专利名称：摩擦方法、摩擦辊以及摩擦矫正装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及摩擦方法，特别是涉及能够形成均匀的取向膜的摩擦方法。
背景技术：
一直以来，被赋予了取向功能的取向膜被用作使液晶化合物在基材表面均匀排列的机构。通常，为了赋予取向膜以取向功能，对基材实施利用了摩擦布的摩擦处理。此时，若取向膜的取向限制力弱，则液晶化合物的取向变得不均匀，因而，产生漏光使液晶显示装置的对比度下降，成为辉点缺陷的原因。特别是，在用于TV的广视角、高对比度的光学补偿膜时，需要外观特性(辉点缺陷极少)优异的光学补偿膜。因此，必须对基材进行均匀的摩擦处理，并且，摩擦处理中使用的摩擦布的绒头纱线相对于取向膜按一定方向排列极为重要。
关于摩擦布，其布宽由织布机决定，通常沿摩擦布的长度方向即经线方向齐整地排列绒头纱线来制造。
另一方面，光学补偿膜的宽度比摩擦布的宽度宽，因此，以摩擦布的经线方向与摩擦辊的旋转方向正交的方式将摩擦布与摩擦辊贴合。即，绒头纱线的方向与摩擦辊的旋转方向为正交的位置关系。
因此，公开了将摩擦布的绒头纱线方向沿纬线方向配列后裁剪摩擦布的技术(专利文献1)。另外，还提出了在摩擦处理中使摩擦布与导电性摩擦布调节部件接触而使绒头纱线的朝向与摩擦旋转方向一致来进行摩擦处理的方案(专利文献2)。
专利文献1日本特表2004-522210 专利文献2日本特开平11-007019 然而，在专利文献1的方法中，布的使用受到限制例如经线比纬线长等，从供给性的观点出发，当进行使用了多种布的生产时会出现问题。另外，在专利文献2的方法中，在刚重贴摩擦布之后，绒头纱线的排列并不充分，导致取向膜限制力出现偏差。因此，在层叠了液晶化合物的光学补偿膜上会产生取向不良，成为液晶显示装置漏光、辉点缺陷的原因。
发明内容
本发明就是鉴于上述情况而完成的发明，其目的在于提供能对基材进行均匀的摩擦处理、取向膜限制力的偏差小的摩擦方法。
为了实现上述目的，本发明的摩擦方法是用摩擦布对基材进行摩擦处理的方法，其特征在于，具有如下工序将具有绒头纱线的摩擦布贴合于摩擦辊的工序；通过一边使上述摩擦辊旋转，一边使上述绒头纱线与矫正部件接触，且压入该绒头纱线，而使该绒头纱线以相对于摩擦辊的旋转方向具有0°～70°的平均倾斜度的状态来排列的工序；使上述摩擦布的上述绒头纱线与基材上的取向膜形成材料层接触，而对基材进行摩擦处理的工序。
根据本发明，由于利用矫正部件使摩擦布的绒头纱线以具有0°～70°的平均倾斜度的状态来排列，所以能够对基材进行均匀的摩擦处理，能够减小取向膜限制力的偏差。
这里，倾斜度是指摩擦辊的旋转方向与从绒头纱线的顶端到底部的方向所成的角度。平均倾斜度(绝对值)是指用显微镜观测500μm×500μm尺寸的摩擦布时各绒头纱线的倾斜角(绝对值)的平均值。
在本发明的摩擦方法中，上述矫正部件与上述摩擦布的地组织之间的间距若在上述规定的范围内，则形状没有特殊限制。若矫正部件的形状为圆筒状辊，则可以牵连旋转(連れ回り)(自如旋转)，能沿长度方向以良好的精度对矫正部件进行加工，能沿摩擦辊轴方向使矫正机构与摩擦辊的间隙为恒定，还能根据矫正部件的材质等来调节摩擦功。
另外，当矫正部件被固定时(不牵连旋转时)，矫正部件与摩擦辊相接的面的形状可以为直线状、凸面状、凹面状。若为直线状，则矫正部件的加工简单，若为凸面状，则对绒头纱线的破坏少，若为凹面状，则能扩大与摩擦布(绒头纱线)的接触面积，因而，能够缩短矫正时间，并能够借助摩擦辊转速的降低来抑制绒头纱线的损伤。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，利用上述矫正部件而贴合于上述摩擦辊的摩擦布的绒头纱线压入量(P)满足下述式。
