一种金刚线切割后的硅片清洗方法与流程

本发明涉及硅片清洗领域，特别是涉及金刚线切割后的硅片领域。

背景技术：

目前对金刚线切割后的硅片一般都是直接通过碱性清洗剂进行清洗，这样使得硅片表面残留的金属离子、有机物、碱性清洗液不能根除，硅片在后续电池碱洗制绒过程，往往会出现表面制绒不均匀，呈现花斑现象。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是：如何避免由于金刚线切割后的硅片没有清理干净造成的硅片在后续电池碱洗制绒过程出现表面制绒不均匀的问题。

本发明所采用的技术方案是：发现硅片在后续电池碱洗制绒过程出现表面制绒不均匀的问题有部分原因是因为金刚线切割后的硅片没有清理干净造成的，并采用以下步骤对金刚线切割后的硅片进行彻底清理，一种金刚线切割后的硅片清洗方法，按照如下的步骤进行

步骤一、将金刚线切割过的硅片在柠檬酸水溶液中清洗的步骤；

步骤二、硅片在碱性清洗剂中清洗的步骤；

步骤三、硅片在双氧水中清洗的步骤。

作为一种优选方式：步骤一中，柠檬酸水溶液的质量百分比浓度为3％-5％，温度为40-50℃，清洗过程使用超声波。柠檬酸与硅片表面无机物反应，生成弱酸盐，去除表面金属等杂质。

作为一种优选方式：步骤二中，碱性清洗剂的质量百分比浓度为5％-8％，温度为45-55℃，ph＝11～13，清洗过程使用超声波。

作为一种优选方式：步骤三中，双氧水的质量百分比浓度为4％-8％，温度为40-45℃，清洗过程使用超声波。深层次的祛除硅片表面残留的碱液、有机物和金属离子，使硅片表面损伤层祛除更洁净。

作为一种优选方式：步骤一中，将金刚线切割过的硅片使用纯水+溢流+超声后再在柠檬酸水溶液中清洗。避免直接使用柠檬酸水溶液造成柠檬酸的浪费。

作为一种优选方式：在步骤一和步骤二之间使用纯水+溢流+超声进行清洗。避免硅片上粘接的柠檬酸破坏碱性清洗剂，造成碱性清洗剂浪费，同时可以把硅片上聚集的溶解的有机物和金属离子洗掉，使得后续的碱性清洗剂清洗效果更佳。

作为一种优选方式：在步骤三之后使用纯水+溢流+超声进行清洗。避免步骤三清理过程中在硅片表面形成的可溶的有机物和金属离子不能被清理干净，造成后续烘干中粘接在硅片表面。

本发明的有益效果是：通过碱洗前增加弱酸活化工艺，使得其硅片表面残留的金属离子更少，碱洗后增加双氧水清洗工艺祛除表面残留碱液、有机物、金属离子，同时使表面损伤层去除更大。硅片在后续电池制绒过程金字塔绒面的覆盖率更高，绒面更均一。

附图说明

图1是经过本发明清洗后的制绒绒面图；

图2是未经过本发明清洗后的制绒绒面图。

具体实施方式

实施例1

一种金刚线切割后的硅片清洗方法，按照如下的步骤进行：

配置质量百分比浓度为3％的柠檬酸水溶液，质量百分比浓度为5％的氢氧化钠溶液（水溶液），配置量百分比浓度为4％的双氧水溶液（水溶液）。

把金刚线切割后的硅片依次在以下槽体中清洗

1#槽体：采用纯水+溢流+超声方式清洗，清洗温度40-50℃，清洗时间200s；目的是清除金刚线切割后的硅片表面残留的大颗粒杂质。

2#槽体：采用百分比浓度为3％的柠檬酸水溶液+超声方式清洗，清洗温度40-50℃，清洗时间180s；目的是清除硅片表面残留的有机物、金属离子。

3#槽体：采用纯水+溢流+超声方式清洗，清洗温度45-50℃，清洗时间220s；避免硅片上粘接的柠檬酸破坏碱性清洗剂，造成碱性清洗剂浪费，同时可以把硅片上聚集的溶解的有机物和金属离子洗掉，使得后续的碱性清洗剂清洗效果更佳。

4#槽体：采用百分比浓度为5％的氢氧化钠溶液+超声方式清洗，清洗温度45-55℃，清洗时间240s。

5#槽体：采用百分比浓度为5％的氢氧化钠溶液+超声方式清洗，清洗温度45-55℃，清洗时间240s，采用阶段性氢氧化钠溶液+超声方式清洗，能够在消耗氢氧化钠溶液更少的情况下，提高清洗效果。

6#槽体：采用百分比浓度为4％的双氧水溶液+超声方式清洗，清洗温度45-55℃，清洗时间150s。

7#槽体：采用纯水+溢流+超声方式清洗，清洗温度55-60℃，清洗时间240s。

8#槽体：采用纯水+溢流+超声方式清洗，清洗温度60-65℃，清洗时间240s。

9#槽体：采用纯水+溢流+超声方式清洗，清洗温度65-70℃，清洗时间240s，通过阶段性纯水+溢流+超声方式清洗，不仅减少了对存水的消耗，而且提高了清洗效果，节省清洗时间。

10#槽体：采用加热烘干，烘干温度80℃，烘干时间240s。

图1是经过本发明清洗后的制绒绒面图；图2是未经过本发明清洗后的制绒绒面图。可以明显看出，经过本发明清洗后，制绒绒面表面更均一。

具体实施例2

与具体实施例1不同之处在于：柠檬酸水溶液的质量百分比浓度为5％，氢氧化钠溶液（水溶液）质量百分比浓度为8％，双氧水溶液（水溶液）百分比浓度为8％。

具体实施例3

与具体实施例1不同之处在于：柠檬酸水溶液的质量百分比浓度为4％，氢氧化钠溶液（水溶液）质量百分比浓度为6％，双氧水溶液（水溶液）百分比浓度为6％。

技术特征：

技术总结
本发明涉及硅片清洗领域，特别是涉及金刚线切割后的硅片领域。一种金刚线切割后的硅片清洗方法，按照如下的步骤进行，步骤一、将金刚线切割过的硅片在柠檬酸水溶液中清洗的步骤；步骤二、硅片在碱性清洗剂中清洗的步骤；步骤三、硅片在双氧水中清洗的步骤。通过碱洗前增加弱酸活化工艺，使得其硅片表面残留的金属离子更少，碱洗后增加双氧水清洗工艺祛除表面残留碱液、有机物、金属离子，同时使表面损伤层去除更大。硅片在后续电池制绒过程金字塔绒面的覆盖率更高，绒面更均一。

技术研发人员：刘宝华;任崇荣;谷燕铂;李东东;王立明;任欢欢;梁玲;赵强;王莹
受保护的技术使用者：山西潞安太阳能科技有限责任公司
技术研发日：2017.06.20
技术公布日：2017.10.10