(冷的)表面128之间的接触所需的横向弹性，但是该横向弹性由密封件120自身提供。来自真空密封件120的压力提供了充分的力以在夹144与散热器130之间形成良好的接触。这样的构型提供了夹144与侦睡128之间的较大的接触面积(即，最关键的点)。
[0043]图9和图10描绘了包括根据本公开内容的另一示例性实施方式的导热桥136的等离子体处理系统100。导热桥136具有如图10的俯视截面图中示出的同步带构型152。更具体地，导热桥136包括具有多个切口 150的弹簧加载式C形夹(与图7和图8类似)。这样的切口 150增加了 C形夹144的柔性，从而允许夹144调节成适应热源(或侧壁128)中的各种差异。在特定实施方案中，如在图9中示出的，导热桥136可以通过垫圈148与密封件120 (其提供用于接触的弹性)隔开，以避免真空密封件与桥的不规则表面的接触，这样的接触会机械地损坏密封件。
[0044]现参照图11，图示了具有等离子体处理室的等离子体处理系统200，其中，等离子体处理室具有平的热顶板。系统200包括具有室壁228、顶板212和感应线圈218的室，顶板212经由真空密封件220联接至室壁228，感应线圈218与顶板212的至少一部分相邻。在一种实施方式中，顶板212可以包括电介质材料比如石英材料。在室壁228与顶板212之间设置有导热桥236。导热桥236将从顶板212的与感应线圈218相邻的部分至室壁228的热路径234重新定向成使得热路径234绕开真空密封件220。在室壁228的相反侧与顶板212之间、靠近真空密封件220处也可以联接有第二导热元件238。可以包括该第二导热元件238以在真空密封件220周围(即，这里不再有可重新定向的热路径234)提供辅助冷却。
[0045]本文中描述的导热桥可以使用任何合适的装置来构造。例如，导热桥可以由金属、石墨泡沫、或具有高热导率的任何其他材料制成。此外，导热桥可以具有一定的接触长度以便将热路径的所需部分重新定向至散热器。例如，在一种实施方式中，接触长度可以大体上大于侧壁的厚度。由此，基本上所有的热通量将被重新定向至散热器。
[0046]本发明的这些和其他的改型和变型可以由本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围的情况下实施，在所附权利要求中更具体地陈述了本发明的精神和范围。另外，应当理解的是，各种实施方式的各个方面可以全部或部分地互换。此外，本领域的技术人员将理解的是前述描述仅作为示例而非旨在对在所附权利要求中描述的发明进行限制。
【主权项】
1.一种等离子体处理系统，包括: 真空室，所述真空室限定侧壁； 真空密封件，所述真空密封件将所述真空室的所述侧壁联接至散热器；以及 导热桥，所述导热桥联接在所述侧壁与所述散热器之间； 其中，所述导热桥相对于所述真空密封件定位成使得所述导热桥将从热源至所述散热器的导热路径重新定向成使得所述热路径绕开所述真空密封件。2.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥是挠性的并且能够符合所述真空密封件和所述真空室的形状。3.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其中，所述桥是弹性的，使得与所述热源以及与所述散热器的接触能够通过沿至少一个方向压缩所述桥而形成。4.根据权利要求3所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括用于与所述热源形成接触的第一部件和用于与所述散热器形成接触的第二部件。5.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括热传导部件和联接至所述热传导部件的弹性部件。6.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述热路径行进经过所述侧壁的至少一部分。7.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述导热桥定位成使得所述热路径绕开所述侧壁的与所述真空密封件抵接的部分。8.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述侧壁通过所述真空密封件和所述桥机械地连接至所述真空室的顶盖。9.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述散热器是所述等离子体室的顶盖。10.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述散热器是与所述真空室连通的等离子体处理室的顶板。11.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述侧壁包括石英材料。12.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述等离子体处理系统包括靠近所述真空密封件的等离子体挡板。13.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述等离子体处理系统包括绕所述等离子体室的所述侧壁定位的感应线圈。14.根据权利要求12所述的等离子体处理系统，其中，所述桥位于所述感应线圈与所述真空密封件之间。15.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥通过垫圈与所述真空密封件隔开。16.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥由金属或石墨泡沫构成。17.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括热传导部件和联接至所述热传导部件的挠性部件。18.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括螺旋衬垫。19.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括金属套筒，其中，所述金属套筒内部设置有O型环。20.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其中，所述桥包括弹簧加载式C形夹。21.根据权利要求20所述的等离子体处理系统，其中，所述弹簧加载式C形夹具有多个切口。22.一种等离子体处理系统，包括: 真空室，所述真空室包括侧壁； 感应线圈，所述感应线圈围绕所述侧壁的至少一部分包绕； 顶盖，所述顶盖经由第一真空密封件联接至所述侧壁； 第一导热桥，所述第一导热桥联接在所述侧壁与所述顶盖之间； 其中，所述导热桥位于所述感应线圈与所述第一真空密封件之间使得所述导热桥将从所述侧壁的与所述感应线圈相邻的部分至所述顶盖的热路径重新定向成使得所述热路径绕开所述第一真空密封件。23.根据权利要求22所述的等离子体处理系统，其中，所述真空室的所述侧壁经由第二真空密封件联接至等离子体处理室的顶板。24.根据权利要求23所述的等离子体处理系统，其中，所述系统还包括联接在所述侧壁与所述等离子体处理室的所述顶板之间的第二导热桥，其中，所述第二导热桥位于所述感应线圈与所述第二真空密封件之间使得所述导热桥将自所述侧壁的与所述感应线圈相邻的所述部分开始的热路径重新定向成使得所述热路径绕开所述第二真空密封件。25.—种在等离子体处理系统中保护密封件免于过热的方法，所述方法包括: 使用真空密封件将所述等离子体处理系统的侧壁联接至散热器；以及 通过导热桥将所述真空密封件与热源隔开，所述导热桥将从所述热源至所述散热器的导热路径重新定向成使得所述热路径绕开所述真空密封件。
【专利摘要】提供了用于在等离子体处理系统中保护真空密封件的系统和方法。该等离子体处理系统可以包括限定侧壁的真空室以及围绕侧壁的至少一部分包绕的感应线圈。在真空室的侧壁与散热器之间可以定位有真空密封件。在侧壁与散热器之间可以联接有导热桥。此外，导热桥可以相对于真空密封件定位成使得导热桥将从侧壁或任何热源至散热器的导热路径重新定向成使得热路径绕开真空密封件。
【IPC分类】H01L21/205, H01L21/324, H01L21/02, H01L21/3065
【公开号】CN105190837
【申请号】CN201480025553
【发明人】弗拉迪米尔·纳戈尔尼, 史蒂文·帕克斯, 马丁·朱克
【申请人】马特森技术有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2014年5月9日
【公告号】US20160013025, WO2014182981A1