0.2≤P≤0.9 (1) (其中，P＝1-L/L1，P绒头纱线压入量(-)，L1绒头纱线长度(mm)，L矫正部件与摩擦布地组织的距离(mm)) 本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，利用上述矫正部件而贴合于上述摩擦辊的摩擦布的绒头纱线压入量(P)满足下述式。
0.5≤P≤0.9 (2) 即对使绒头纱线的平均倾斜度为0°～70°所适宜的绒头纱线的压入量进行了规定。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件与摩擦布地组织之间的距离(L)和绒头纱线压入量(P)为L0.3mm～1.3mm(P0.2～0.9)，优选L0.3mm～0.8mm(P0.5～0.9)。这是因为若距离(L)不足0.3mm、压入量(P)不足0.2，则矫正部件损害摩擦布的地组织的可能性增加，若距离(L)超过1.3mm、压入量(P)超过0.9，则矫正部件对绒头纱线的矫正效果不充分。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件具有Ra 6.0μm以下的表面粗糙度。通过使表面粗糙度为Ra 6.0μm以下，能够防止矫正部件对绒头纱线的损伤。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件为维氏硬度HV 200以上的金属性部件。本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件为洛氏硬度HRD 119以上的树脂性部件。根据矫正部件的材质来限定使硬度为规定范围以上。由此，能够防止矫正部件被绒头纱线刮掉而导致矫正部件附着在绒头纱线上。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件引起的摩擦功(Ek)满足下述式。
50<Ek(J)<10000…(3) (其中，Ek＝F·S·T·N，F施加于摩擦布的圆周方向的力(N/m)，S矫正有效长度(m)，T时间(分钟)，N摩擦辊的转速(rpm)) 本发明中，将矫正部件引起的摩擦功(Ek)设定为50～10000的范围，因此，不管矫正部件的材质、形状以及有无牵连旋转，均可以排列绒头纱线。另外，无论摩擦布的种类如何，也可以排列绒头纱线，因此，摩擦布的使用不受限制，且从供给性的观点出发，能够进行利用多种布的生产。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件为维氏硬度HV 200以上的金属性部件。本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，上述矫正部件为洛氏硬度HRD 119以上的树脂性部件。根据矫正部件的材质来限定使硬度为规定范围以上。由此，能够防止矫正部件被绒头纱线刮掉而导致矫正部件附着在绒头纱线上。
本发明的摩擦方法的特征在于，在上述发明中，通过上述绒头纱线的排列工序使绒头纱线排列成具有0°～70°、优选0°～30°的平均倾斜度(绝对值)。这是因为平均倾斜度(绝对值)越小、即绒头纱线的排列与摩擦辊的旋转方向越一致，则被摩擦处理的取向膜的取向限制力越高。
