗后RIE绒面效果优异,可有效提高电池效率,且本发明工艺流程简单,易于在生产线上推广。

技术研发人员:黄钧林;范维涛;周肃;黄青松;黄惜惜;张鑫;勾宪芳
受保护的技术使用者:中节能太阳能科技(镇江)有限公司
文档号码:201610180460
技术研发日:2016.03.25
技术公布日:2017.04.12

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