用不与原料发生反应的气体。具体而言，例如可使用氮气(N2)。此外，作为惰性气体，除了 N2气体外，能够使用例如氦气(He)、氖气(Ne)、氩气(Ar)等稀有气体。
[0050]另外，主要由第一惰性气体供给管246a、MFC246c以及阀246d构成第一惰性气体供给系统。需要说明的是，也可认为在第一惰性气体供给系统中包含惰性气体供给源236b、第一气体供给管243a。此外，第一惰性气体供给系统可以认为包含于原料气体供给系统243。
[0051](反应气体供给系统)
[0052]在第二气体供给管244a的下游设置有RPU244e。从上游方向开始，在上游依次设置有反应气体供给源244b、作为流量控制器(流量控制部)的质量流量控制器(MFC) 244c以及作为开闭阀的阀244d。并且，从第二气体供给管244a将反应气体经由MFC244c、阀244d、RPU244e、共用气体供给管242而供给到簇射头230内。反应气体通过远程等离子体单元244e而成为等离子体状态，被照射到晶片200上。
[0053]反应气体是处理气体之一，例如使用氨气(NH3)。
[0054]主要由第二气体供给管244a、MFC244c、阀244d构成反应气体供给系统244。需要说明的是，可以认为在反应气体供给系统244包含反应气体供给源244b、RPU244e和后述的第二惰性气体供给系统。此外，反应气体供给系统244供给作为处理气体之一的反应气体，因此其相当于处理气体供给系统的另一个。
[0055]在第二气体供给管244a的阀244d的下游侧，连接有第二惰性气体供给管247a的下游端。从上游方向开始，在第二惰性气体供给管247a上依次设置有惰性气体供给源247b、作为流量控制器(流量控制部)的质量流量控制器(MFC) 247c以及作为开闭阀的阀247d0并且，从第二惰性气体供给管247a将惰性气体经由MFC247c、阀247d、第二气体供给管244a、RPU244e而供给到簇射头230内。
[0056]惰性气体作为反应气体的载体气体或稀释气体发挥作用。具体而言，例如可使用氮气(N2)。此外，作为惰性气体，除了 N2气体外，能够使用例如氦气(He)、氖气(Ne)、氩气(Ar)等稀有气体。
[0057]主要由第二惰性气体供给管247a、MFC247c以及阀247d构成第二惰性气体供给系统。需要说明的是，也可认为在第二惰性气体供给系统中包含惰性气体供给源247b、第二气体供给管243a、RPU244e。此外，第二惰性气体供给系统可以认为包含于反应气体供给系统244。
[0058](吹扫气体供给系统)
[0059]从上游方向开始，在第三气体供给管245a上依次设置有吹扫气体供给源245b、作为流量控制器(流量控制部)的质量流量控制器(MFC) 245c以及作为开闭阀的阀245d。并且，在衬底处理工序中，作为吹扫气体的惰性气体从第三气体供给管245a经由MFC245c、阀245d以及共用气体供给管242供给至簇射头230内。此外，在处理空间清洁工序中，根据需要，作为清洁气体的载体气体或稀释气体的惰性气体经由MFC245c、阀245d以及共用气体供给管242供给至簇射头230内。
[0060]从吹扫气体供给源245b供给的惰性气体在衬底处理工序中作为将积存于处理容器202、簇射头230内的气体吹扫的吹扫气体而发挥作用。此外，在处理空间清洁工序，可以作为清洁气体的载体气体或稀释气体发挥作用。具体而言，具体而言，作为惰性气体，例如可使用氮气(Ν2) ο此外，除了 Ν2气体外，能够使用例如氦气(He)、氖气(Ne)、氩气(Ar)等稀有气体。
[0061]主要由第三气体供给管245a、MFC245c以及阀245d构成吹扫气体供给系统245。需要说明的是，可以认为吹扫气体供给系统245包含吹扫气体供给源245b和后述的处理空间清洁气体供给系统。
[0062](处理空间清洁气体供给系统)
[0063]在第三气体供给管245a的阀245d的下游侧，连接有处理空间清洁气体供给管248a的下游端。从上游方向开始，在处理空间清洁气体供给管248a依次设置有处理空间清洁气体供给源248b、作为流量控制器(流量控制部)的质量流量控制器(MFC) 248c、及作为开闭阀的阀248d。并且，第三气体供给管245a在处理空间清洁工序中将清洁气体经由MFC248c、阀248d和共用气体供给管242供给到簇射头230内。
[0064]从处理空间清洁气体供给源248b供给的清洁气体，在处理空间清洁工序中作为将在簇射头230、处理容器202附着的副生成物等除去的清洁气体而发挥作用。具体而言，作为清洁气体，例如可以使用三氟化氮(NF3)气体。此外，例如既可以使用氟化氢(HF)气体、三氟化氯(CIF3)气体、氟(F2)气体等，也可以将它们组合使用。
[0065]主要由处理空间清洁气体供给管248a、MFC248c及阀248d构成处理空间清洁气体供给系统。需要说明的是，可以认为处理空间清洁气体供给系统包含处理空间清洁气体供给源248b、第三气体供给管245a。此外，也可以认为处理空间清洁气体供给系统包含于吹扫气体供给系统245。
[0066](气体排气系统)