为了实现上述目的，本发明的摩擦辊是贴合有具有绒头纱线的摩擦布的摩擦辊，其特征在于，以使上述绒头纱线相对于摩擦辊的旋转方向预先具有0°～70°的平均倾斜度的方式来进行矫正处理。
本发明的摩擦辊优选的是，在上述发明中，上述矫正处理中，一边使上述摩擦辊旋转，一边使上述绒头纱线与矫正部件接触，并且将该绒头纱线压入。
为了实现上述目的，本发明的摩擦矫正装置的特征在于，其具有贴合有具有绒头纱线的摩擦布的摩擦辊；以与上述绒头纱线接触的方式而相对于上述摩擦布的地组织间隔规定距离设置的矫正部件。
根据本发明，由于摩擦布的绒头纱线通过矫正部件而排列，所以能够对基材进行均匀的摩擦处理，从而能够减小取向膜限制力的偏差。
图1是表示摩擦布坯布卷的构成的说明图。
图2是表示从摩擦布坯布卷裁剪下摩擦布的说明图。
图3是表示绒头纱线的排列方法以及排列方向的说明图。
图4是排列绒头纱线的装置的主要部分放大图。
图5是表示应用本发明的摩擦方法的光学膜的生产线的说明图。
图6是用于说明摩擦功(Ek)的说明图。
图7是表示矫正部件与摩擦布之间的阻力的说明图。
图8是表示绒头纱线的平均倾斜度(绝对值)与摩擦功(Ek)的关系的曲线图。
图9是汇总实施例和比较例的条件和评价的表格。
图10是表示矫正部件的实施例的概略构成图。
附图标号说明 1…摩擦布料、2…经线、3…纬线、4…绒头纱线、5…摩擦布坯布卷、6…摩擦布、7…摩擦辊、8…矫正部件、9…双面胶带、10…间隔件
具体实施例方式 以下，结合附图，以光学补偿膜为例对本发明的优选实施方式进行说明。虽然通过下述的优选实施方式对本发明进行了说明，不过，只要在不脱离本发明范围的前提下，可以利用多种方法来进行变更，并且能够利用本实施方式以外的其他实施方式。因此，本发明的范围内的所有变更均包含在权利要求书中。
另外，在本说明书中，用“～”表示的数值范围是包括在“～”前后记载的数值的范围。
图1是表示本发明使用的摩擦布料1的构成的说明图。该摩擦布料1是在由地组织的经线2和地组织的纬线3交织成格子状的底布上织入绒头纱线4而得到的布料。通常，绒头纱线4沿经线2的方向织入。绒头纱线4的长度通常为1.5mm～2.5mm。摩擦布料1为卷取于辊上的摩擦布坯布卷5。
作为底布和绒头纱线，例如使用选自尼龙6.6(注册商标)等聚酰胺系、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯系、聚乙烯等聚烯烃系、聚乙烯醇系、聚偏氯乙烯系、聚氯乙烯系、聚丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等丙烯酸系、聚偏氰乙烯系、聚氟乙烯系、聚氨酯系等的合成纤维、丝绸、木棉、羊毛、纤维素系、纤维素酯系等天然纤维、再生纤维(人造丝、醋酸人造丝等)中的1种或2种以上组合而成的纤维。
一般情况下，光学补偿膜的宽度比摩擦布坯布卷5的宽度W宽。为了沿光学补偿膜的整个宽度方向进行摩擦处理，需要宽度为光学补偿膜的宽度以上的摩擦布6。实际上，按照长度为光学补偿膜的宽度以上的摩擦辊的长度，如图2所示那样，从摩擦布坯布卷5来裁剪摩擦布6。
接着，参照图6，对摩擦功(Ek)进行说明。摩擦功(Ek)由Ek＝F·S·T·N…(1)来求出。F为矫正部件8施加于摩擦布6(绒头纱线4)的圆周方向的力(N/m)。S为矫正有效长度(m)。由于摩擦辊7和矫正部件8具有圆筒状的形状，所以由矫正部件8施加于摩擦布6的力的范围限定于S。S的范围为矫正部件8与摩擦布6的地组织的距离(间隙)L为1.3mm以下的范围。这是因为通过保持在该范围内，矫正部件对绒头纱线的矫正效果充分。N为摩擦辊的转速(rpm)，T为时间(min)。因而，式(1)表示矫正部件8长度方向上的平均单位长度的摩擦功。
