[0181]在上述的第I和第2实施方式中，对将本发明应用于基板清洗装置的例子进行了说明，但本发明也可以应用于针对研磨后的基板进行抛光处理的抛光处理装置。即，本发明不仅可以应用于使用了 PVA这样的软质的海绵材料的基板清洗装置，还可以应用于抛光处理装置。这里，抛光处理中包含抛光研磨处理和抛光清洗处理中的至少一方。抛光处理装置可以是与研磨装置一体的装置，也可以是相对于研磨装置独立的装置。
[0182]抛光研磨处理是指通过一边使抛光垫与基板接触一边使基板与抛光垫相对运动，并使浆料(研磨液)夹在基板与抛光垫之间而对基板的处理面进行研磨去除的处理。抛光研磨处理是通常在以使基板的表面的凹凸平坦化、或者将形成于沟槽或通路等的内部以外的表面的多余的膜去除这样的目的进行的主研磨后，进行所谓的精研磨的处理。能够通过抛光研磨处理而去除基板表面的划痕或异物或者追加去除无法由主研磨去除的部位，或者改善主研磨后的形态。
[0183]另一方面，抛光清洗处理是指通过一边使抛光垫与基板接触一边使基板与抛光垫相对地运动、并使清洗处理液(药液、纯水)夹在基板与抛光垫之间而去除基板的表面的异物或者对基板的表面进行改性的精处理。在该抛光清洗处理中，与使用PVA这样的软质的海绵材料的清洗相比使较强的物理的作用力作用于基板。能够通过抛光清洗处理而有效地清洗去除仅利用接触由PVA构成的海绵材料而无法去除的粘着性较大的异物等。
[0184]图21是表示第3实施方式的抛光处理装置的概要的立体图。抛光处理装置30由如下部件构成:旋转卡盘31，保持基板S而以所需的转速进行水平旋转；能够旋转的笔抛光部件32，粘贴了由在表面形成有微细孔的泡沫聚氨酯构成的清洗部件；能够升降的摇摆臂33，在顶端保持笔抛光部件32 ;清洗液喷嘴34，向基板S的表面喷射清洗液；以及清洗杯35，对清洗工具进行清洗。笔抛光部件32被旋转轴36支承于摇摆臂33的顶端部分，以规定转速进行旋转。笔抛光部件32由如下部件构成:基部321，固定于旋转轴36 ;以及抛光垫322，安装于基部321的下方，形成笔抛光部件32的底面。
[0185]基板经过冲洗清洗或者刷子清洗的擦洗的工序，在除掉比较大的颗粒后被搬入到抛光处理装置30。以使基板S的表面向上方向露出的方式将基板S保持在旋转卡盘31上。当使所保持的基板S以规定转速旋转时同时从清洗液喷嘴34向基板S的中心喷射清洗。
[0186]关于摇摆臂33，设将笔抛光部件32收纳在清洗杯35内的下降位置为初始位置，笔抛光部件32在充满有清洗液的清洗杯35内旋转，进行自我清洁。位于初始位置的摇摆臂33停止笔抛光部件32的旋转并上升，从清洗杯35中取出臂顶端部的笔抛光部件32，在使摇摆臂33移动到基板S的中心后，借助摇摆臂33的下降而将笔抛光部件32的底面按压于基板S的表面。此时，笔抛光部件32在刚要与基板S接触之前开始以规定转速进行旋转。
[0187]与由旋转卡盘31支承且旋转的基板S的表面接触，并借助摇摆臂33将独立地绕旋转轴36旋转的笔抛光部件32的抛光垫322按压于基板S，使笔抛光部件32从基板S的中心部到外周部以规定的速度摇摆而擦洗基板S的表面。在停止摇摆到基板S的外周的摇摆臂33的摇摆后，使摇摆臂33上升，使笔抛光部件32从基板S的表面分离，将其设为I循环的动作。能够通过在基板S的外周部使位于上升位置的摇摆臂33再次移动到基板S的中心位置而重复进行上述的清洗动作。
[0188]在进行了 I次以上的上述动作后，在停止来自清洗液喷嘴34的清洗液，使摇摆臂33移动而将笔抛光部件32移动到清洗杯35的上方位置后，使笔抛光部件32下降而在清洗杯35内使笔抛光部件32旋转进行自我清洁，从而结束清洗动作。
[0189]在清洗刚结束之后，通过在干燥的惰性气体环境中，高速地使旋转卡盘31旋转，而对清洗后的基板S进行旋转干燥。使摇摆臂33从基板S的中心位置向外周部移动而进行清洗是因为如下缘故；基板S因旋转卡盘31旋转，存在于基板S的表面的污染物质或颗粒承受因旋转而产生的离心力，因而向与离心力作用的方向相同的方向刮落。
[0190]图22是抛光处理装置30的笔抛光部件32的纵剖面图。笔抛光部件32安装于旋转轴36的下端，笔抛光部件32由基部321与粘贴在基部321的下表面的抛光垫322构成。抛光垫322使用抛光用的研磨布，将其切割成适当的大小而粘贴在基部321的下表面。由于抛光用的研磨布是其背面能够粘接的密封件，因此使用该抛光用的研磨布进行粘贴。基部321以球面与旋转轴36接触，研磨布构成为，即使基板S倾斜也均匀地接触。
[0191]通常抛光垫322是对基板进行镜面且平坦研磨的用于抛光的研磨布，能够在市场上买到。例如，可以使用层叠了硬质泡沫聚氨酯和无纺布的垫(具体而言，例如能够在市场上买到的IC1000 (注册商标)/SUBA (注册商标)的变型)或绒面革类垫(具体而言，例如，能够在市场上买到的Supreme (注册商标))等。泡沫聚氨酯为多孔(多孔质状)，在其表面具有多处的微细的凹陷或者孔。
