一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示面板。
【背景技术】
[0002]有机电致发光器件(organicelectroluminescent device，简称 0LED)相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，简称IXD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，是下一代显示技术。OLED全彩色显示目前最重要成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程两种，蒸镀制程需要应用精细金属掩模板(Fine metal mask，简称FMM)来实现OLED中的膜层的形成，工艺难度较大；而溶液制程虽然不需要FMM，但是溶液制程受设备精细度的限制无法达到高分辨率的要求。
[0003]为了解决上述问题，现有技术方案中提出一种复合式OLED结构，这种复合式OLED结构中的红色亚像素和绿色亚像素对应的有机材料功能层中的发光层上面具有蓝色亚像素对应的有机材料功能层中的发光层。同时，为了提高器件的分辨率、减少工艺复杂度，红色亚像素和绿色亚像素对应的有机材料功能层中的发光层采用喷墨打印法形成，蓝色亚像素对应的有机材料功能层中的发光层采用蒸镀法形成。但是，这种复合式OLED结构由于红色亚像素和绿色亚像素对应的发光层必须采用溶液法形成，致使形成的产品的分辨率还是较低。
【发明内容】
[0004]本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，解决了基于现有的OLED结构在形成过程中由于制作工艺的限制，形成的产品分辨率较低的问题，提高了 OLED显示器件的分辨率，提高了画面的显示质量。
[0005]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0006]第一方面，提供一种阵列基板，所述阵列基板包括:衬底基板，形成在所述衬底基板上的第一电极层，形成在所述第一电极层上的像素界定层，所述像素界定层上具有使所述第一电极层裸露的开口，所述有机材料功能层形成在所述第一电极层上与所述开口对应的位置，形成在所述有机材料功能层上的第二电极层，所述阵列基板包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，
[0007]所述第一子像素对应的有机材料功能层和所述第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层；
[0008]所述第一子像素对应的有机材料功能层与所述第二子像素对应的有机材料功能层相同。
[0009]可选的，所述阵列基板还包括彩色滤光层，其中:
[0010]所述彩色滤光层设置在所述第一电极层靠近所述衬底基板一侧的面上。
[0011]可选的，所述阵列基板还包括彩色滤光层，其中:
[0012]所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧。
[0013]可选的，所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧，包括:
[0014]所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层一侧的面上。
[0015]可选的，所述阵列基板还包括设置在所述第二电极层上的封装层，所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧，包括:
[0016]所述彩色滤光层设置在所述封装层上。
[0017]可选的，所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层依次包括:第一空穴功能层、第一发光层、第一界面修饰层，所述第三子像素对应的有机材料功能层依次包括:第二空穴功能层、第二界面修饰层、第二发光层和第二电子功能层，其中:所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层还包括电子传输附加层；
[0018]所述电子传输附加层设置在所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层中的所述第一界面修饰层的上面；
[0019]所述第二发光层和所述电子传输附加层为同层形成。
[0020]可选的，所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层还包括:第一电子功能层，其中:
[0021]所述第一电子功能层设置在所述电子传输附加层的上面。
[0022]可选的，所述第一发光层的发光颜色为黄色，所述第二发光层的发光颜色为蓝色。
[0023]可选的，所述第一子像素的颜色为红色，所述第二子像素的颜色为绿色，所述第三子像素的颜色为蓝色，所述彩色滤光层包括对应第一子像素的红色滤光层和对应第二子像素的绿色滤光层。
[0024]可选的，所述彩色滤光层的厚度为I?2.5 μπι。
[0025]可选的，所述第一发光层、所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为15?80nm。
[0026]可选的，所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为20nm ;
[0027]所述第一发光层的厚度为60nmo
[0028]可选的，所述第二发光层和所述电子传输附加层的材料相同。
[0029]第二方面，提供一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板的像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述方法包括:
[0030]在衬底基板上形成第一电极层；
[0031]在所述第一电极层上形成像素界定层；其中，所述像素界定层上具有使所述第一电极层裸露的开口；
[0032]在所述第一电极层上与所述像素电极层上的开口对应的位置形成有机材料功能层；其中，所述第一子像素对应的有机材料功能层和所述第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层；
[0033]在所述有机材料功能层上形成第二电极层；
[0034]所述第一子像素对应的有机材料功能层与所述第二子像素对应的有机材料功能层相同。
[0035]可选的，所述方法还包括:
[0036]在所述第一电极层靠近所述衬底基板一侧的面上形成彩色滤光层。
[0037]可选的，所述方法还包括:
[0038]在所述第二电极层远离所述有机材料功能层一侧的面上形成彩色滤光层。
[0039]可选的，所述方法还包括:
[0040]在所述第二电极层上形成封装层；
[0041 ] 在所述封装层上形成彩色滤光层。
[0042]可选的，所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层依次包括:第一空穴功能层、第一发光层和第一界面修饰层，所述第三子像素对应的有机材料功能层依次包括:第二空穴功能层、第二界面修饰层、第二发光层和第二电子传输层，所述方法还包括:
[0043]在所述第一界面修饰层上形成电子传输附加层；
[0044]其中，所述第二发光层和所述电子传输附加层同层形成。
[0045]可选的，所述方法还包括:
[0046]采用溶液法制程工艺在所述第一空穴功能层上形成所述第一发光层。
[0047]可选的，所述方法还包括:
[0048]采用蒸镀法制程使用同一材料通过同一构图工艺在所述第二界面修饰层上形成所述第二发光层，同时在所述第一界面修饰层上形成所述电子传输附加层。
[0049]可选的，所述方法还包括:
[0050]在所述电子传输附加层上形成第一电子功能层。
[0051]可选的，所述第一发光层的发光颜色为黄色，所述第二发光层的发光颜色为蓝色。
[0052]可选的，所述第一子像素的颜色为红色，所述第二子像素的颜色为绿色，所述第三子像素的颜色为蓝色，所述彩色滤光层包括对应第一子像素的红色滤光层和对应第二子像素的绿色滤光层。
[0053]可选的，所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为20nm ;
[0054]所述第一发光层的厚度为60nmo
[0055]第三方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括对盒的阵列基板和封装基板，其中:
[0056]所述阵列基板为第一方面所述的阵列基板；
[0057]所述封装基板上靠近所述阵列基板一侧的面上或者远离所述阵列基板一侧的面上设置有彩色滤光层。
[0058]第四方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括第一方面所述的任一阵列基板；
[0059]或，所述显示装置包括第三方面所述的显示面板。
[0060]本发明的实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，该阵列基板的第一子像素和第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层，并且第一子像素对应的有机材料功能层和第二子像素对应的有机材料功能层相同，这样形成的阵列基板中的子像素的尺寸增大，克服了现有的工艺中制作设备无法实现更高分辨率的缺点，解决了基于现有的OLED结构在形成过程中由于制作工艺的限制，形成的产品分辨率较低的问题，提高了 OLED显示器件的分辨率，提高了画面的显示质量。
【附图说明】
[0061]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作