接着，参照图7，对由矫正部件8施加于摩擦布6(绒头纱线4)的圆周方向的力F(N/m)的求算方法进行说明。利用图7(b)所示的实验装置测定圆周方向的力F。在实验装置中，用推拉力计将摩擦布按压于矫正部件上，以测定摩擦布与矫正部件的阻力。
测定结果的平均值绘于图7(a)的图表。图7(a)的图表的纵坐标表示平均单位长度上的阻力(N/m)。该阻力为圆周方向的力F。横坐标表示矫正部件与摩擦布的间隙。该图表表明间隙越小，摩擦布与矫正部件的阻力越大。
图表中的“固定”是指矫正部件以不牵连旋转的状态被固定。“牵连旋转”是指矫正部件自如旋转，跟随摩擦布的移动而旋转。由该图表可导出矫正部件与摩擦布的圆周方向的力。
如图3(a)所示，被裁剪的摩擦布6借助双面胶带等粘贴于摩擦辊7。此时，以摩擦布6的经线2的方向与摩擦辊7的旋转方向正交的方式、即经线2与摩擦辊7的旋转轴平行的方式，将摩擦布6贴合于摩擦辊7。
另外，矫正部件8设于距离借助双面胶带粘贴于摩擦辊7的摩擦布地组织为0.3mm～1.3mm、更优选为0.3～0.8mm的间隔(间隙)的位置。矫正部件8具有50～150mm的外径，长度为摩擦辊7的长度以上即600～2200mm的长度。
关于矫正部件8的材质，优选用摩擦电序与摩擦布6的材质(人造丝)接近的尼龙、玻璃、丙烯酸材料来制造。摩擦电序中，若用距离远的材料彼此进行摩擦处理，则容易产生静电，在摩擦布6上易附着异物。另一方面，在摩擦电序中，若用距离近的材料彼此进行摩擦处理，则能减少静电的产生量。
圆筒状辊形状的矫正部件8优选为维式硬度HV 200以上的金属性部件。另外，圆筒状辊形状的矫正部件8优选为洛式硬度HRD119以上的树脂性部件。通过使矫正部件8为上述材质和硬度范围，能够防止矫正部件8过软而附着于摩擦布顶端，从而更稳定地进行绒头纱线4的排列。
接着，如图3(b)所示，一边使摩擦辊7旋转，一边使绒头纱线4与矫正部件8接触。此时，使绒头纱线4与矫正部件8接触一定时间，以使矫正部件8与摩擦布6的摩擦功(Ek)为50～10000。绒头纱线4相对于摩擦辊7以规定的倾斜度排列。摩擦辊7的转速以及与矫正部件8的接触时间可以根据绒头纱线4的种类、长度以及平均倾斜度来设定，使摩擦功(Ek)为50～10000。
图3(c)表示矫正后的摩擦布6的状态。这里，倾斜度是指箭头所示的摩擦辊的旋转方向与从绒头纱线4的顶端(线端)4a到底部4b的方向所成的角度θ。另外，平均倾斜度(绝对值)是指用显微镜观察500μm×500μm尺寸的摩擦布6时各绒头纱线4的倾斜度(绝对值)的平均值。在本发明中，当该平均倾斜度(绝对值)为0°～70°时，摩擦处理后的取向膜的取向限制力增高，因光学膜的取向紊乱引起的辉点减少，所以其是优选的。此外，平均倾斜度(绝对值)更优选为0°～30°。摩擦辊的转速以及与矫正机构的接触时间可以根据绒头纱线4的种类、长度以及平均倾斜度来适当选择。
这样，在进行实际的摩擦处理前，绒头纱线以具有规定的平均倾斜度排列，使用绒头纱线被排列的摩擦布对基材实施摩擦处理。