[0192]在本实施方式中，与第2实施方式同样，在笔抛光部件32的底面上形成多个(在本实施方式中为4个)缝323a?323d。以从笔抛光部件32的边缘到边缘不分岔的方式形成这些缝323a?323d。缝323a?323d以一定的宽度形成为直线形状。缝的深度可以像图22所示那样与抛光垫322的厚度相同，或者可以比其深也可以比其浅。
[0193]通过在笔抛光部件32上设置单向的缝323a?323d，而促进抛光垫322下方的处理液(浆料或清洗处理液)的供给、排出。当在抛光垫322下方处理液滞留时，在抛光研磨中会产生划痕，在抛光清洗中会污染基板，但通过促进液体的供给及排出，而能够防止在抛光研磨中产生划痕，能够在抛光清洗中提高清洗效果。
[0194]处理液除了来自液供给喷嘴34的供给，还可以在摇摆臂33、旋转轴36、笔抛光部件32的基部321和抛光垫322的中央设置开口部，通过经由该开口部而连通的液体供给管线从抛光垫322的中央处供给。
[0195]产业上的可利用性
[0196]本发明具有如下效果:由于利用I个突块使上游边缘多次擦拭被清洗面，因此提高I个突块的清洗力，或者由于在擦拭基板的表面的笔部件的底面上形成以从边缘到边缘不分岔的方式连续的缝，因此擦拭基板的表面的处理能力提高，并且供给到基板的表面的液体易于进入缝，且易于排出，能够将新鲜的液体供给到缝。本发明作为通过擦拭基板的表面而处理基板的表面的辊部件或者笔部件等是有用的。
【主权项】
1.一种辊部件，用于通过擦拭基板的表面而处理基板的表面，其特征在于， 该辊部件在表面具有突块， 所述突块在所述辊部件的旋转方向上具有多个上游边缘，该上游边缘为通过所述辊部件进行旋转而使所述突块的顶端面与所述基板的表面接触时位于上游侧的边缘。2.根据权利要求1所述的辊部件，其特征在于， 通过在所述突块的顶端面形成缝或者凹部而形成所述上游边缘。3.根据权利要求2所述的辊部件，其特征在于， 所述辊部件的旋转方向上相邻的所述突块具有在所述辊部件的旋转轴方向上彼此重叠的重叠部分，通过所述缝或者所述凹部而形成的所述上游边缘在所述辊部件的旋转轴方向上具有覆盖所述顶端面中的除所述重叠部分之外的非重叠部分的长度。4.根据权利要求2或3所述的辊部件，其特征在于， 所述缝或者所述凹部具有在深度方向上宽度变窄的形状。5.一种辊部件，用于通过擦拭基板的表面而处理基板的表面，其特征在于， 该辊部件在表面具有突块， 所述突块具有与所述辊部件的旋转方向不平行地延伸的缝或者凹部。6.根据权利要求5所述的辊部件，其特征在于， 所述缝以向所述辊部件的旋转方向凸出的方式弯曲。7.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有: 权利要求1至6中的任一项所述的辊部件； 旋转驱动单元，使所述辊部件绕旋转轴旋转；以及 基板保持单元，将所述基板保持成，在与所述辊部件的所述突块接触的位置，所述基板的表面与所述辊部件的旋转轴方向平行。8.一种笔部件，用于通过以底面擦拭基板的表面而处理基板的表面，其特征在于， 在所述底面上具有以从边缘到边缘不分岔的方式连续的缝。9.根据权利要求8所述的笔部件，其特征在于， 所述缝为直线状。10.根据权利要求8所述的笔部件，其特征在于， 在所述笔部件中形成有深度不同的多个所述缝。11.根据权利要求9所述的笔部件，其特征在于， 在所述笔部件中形成有深度不同的多个所述缝。12.根据权利要求8至11中的任一项所述的笔部件，其特征在于， 所述笔部件是对所述基板的表面进行清洗处理的笔清洗部件， 所述笔部件由软质的海绵构成。13.根据权利要求8至11中的任一项所述的笔部件，其特征在于， 所述笔部件是对所述基板的表面进行抛光处理的笔抛光部件， 所述笔抛光部件由基部、和设置于基部的下表面而作为所述底面的抛光垫构成。14.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有: 权利要求8至13中的任一项所述的笔部件； 旋转驱动单元，使所述笔部件绕与所述底面垂直的旋转轴旋转；以及 基板保持单元，将所述基板保持成，在与所述笔部件的所述底面接触的位置，所述基板的表面与所述笔部件的所述底面平行。15.一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有: 权利要求8至13中的任一项所述的笔部件；以及 基板旋转单元，保持所述基板并使所述基板旋转，使得:在与所述笔部件的所述底面接触的位置，所述基板的表面与所述笔部件的所述底面平行。
【专利摘要】本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。
【IPC分类】H01L21/67
【公开号】CN105575851
【申请号】CN201510724374
【发明人】石桥知淳
【申请人】株式会社荏原制作所
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年10月29日
【公告号】US20160126113