1.一种在同一衬底上集成红绿蓝晶片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1:首先将衬底粗化，在衬底上涂上一层大于10um耐高温的蚀刻胶，将事先做好的蓝光镂空光罩板放置在蚀刻胶上，通过曝光、显影、蚀刻将曝光部分去除掉；
S2：再将蚀刻后的衬底放到蓝光外延炉里磊晶生长，蓝光磊晶完成后，再二次涂布一层光刻胶，将事先做好的绿光镂空光罩板放置在蚀刻胶上，通过曝光、显影、蚀刻将曝光部分去除掉；
S3：然后将蚀刻后的衬底放到绿光外延炉里磊晶生长，绿光磊晶完成后再第三次涂覆蚀刻胶，将事先做好的红光镂空光罩板放置在蚀刻胶上，通过曝光、显影、蚀刻将曝光部分去除掉；
S4：最后再将蚀刻后的衬底放到绿光外延炉里磊晶生长，最后通过蒸镀、电极制作、测试工艺将蓝绿晶片作为一体进行裂片，得到统一衬底的RGB晶片。