图4是用于排列绒头纱线4的装置的主要部位放大图。如上所述，矫正部件8与摩擦辊7、即矫正部件8与摩擦布的地组织以具有一定间隙L的方式配置。间隙L可以根据摩擦布6的绒头纱线4的长度L1、用于将摩擦布6贴合于摩擦辊7的双面胶带9的厚度t以及绒头纱线4与矫正部件8接触的长度等来决定。在本实施方式中，当绒头纱线4的长度L1为1.8mm，双面胶带9的厚度t为0.1mm时，间隙L设定在0.3～0.8mm的范围。用间隔件10等调节矫正部件8与摩擦辊7的间隙。在摩擦布6贴合于摩擦辊7时，绒头纱线4的方向与摩擦辊7的旋转方向为正交的位置关系。但是，该绒头纱线4的方向并非是适合摩擦处理的方向。在本发明中，在进行实际的摩擦处理前，使摩擦辊7例如沿箭头方向以50～1200rpm旋转1～30分钟，使摩擦布6的绒头纱线4与矫正部件8接触。通过与矫正部件8接触，绒头纱线4以具有一定的倾斜度地排列。
关于矫正部件8，可以不旋转而固定，也可以不固定而跟随摩擦辊7的旋转而牵连旋转(自如旋转)。通过使矫正部件8牵连旋转(自如旋转)，即使在矫正部件的硬度高的情况下，也能减小矫正部件与摩擦辊的剪切力，能使绒头纱线的线端的形状良好。另一方面，由于矫正部件的强制力减弱，有时布纹平均角度会产生偏差，但通过适当选择矫正部件的硬度、时间、摩擦转速，则能够缓和此问题。
在摩擦处理中，摩擦处理采用绒头纱线排列用的摩擦辊。另外，在摩擦处理用的摩擦辊上重贴摩擦布后，也可以用该摩擦辊进行摩擦处理。
图10是表示本发明优选使用的矫正部件8的形状。图10(a)中，矫正部件8具有圆筒状辊的形状。通过制成该形状，能够牵连旋转(自如旋转)。另外，能沿长度方向以良好的精度对矫正部件8进行加工。能沿摩擦辊7的轴方向使矫正部件8与摩擦辊7之间的间隙恒定。还可以根据矫正部件8的材质等来调节摩擦布的摩擦功。
另外，当矫正部件8被固定时(不牵连旋转时)，矫正部件8与摩擦辊7相接的面的形状可以为直线状、凸面状、凹面状。
例如，若如图10(b)所示，矫正部件8与摩擦辊7相对的面为直线状，则易于进行矫正部件的加工。
此外，如图10(c)所示，也可以使矫正部件8与摩擦辊7相对的面为朝向摩擦辊7的凸面形状。将矫正部件8制成凸面形状，能减少对绒头纱线造成的破坏。
如图10(d)所示，也可以使矫正部件8与摩擦辊7相对的面制成相对于摩擦辊7为凹面形状。将矫正部件8制成凹面形状，能扩大与摩擦布(绒头纱线)的接触面积。因此，能够缩短矫正时间，并能借助摩擦辊转速的减少来抑制绒头纱线的损伤。
图10中示出了代表性的矫正部件8的形状，在本发明中，若上述矫正部件与上述摩擦布的地组织之间的间距在上述规定的范围内，则形状不局限于图10。
最后，按矫正部件的材质及其固定方法分别将绒头纱线的平均倾斜度(绝对值)和摩擦功(Ek)的值绘于图8的图表。图8的图表的纵坐标表示绒头纱线的平均倾斜度(绝对值)。另一方面，横坐标表示摩擦功(Ek)。
由该图表表明若摩擦功(Ek)为50以上，则能使本发明的目标绒头纱线平均倾斜度(绝对值)为0°～70°。
接着，根据图5对使用了本发明的摩擦方法的光学补偿膜的生产线进行说明。在光学膜的生产线20中，如图5所示，从送出机26送出带状可挠性的支撑体即织网(ウエブ)26。织网26被导辊68引导而经过除尘机25A。利用该除尘机25A能除去附着在织网26的表面上的灰尘。
在除尘机25A的下游设有棒涂布装置21A，含有取向膜形成用树脂的涂布液涂布到织网26上。在其下游依次设有干燥区域76A、加热区域78A，在织网26上形成有取向膜形成材料层。
另外，也可以采用棒涂布装置以外的涂布机构。作为其他涂布机构，可以采用凹版涂布机、辊涂布机(转移辊涂布机、逆转辊涂布机等)、模涂机、挤压涂布机、喷泉式涂布机、帘式涂布机、浸渍涂布机、喷雾涂布机或滑动加料斗等。
