一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置的制造方法_4

文档序号:9378115阅读:来源:国知局
对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层,并且第一子像素对应的有机材料功能层和第二子像素对应的有机材料功能层相同,这样形成的阵列基板中的子像素的尺寸增大,克服了现有的工艺中制作设备无法实现更高分辨率的缺点,解决了基于现有的OLED结构在形成过程中由于制作工艺的限制,形成的产品分辨率较低的问题,提高了 OLED显示器件的分辨率,提高了画面的显示质量。进而,可以减少工艺流程,降低生产成本。
[0152]本发明的实施例提供一种显示装置,该显示装置包括图1?5对应的实施例提供的任一阵列基板,或者该显示装置包括图9对应的实施例提供的显示面板,该显示装置可以为:0LED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0153]本发明的实施例提供的显示装置,通过在显示装置中的阵列基板的第一子像素和第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层,并且第一子像素对应的有机材料功能层和第二子像素对应的有机材料功能层相同,这样形成的阵列基板中的子像素的尺寸增大,克服了现有的工艺中制作设备无法实现更高分辨率的缺点,解决了基于现有的OLED结构在形成过程中由于制作工艺的限制,形成的产品分辨率较低的问题,提高了 OLED显示器件的分辨率,提高了画面的显示质量。进而,可以减少工艺流程,降低生产成本。
[0154]以上所述,仅为本发明的【具体实施方式】,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种阵列基板,所述阵列基板包括:衬底基板,形成在所述衬底基板上的第一电极层,形成在所述第一电极层上的像素界定层,所述像素界定层上具有使所述第一电极层裸露的开口,所述有机材料功能层形成在所述第一电极层上与所述开口对应的位置,形成在所述有机材料功能层上的第二电极层,其特征在于, 所述阵列基板包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述第一子像素对应的有机材料功能层和所述第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层; 所述第一子像素对应的有机材料功能层与所述第二子像素对应的有机材料功能层相同。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括彩色滤光层,其中: 所述彩色滤光层设置在所述第一电极层靠近所述衬底基板一侧的面上。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括彩色滤光层,其中: 所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧。4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧,包括: 所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层一侧的面上。5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设置在所述第二电极层上的封装层,所述彩色滤光层设置在所述第二电极层远离所述有机材料功能层的一侧,包括: 所述彩色滤光层设置在所述封装层上。6.根据权利要求1?5任一所述的阵列基板,其特征在于,所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层依次包括:第一空穴功能层、第一发光层、第一界面修饰层,所述第三子像素对应的有机材料功能层依次包括:第二空穴功能层、第二界面修饰层、第二发光层和第二电子功能层,其中:所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层还包括电子传输附加层; 所述电子传输附加层设置在所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层中的所述第一界面修饰层的上面; 所述第二发光层和所述电子传输附加层为同层形成。7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层还包括:第一电子功能层,其中: 所述第一电子功能层设置在所述电子传输附加层的上面。8.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于, 所述第一发光层的发光颜色为黄色,所述第二发光层的发光颜色为蓝色。9.根据权利要求2?5任一所述的阵列基板,其特征在于, 所述第一子像素的颜色为红色,所述第二子像素的颜色为绿色,所述第三子像素的颜色为蓝色,所述彩色滤光层包括对应第一子像素的红色滤光层和对应第二子像素的绿色滤光层。10.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于, 所述彩色滤光层的厚度为I?2.5 μπι。11.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于, 所述第一发光层、所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为15?80nm。12.根据权利要求11所述的阵列基板,其特征在于, 所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为20nm ; 所述第一发光层的厚度为60nm。13.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于, 所述第二发光层和所述电子传输附加层的材料相同。14.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述阵列基板的像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述方法包括: 在衬底基板上形成第一电极层; 在所述第一电极层上形成像素界定层;其中,所述像素界定层上具有使所述第一电极层裸露的开口; 在所述第一电极层上与所述像素电极层上的开口对应的位置形成有机材料功能层;其中,所述第一子像素对应的有机材料功能层和所述第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层; 在所述有机材料功能层上形成第二电极层; 所述第一子像素对应的有机材料功能层与所述第二子像素对应的有机材料功能层相同。15.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 在所述第一电极层靠近所述衬底基板一侧的面上形成彩色滤光层。16.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 在所述第二电极层远离所述有机材料功能层一侧的面上形成彩色滤光层。17.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 在所述第二电极层上形成封装层; 在所述封装层上形成彩色滤光层。18.根据权利要求14?17任一所述的方法,其特征在于,所述第一子像素和所述第二子像素对应的有机材料功能层依次包括:第一空穴功能层、第一发光层和第一界面修饰层,所述第三子像素对应的有机材料功能层依次包括:第二空穴功能层、第二界面修饰层、第二发光层和第二电子功能层,所述方法还包括: 在所述第一界面修饰层上形成电子传输附加层; 其中,所述第二发光层和所述电子传输附加层同层形成。19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 采用溶液法制程工艺在所述第一空穴功能层上形成所述第一发光层。20.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 采用蒸镀法制程使用同一材料通过同一构图工艺在所述第二界面修饰层上形成所述第二发光层,同时在所述第一界面修饰层上形成所述电子传输附加层。21.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述方法还包括: 在所述电子传输附加层上形成第一电子功能层。22.根据权利要求18所述的方法,其特征在于, 所述第一发光层的发光颜色为黄色,所述第二发光层的发光颜色为蓝色。23.根据权利要求15?17任一所述的阵列基板,其特征在于, 所述第一子像素的颜色为红色,所述第二子像素的颜色为绿色,所述第三子像素的颜色为蓝色,所述彩色滤光层包括对应第一子像素的红色滤光层和对应第二子像素的绿色滤光层。24.根据权利要求18所述的方法,其特征在于, 所述第二发光层和所述电子传输附加层的厚度为20nm ; 所述第一发光层的厚度为60nm。25.—种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括对盒的阵列基板和封装基板,其中: 所述阵列基板为权利要求1所述的阵列基板; 所述封装基板上靠近所述阵列基板一侧的面上或者远离所述阵列基板一侧的面上设置有彩色滤光层。26.—种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1?13任一所述的阵列基板; 或,所述显示装置包括权利要求25所述的显示面板。
【专利摘要】本发明的实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,解决了现有OLED结构形成过程中因制作工艺限制形成的产品分辨率低的问题,提高了OLED显示器件的分辨率,提高了画面的显示质量。包括:衬底基板,形成在衬底基板上的第一电极层,形成在第一电极层上的像素界定层,像素界定层上具有使第一电极层裸露的开口,有机材料功能层形成在第一电极层上与开口对应的位置,形成在有机材料功能层上的第二电极层,第一子像素、第二子像素、第三子像素;第一子像素对应的有机材料功能层和第二子像素对应的有机材料功能层之间不设置像素界定层;第一子像素对应的有机材料功能层与第二子像素对应的有机材料功能层相同。
【IPC分类】H01L27/12, H01L21/77
【公开号】CN105097830
【申请号】CN201510325751
【发明人】廖金龙, 吴长晏
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年6月12日
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