专利名称：放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法以及显示元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及适合作为层间绝缘膜、保护膜或隔片等固化膜的形成材料的放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的固化膜、固化膜的形成方法以及显示元件。
背景技术：
薄膜晶体管(TFT)型液晶显示元件等电子部件中一般设置层间绝缘膜以使层状配置的布线间绝缘。例如，TFT型液晶显示元件经过在层间绝缘膜上形成透明电极膜，然后在其上形成液晶取向膜的工序制造。因该层间绝缘膜在透明电极膜的形成工序中暴露在高温条件下，或者暴露在形成电极图案时使用的抗蚀剥离液中，所以必须要有针对它们的足够的耐热性和耐化学腐蚀性。另外，形成这种固化膜时使用的放射线敏感性树脂组合物要求缩短反射线的照射时间(也就是，高的放射线灵敏度)以及良好的保存稳定性。此外，近年来，应用TFT技术的轻质小型的柔性显示器正逐渐普及。作为柔性显示器的基板研究考虑聚碳酸酯等塑料基板。塑料基板会由于受热伸张、收缩，所以具有阻碍显示器功能的问题。因此，正在研究制造柔性显示器的加热工序的低温化。例如，在日本特开 2009-4394号公报中公开了含有即使低温烧制也可以固化的聚酰亚胺前体的柔性显示器用门绝缘膜用涂敷液。但是，该涂敷液由于没有曝光显影形成图案的能力，所以无法形成微细图案。此外，还导致固化反应进行的不充分，或者得到的固化膜除了耐热性、耐化学腐蚀性以外，还无法满足透光率、平整性、电压保持率、耐热线性膨胀性等。因此，还研究了通过添加即使在低温下也能作为环氧类材料的固化剂使用的胺化合物以进行交联反应的策略。但是，添加一般的胺化合物会引起与组合物中存在的环氧基的随时间变化的反应，保存稳定性会降低。基于这种情况，希望开发出保存稳定性和低温烧制均优异，而且具有足够的放射线灵敏度的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，以及作为固化膜所要求的性质的耐热性、耐化学腐蚀性、透光率、平整性、电压保持率、耐热线性膨胀性等优异的固化膜。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开2009-4394号公报
发明内容
本发明是基于上述这些问题提出的，其目的在于提供保存稳定性和低温烧制均优异，而且具有足够的放射线灵敏度的固化膜形成用放射线敏感性树脂组合物，以及作为固化膜所要求的性质的耐热性、耐化学腐蚀性、透光率、平整性、电压保持率、耐热线性膨胀性等优异的固化膜、固化膜的形成方法以及显示元件。为了解决上述问题而提出的本发明是一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，包含
[A]具有环氧基的聚合物(以下，也称作“[A]聚合物”)，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物(以下，也称作“ [B]聚合性化合物”)，[C]放射线敏感性聚合引发剂(以下，也称作“[C]聚合引发剂”)，以及[D]选自下述式⑴ (3)所示的化合物(以下，也称作“[D]化合物”)的至少一
种化合物。
权利要求
1. 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，包含[A]具有环氧基的聚合物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，[C]放射线敏感性聚合引发剂，以及[D]选自下述式(1) C3)所示的化合物的至少一种化合物，
2.根据权利要求1所记载的放射线敏感性树脂组合物，其特征在于前述具有环氧基的聚合物是进一步具有羧基的聚合物。
3.根据权利要求1或2所记载的放射线敏感性树脂组合物，其中上述[C]放射线敏感性聚合引发剂是由乙酰苯化合物和0-酰基肟化合物构成的群组中选出的至少一种。
4.一种固化膜的形成方法，该方法包括(1)在基板上形成权利要求1 3所记载的放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，(2)对工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序，(3)将工序O)中照射过放射线的涂膜显影的工序，以及(4)烧制工序(3)中显影后的涂膜的工序。
5.根据权利要求4所记载的形成方法，其中上述工序的烧制温度为200°C以下。
6.作为由权利要求1 3所记载的放射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜、保护膜或隔片的固化膜。
7.具有权利要求6所记载的固化膜的显示元件。
全文摘要
本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法以及显示元件。该放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性和低温烧制均优异，而且具有足够的放射线灵敏度，该固化膜中，作为固化膜所要求的性质的耐热性、耐化学腐蚀性、透光率、平整性、电压保持率、耐热线性膨胀性等优异。一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，包含[A]具有环氧基的聚合物，[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物，[C]放射线敏感性聚合引发剂以及[D]选自下述式(1)～(3)所示的化合物的至少一种化合物。
文档编号G03F7/027GK102269932SQ20111015483
公开日2011年12月7日 申请日期2011年6月3日 优先权日2010年6月3日
发明者儿玉诚一郎, 猪俣克巳, 米田英司, 西信弘 申请人:Jsr株式会社