图5中，在涂布液的涂布、干燥后，织网26被导辊68引导，被输送至摩擦处理装置70。摩擦处理装置70由串联设置的同一规格的2台摩擦处理装置70A、70B构成。摩擦处理装置70具备外周表面卷绕有摩擦布6的摩擦辊72A(72B)、借助弹簧设置于辊台84A(84B)和辊台84A(84B)的下面的支承辊86A(86B)、88A(88B)。摩擦辊72A(72B)的形状例如为外径100～400mm，其长度至少比织网26的宽度长，为500～2000mm。摩擦辊72A(72B)为相对于织网26的行进方向能在水平面内自如旋转的结构，以使能够任意调节摩擦辊72A(72B)的旋转轴和与织网26的行进方向垂直的方向所成的角度(摩擦角度)。另外，能够将摩擦辊72A(72B)的转速控制在例如1000rpm左右。
支承辊86A(86B)、88A(88B)具备检测织网26的张力的机构，能管理摩擦时的张力。此外，支承辊86A(86B)、88A(88B)能够上下调节，通过使辊上下移动，能够调节织网26向摩擦辊72A(72B)的搭接角。
在摩擦处理中，卷绕有矫正了绒头纱线的排列的摩擦布6的摩擦辊72A(72B)以300～600rpm沿与织网26的输送方向相反的方向旋转。对织网26施加规定的压力，以使摩擦布6的绒头纱线与取向膜形成材料层接触，用绒头纱线擦拭取向膜形成材料层，对织网26进行摩擦处理。
在摩擦处理装置70的下游设有除尘机25B，能除去附着在带26的表面的灰尘。在除尘机25B的下游设有棒涂布装置21B，在织网26上涂布含有盘状向列型液晶的涂布液。棒涂布装置21B的构成可以与已述的棒涂布装置21A相同。
在棒涂布装置21B的下游，依次设有干燥区域76B、加热区域78B，能在织网26上形成液晶层。此外，在其下游设有紫外线灯80，通过紫外线照射，使液晶交联，能形成所希望的聚合物。然后，用检测装置90检测，在织网26上层压从层压机92送出的保护膜94，通过设于其下游的卷取机82，卷取形成了聚合物的织网26。
接着，对本发明使用的光学补偿膜的材料进行说明。作为本发明的摩擦方法的对象的光学补偿膜，由透明树脂膜、设于其上的取向膜以及取向膜上形成的盘状向列相的液晶层(也称为光学各向异层)构成。
作为上述透明树脂膜的材料，只要透明即可，可以使用任何材料。优选透光率为80％以上的材料，特别优选从正面观察时具有光学各向同性的材料。
因此，透明树脂膜优选由具有小的固有双折射的材料来制造。作为这样的材料，可以使用三醋酸纤维素{市售品的例子有ZEONEX(日本泽恩株式会社制)、ARTON(日本合成橡胶株式会社制)以及Fujitac(富士胶片株式会社制)}。此外，通过适当设定溶液流涎、熔融挤出等条件、沿纵向、横向延伸情况，也能使用聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜以及聚醚砜等固有双折射率大的材料。
当透明支撑体(透明树脂膜)面内的主折射率为nx、ny，厚度方向的主折射率为nz，膜的厚度为d时，三轴的主折射率的关系满足nz<ny＝nx(负的单轴性)，式{(nx+ny)/2-nz}×d表示的延迟值优选为从20nm到400nm(优选30～150nm)。
但是，nx和ny的值无需严格相等，大致相等即可。具体而言，若|nx-ny|/|nx-nz|≤0.3，在实际应用上就没有问题。以|nx-ny|×d表示的正面延迟值优选为50nm以下，更优选为20nm以下。
