技术总结
本申请公开了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以避免在对金属层进行刻蚀过程中其表面光阻的脱落问题，从而提高阵列基板的制作成功率。本申请提供的阵列基板的制作工艺包括：形成第一金属层；在所述第一金属层表面形成凹凸结构；在形成有凹凸结构的第一金属层表面设置光阻；对设置有所述光阻的第一金属层分别进行曝光、显影、刻蚀，形成第一金属图形。
技术研发人员：王久石;曹占锋;姚琪;冯京
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201710005666
技术研发日：2017.01.04
技术公布日：2017.05.10