[0067]将处理容器202的气氛排出的排气系统具有连接于处理容器202的多个排气管。具体而言，具有:与下部容器202b的搬送空间203连接的第一排气管(未图示)、与上部容器202a的排气缓冲室209连接的第二排气管222、和与簇射头230的缓冲空间232连接的第三排气管236。在第二排气管222设有作为第三加热部的加热器225、和作为检测第二排气管222的温度的温度检测部的热电偶226。加热器225控制成达到在第二排气管222流过的气体不附着于壁的温度。
[0068](第一气体排气系统)
[0069]第一排气管(未图示)连接于搬送空间203的侧面。在第一排气管设有涡轮分子栗(TMP:Turbo Molecular Pump，未图示)作为实现高真空或超高真空的真空栗。此外，在第一排气管中，在TMP的上游侧设有作为搬送空间用第一排气阀的阀。在第一排气管中，在TMP的下游侧也设有阀。需要说明的是，在第一排气管，除了 TMP之外，还可以设置未图示的干燥栗(DP:Dry Pump)。DP在TMP动作时作为其辅助栗发挥作用。也就是说，TMP及DP经由第一排气管将搬送空间203的气氛排出。并且，此时，由于作为高真空(或超高真空)栗的TMP难以单独进行直到大气压的排气，因此作为辅助进行直到大气压的排气的辅助栗而使用DP。
[0070]主要由第一排气管及阀构成第一气体排气系统。需要说明的是，可以将TMP、DP包含于第一气体排气系统。
[0071](第二气体排气系统)
[0072]第二排气管222经由设于排气缓冲室209的上表面或侧方的排气孔221而与排气缓冲室209内连接。在第二排气管222设有将与排气缓冲室209连通的处理空间201内控制为规定压力的压力控制器即APC (Auto Pressure Controller) 223。APC223具有可调整开度的阀体(未图示)，根据来自后述的控制器260的指示而调整第二排气管222的流导。在第二排气管222，在APC223的下游侧设有真空栗224。真空栗224经由第二排气管222将排气缓冲室209及与其连通的处理空间201的气氛排出。此外，在第二排气管222，在APC223的下游侧或上游侧、或这二者设有未图示的阀。
[0073]主要由第二排气管222、APC223及未图示的阀构成第二气体排气系统。需要说明的是，可以将真空栗224包含于第二气体排气系统。而且，真空栗224可以共用第一气体排气系统中的DP。
[0074](第三气体排气系统)
[0075]第三排气管236连接于缓冲空间232的上表面或侧面。也就是说，第三排气管236连接于簇射头230，由此与簇射头230内的缓冲空间232连通。在第三排气管236设有阀237。此外，在第三排气管236，在阀237的下游侧设有压力调整器238。而且，在第三排气管236，在压力调整器238的下游侧设有真空栗239。真空栗239经由第三排气管236将缓冲空间232的气氛排出。
[0076]主要由第三排气管236、阀237和压力调整器238构成第三气体排气系统。需要说明的是，可以将真空栗239包含于第三气体排气系统。而且，真空栗239可以共用第一气体排气系统中的DP。
[0077]在第一排气管263、第二排气管222、第三排气管236的下游设有未图示的DP(DryPump。干燥栗)。DP分别经由第一排气管、第二排气管222和第三排气管236而将缓冲空间232、处理空间201及搬送空间203的各自的气氛排出。此外，DP在TMP动作时作为其辅助栗发挥作用。即，由于作为高真空(或超高真空)栗的TMP难以单独进行直到大气压的排气，因此作为辅助进行直到大气压的排气的辅助栗而使用DP。上述的排气系统的各阀例如可使用气阀。
[0078](控制器)
[0079]衬底处理装置100具有控制衬底处理装置100的各部的动作的控制器260。控制器260至少具有运算部261和存储部262。控制器300与上述的各构成连接，根据上位控制器和/或使用者的指示来从存储部262调出程序和/或制程，并根据其内容控制各构成的动作。具体而言，控制器260控制闸阀205、升降机构218、加热器213、高频电源252、整合器251、MFC243c、244c、245c、246c、247c、248c、阀 243d、244d、245d、246d、247d、248d、APC223、TMP、DP、真空栗224、239、阀237等的动作。
[0080]需要说明的是，控制器260可以构成作为专用计算机，也可以构成作为通用的计算机。例如，准备存储了上述程序的外部存储装置(例如磁带、软盘、硬盘等磁盘；CD、DVD等光盘；M0等光磁盘；USB存储器、存储卡等半导体存储器)，通过使用该外部存储装置向通用的计算机安装程序而能构成本实施方式的控制器260。
[0081]此外，用于向计算机提供程序的手段不限于经由外部存储装置提供的情况。例如也可以使用互联网或专用线路等通信手段，不经由外部存储装置地提供程序。需要说明的是，存储部262、外部存储装置构成为计算机可读取记录介质。以下，也将它们统括地简称为记录介质。需要说明的是，在本说明书中使用了记录介质这样的措辞的情况下，有时仅包含存储部262，有时仅包含外部存储装置，或者包含上述两者。
[0082]