取向膜通常设置在透明支撑体上。取向膜具有规定设置在其上的液晶性盘状化合物的取向方向的功能。并且，该取向赋予从光学补偿膜倾斜了的光轴。
作为取向膜，可以列举有机化合物(优选聚合物)经摩擦处理得到的层。
作为取向膜形成材料的有机化合物的例子，可以列举聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯/马来酰亚胺共聚物、聚乙烯醇、聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、聚乙烯、聚丙烯以及聚碳酸酯等聚合物以及硅烷偶联剂等化合物。
作为优选的聚合物的例子，可以列举聚酰亚胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物的聚合物、明胶、聚乙烯醇以及具有烷基(优选碳原子数为6以上)的改性聚乙烯醇。通过将这些聚合物的层进行摩擦处理而得到的取向膜能使液晶性盘状化合物倾斜取向。
光学补偿膜中，在取向膜上形成盘状向列相的液晶层。液晶层是通过在液晶性盘状化合物取向后使其冷却固化或聚合性液晶性盘状化合物的聚合(固化)而得到的具有负的双折射的层。
作为上述盘状化合物的例子，可以列举在C.Destrade等的研究报告、Mol.Cryst.、71卷、111页(1981年)中记载的苯衍生物、C.Destrade等的研究报告、Mol.Cryst.、122卷、141页(1985年)、Physicslett.、A，78卷、82页(1990)中记载的三亚茚衍生物、B.Kohne等的研究报告、Angew.Chem.96卷、70页(1984年)中记载的环己烷衍生物以及J.M.Lehn等的研究报告、J.Chem.、Commun.、1794页(1985年)、J.Zhang等的研究报告、J.Am.Chem.Soc.、116卷、2655页(1994年)中记载的氮杂冠醚系或苯乙炔系大环等。
上述盘状(圆盘状)化合物通常为以它们为分子中心的母核并使直链的烷基或烷氧基、取代苯甲酰氧基等以其直链的方式呈放射线状取代得到的结构，呈现液晶性，一般被称为盘状液晶。但是，分子自身具有负的单轴性、能赋予一定的取向的化合物不限于上述内容。
[实施例] 在本发明的实施例中，在作为透明支撑体的三醋酸纤维素上涂布由聚甲基丙烯酸甲酯形成的取向膜形成材料，实施摩擦处理。在摩擦处理后的取向膜上形成盘状液晶。
图9的表为汇总表示本发明的实施例(1-29)和比较例(1-6)的绒头纱线的矫正条件、矫正后的绒头纱线的平均倾斜度(绝对值)、绒头纱线材质和损伤以及取向膜的取向性的一览表。
从显微镜图像算出绒头纱线的平均倾斜度(绝对值)。通过确认SEM图像来评价绒头纱线的损伤。通过确认消光度来评价取向膜的取向性。这里，消光度是指“本发明的光学补偿膜的消光度，在正交尼科尔配置的2块偏振板之间以透射率最小的方式配置本发明的光学补偿膜时测定的透射率。透射率的测定波长为550nm，平行尼科尔配置的偏振板的透射率为100％。”。也就是说，监测消光度意味着监测接近最终产品的状态，其观察结果由摩擦处理来反映，能稳定地制造光学补偿膜。另外，关于辉点发生频率而言，通过用光电元件计数经由正交尼科尔配置的2块偏振板所检测的辉点，从而算出在摩擦处理后的取向膜上形成了盘状液晶而得到的膜的辉点。
表中，“布纹矫正”是指用矫正部件对摩擦布实施矫正处理。部件的牵连旋转中的“无”是指将矫正部件固定了的状态。另外，“有”是指矫正部件自如旋转，跟随摩擦辊牵连旋转。
作为综合评价，无法作为产品的为×，能允许的为△，能允许且更好的为○，作为产品更好的为◎。
