Oled显示基板及其制作方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Device，简称“OLED”)显示器件具备主动发光、温度特性好、功耗小、响应快、可弯曲、超轻薄和成本低等优点，已广泛应用于显不设备中。
[0003]OLED显示器件按照出光方向可以分为三种:底发射0LED、顶发射OLED与双面发射0LED。在底发射OLED中光从背板方向射出，在顶发射OLED中光从器件顶部方向射出，在双面发射OLED中光同时从基板和器件顶部射出。其中，顶发射OLED不受基板是否透光的影响，可有效提高显示面板的开口率，有利于与晶体管背板集成，并能够窄化光谱和提高色纯度，因此，顶发射OLED被广泛应用于平板显示器件中。
[0004]研究表明，顶发射0LED(Top Emitting 0LED，简称“TEOLED”)的光线输出效率低(即外量子效率低)，通常最高仅为20%，影响光取出的因素大致可以分为四种:波导效应、基板效应、表面等离子体效应、吸收效应。
【发明内容】
[0005]本发明提供一种OLED显示基板及其制作方法、显示装置，用以解决OLED显示装置的外量子效率低的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本发明实施例中提供一种OLED显示基板，包括设置在一基底上的像素界定层，用于界定像素区域，所述像素区域包括0LED，所述OLED包括依次设置在所述基底上的第一电极、有机发光层和第二电极，所述像素界定层的与其上表面相邻的侧面覆盖有反射层，所述像素界定层的所述上表面远离所述基底，所述第一电极由包括反射材料的材料制得。
[0007]本发明实施例中还提供一种显示装置，采用如上所述的OLED显示基板。
[0008]本发明实施例中还提供一种如上所述的OLED显示基板的制作方法，包括:
[0009]提供一基底；
[0010]在所述基底上形成像素界定层，用于界定像素区域；
[0011]在每一像素区域形成0LED，包括在所述基底上形成第一电极、有机发光层和第二电极的步骤，还包括:
[0012]在所述像素界定层的与其上表面相邻的侧面形成反射层，所述像素界定层的所述上表面远离所述基底；
[0013]通过对包括反射材料的导电膜层的构图工艺形成所述第一电极。
[0014]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0015]上述技术方案中，顶发射OLED显示基板包括覆盖像素界定层侧面的反射层，从而所述反射层与OLED的第一电极形成反射杯结构，增加对OLED发出光线的反射作用，降低波导效应，提高器件的外量子效率。
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1表示本发明实施例中OLED显示基板的结构示意图一；
[0018]图2表示本发明实施例中OLED显示基板的结构示意图二；
[0019]图3-图7表示图2中OLED显示基板的制作过程示意图。
【具体实施方式】
[0020]下面将结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0021 ] 实施例一
[0022]如图1所示，本实施例中提供一种顶发射OLED显示基板，包括设置在一基底1001上的像素界定层1011，用于界定像素区域。基底1001可以为透明基底，如:石英基底、玻璃基底、有机树脂基底。每一所述像素区域包括依次设置在基底1001上的第一电极1020、有机发光层(图中未不出)和第二电极(图中未不出)。第一电极1020由包括反射材料(如:Ag)的材料制得，可以为OLED的阳极。则所述第二电极为OLED的阴极，由透明导电材料(如:ZnO、IGO、IZ0、IT0、IGZ0)或薄层复合金属(如:MgAg)制得，可以为覆盖整个基底1001的板状电极，所有像素区域的OLED共用一阴极。
[0023]需要说明的是，第一电极1020也可以为OLED的阴极，则所述第二电极为OLED的阳极。本实施例中以第一电极1020为OLED的阳极为例，来具体介绍发明的技术方案。
[0024]为了便于描述，定义像素界定层1011的上表面为其远离基底1001的一面。像素界定层1011的与其上表面相邻的侧面覆盖有反射层1012。反射层1012和阳极1020形成反射杯结构，增加对OLED发出光线的反射作用，降低波导效应，提高器件的外量子效率。
[0025]其中，反射层1012可以由绝缘材料或导电材料制得。如图2所示，当反射层1012由导电材料制得时，阳极1020和反射层1012之间断开，实现绝缘，从而OLED的有机发光层与反射层1012对应的侧面部分不发光，保证反射层1012仅起到反射的作用，提高反射效果。进一步地，可以设置反射层1012同时覆盖像素界定层1011的上表面和与其上表面相邻的侧面。
[0026]为了简化制作工艺，当反射层1012由导电材料制得时，反射层1012与阳极1020为同层结构，阳极1020和反射层1012之间断开，从而不需增加单独制作反射层1012的工艺和材料，降低生产成本。具体可以通过底层过刻来断开反射层1012与阳极1020，并可以使反射层1012同时覆盖像素界定层1011的上表面和与上表面相邻的侧面，详细的工艺过程将在下面内容中介绍。
[0027]本实施例中，像素界定层1011的侧面覆盖有反射层1012，为了保证像素界定层1011的侧面具有足够大的面积，并能够承载反射层1012，需要设置像素界定层1011的至少一部分的纵截面为上小下大的梯形，且厚度较大。所述纵截面为像素界定层1011垂直于基底1001的截面。
[0028]当反射层1012和阳极1020为同层结构，由同一反射导电膜层形成时，可以设置像素界定层1011包括依次设置在基底1001上的第一绝缘层1010和第二绝缘层1000，第一绝缘层1010在基底1001上的第一正投影位于第二绝缘层1000在基底1001上的第二正投影内，且所述第一正投影和第二正投影的边缘间隔一定距离，从而在像素界定层1011上形成反射导电膜层时，会在像素界定层1011的边缘断开(如图2中的粗线框内示意)，形成位于像素区域内的阳极1020，以及覆盖像素界定层1011的上表面和与其上表面相邻的侧面的反射层1012。进一步地，设置第二绝缘层1000的厚度较大，可以由亚克力材料制得，其纵截面为上小下大的梯形，为反射层1012提供承载。而第一绝缘层1010的厚度可以较小，由无机绝缘材料制得，如:氮化硅、氧化硅。
[0029]OLED显示器件按驱动方式分为有源矩阵OLED显示器件和无源矩阵OLED显示器件。有源矩阵OLED矩阵显示器件绝缘低制造成本、响应速度快、功耗低、可用于便携式设备的直流驱动、工作温度范围大等优点，从而得到越来越多地应用。
[0030]有源矩阵OLED显示器件最常用的驱动元件为薄膜晶体管，其显示基板还包括位于每一像素区域的薄膜晶体管，OLED的阳极1020与薄膜晶体管的漏电极1007电性连接。通过栅扫描信号逐行打开每行的薄膜晶体管，像素电压通过薄膜晶体管传输至阳极1020，与阴极配合形成驱动有机发光材料发光的电压差，实现自主发光。
[0031]当反射层1012与OLED的阳极1020为同层结构，且两者之间断开时