1.一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：包括环形的等离子体发生器、环形的原料喷射装置、淬冷室、收集室和冷却水管，所述等离子体发生器和原料喷射装置相对设置，所述等离子体发生器的环形直径小于原料喷射装置的环形直径，所述等离子体发生器设置有冷却装置，所述淬冷室和收集室设置有冷却水管，所述等离子体发生器、原料喷射装置位于淬冷室的中部。
2.根据权利要求1所述的环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述冷却装置包括通过等离子体发生器中心的冷却管，所述冷却管穿过原料喷射装置的环形中部连接到外置的冷却系统。
3.根据权利要求1所述的环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述等离子体发生器的环状设置有顺时针设置的切向入口。
4.根据权利要求1所述的环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述原料喷射装置的环状设置有逆时针设置的切向入口。
5.根据权利要求1所述的环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述收集室包括收集室上端和收集室下端，所述收集室上端的顶部通过螺纹与淬冷室联接，下端为带环形挡板的圆盘。
6.根据权利要求1所述的环形均匀气流供粉装置，其特征在于：在原料喷射装置周边设置有淬冷气体输送管，其出口与等离子体发生器的出口之间的距离能够调节，以调整滞止面的位置，延长原料颗粒在等离子体中的停留时间。