图9的表表明，在满足本发明的条件的情况下，综合评价均为△以上的评价。
权利要求
1.一种摩擦方法，其是用摩擦布对基材进行摩擦处理的方法，其特征在于，具有如下工序
将具有绒头纱线的摩擦布贴合于摩擦辊的工序；
通过一边使所述摩擦辊旋转，一边使所述绒头纱线与矫正部件接触，且压入该绒头纱线，而使该绒头纱线以相对于摩擦辊的旋转方向具有0°～70°的平均倾斜度的状态来排列的工序；
使所述摩擦布的所述绒头纱线与基材上的取向膜形成材料层接触而对基材进行摩擦处理的工序。
2.根据权利要求1所述的摩擦方法，其特征在于，
利用所述矫正部件而贴合于所述摩擦辊的摩擦布的绒头纱线压入量(P)满足下述式，
0.2≤P≤0.9 (1)
其中，P＝1-L/L1，P绒头纱线压入量(-)，L1绒头纱线长度(mm)，L矫正部件与摩擦布地组织的距离(mm)。
3.根据权利要求2所述的摩擦方法，其特征在于，
利用所述矫正部件而贴合于所述摩擦辊的摩擦布的绒头纱线压入量(P)满足下述式，
0.5≤P≤0.9 (2)。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的摩擦方法，其中，
所述矫正部件具有Ra6.0μm以下的表面粗糙度。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的摩擦方法，其中，
所述矫正部件为维氏硬度HV200以上的金属性部件。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的摩擦方法，其中，
所述矫正部件为洛氏硬度HRD119以上的树脂性部件。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的摩擦方法，其中，
所述矫正部件引起的摩擦功(Ek)满足下述式，
50<Ek(J)<10000…(3)
其中，Ek＝F·S·T·N，F施加于摩擦布的圆周方向的力(N/m)，S矫正有效长度(m)，T时间(分钟)，N摩擦辊的转速(rpm)。
8.根据权利要求7所述的摩擦方法，其中，
所述绒头纱线通过所述排列工序而排列成具有0°～30°的平均倾斜度。
9.一种摩擦辊，其是贴合有具有绒头纱线的摩擦布的摩擦辊，其中，
以使所述绒头纱线相对于摩擦辊的旋转方向预先具有0°～70°的平均倾斜度的方式来进行矫正处理。
10.根据权利要求9所述的摩擦辊，其中，
所述矫正处理中，一边使所述摩擦辊旋转，一边使所述绒头纱线与矫正部件接触，并且将该绒头纱线压入。
11.一种摩擦矫正装置，其中，其具有
贴合有具有绒头纱线的摩擦布的摩擦辊；
以与所述绒头纱线接触的方式而相对于所述摩擦布的地组织间隔规定距离设置的矫正部件。
全文摘要
本发明的目的在于提供能对基材进行均匀的摩擦处理、取向膜限制力的偏差小的摩擦方法。该摩擦方法中，将具有绒头纱线(4)的摩擦布(6)贴合于摩擦辊(7)之后，通过一边使摩擦辊(7)旋转，一边使绒头纱线(4)与矫正部件(8)接触，且压入绒头纱线(4)，而使绒头纱线(4)以相对于摩擦辊(7)的旋转方向具有0°～70°的平均倾斜度的状态来排列，并使摩擦布(6)的绒头纱线(4)与基材上的取向膜形成材料层接触，从而对基材进行摩擦处理。
文档编号G02F1/13GK101546068SQ20091013014
公开日2009年9月30日 申请日期2009年3月27日 优先权日2008年3月27日
发明者孤岛永周, 伊藤秀知 申请人:富士胶片株式会社