液晶面板、液晶显示装置的制造方法以及液晶玻璃的制作方法

文档序号:2685834阅读:220来源:国知局
专利名称:液晶面板、液晶显示装置的制造方法以及液晶玻璃的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示领域,更具体的说,涉及一种液晶面板、液晶显示装置的制造方法以及液晶玻璃。
背景技术
在液晶显示装置的PSVA (Polymer Stabilized Vertical Aligment,聚合物稳定型垂直配向技术)制程需要在液晶(LC)中或是配向层(PI)表面加入对光线敏感的单体分子(monomer)以在后续的PSVA制程中反应形成辅助配向的聚合物(polymer),如图I所示,在PSVA制程前的SUV (框胶紫外光固化)制程中,使用紫外光(UV)照射框胶15 (sealant)时,需要使用一个紫外光掩膜7(UV Mask)去阻挡紫外光的照射以避免可视区(Active area/AA区)的液晶分子8在PSVA制程之前受到紫外光的照射而提前作用(此即所谓的pre-cured作用),由于还必须要考虑斜向光的作用以及紫外光掩膜7(UV Mask)的制作或对位精度等,因此设计时可视区(Active area/AA区)的边界必须要距离紫外光掩膜7 (UV Mask)的边界一段距离,否则在可视区周围会因单体分子提前反应而使得液晶预倾角(pre-tilt)与大部分可视区的液晶分子不同,可视区周边有画面不均匀(around mura)的现象发生,SP如图2所示,虚线框中的液晶分子由于受到紫外光的作用而提前倾倒,致使在后续的PSVA制程中不能形成垂直配向,从而造成液晶面板周边处的画面不均匀,这样也影响到液晶显示装置的窄边框化。

发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种提高液晶显示装置的显示效果,增大液晶面板可视区的液晶面板、液晶显示装置的制造方法以及液晶玻璃。本发明的目的是通过以下技术方案来实现的一种液晶面板的制造方法,包括A :在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤;B :在彩膜基板上形成导电层,并使导电层覆盖所述凸起的步骤;C :将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤;D :使用紫外光固化框胶的步骤。优选的,所述步骤A中,在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的色阻材料层形成的。利用在彩膜基板上形成色阻的步骤形成堆叠的色阻材料层形成凸起,从而不需要另外为了形成凸起而增加新的工艺步骤。优选的,所述步骤A中,在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在所述彩膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成两层色阻材料层形成的。根据色阻材料的厚度,加上导电层的厚度,可以使用两层色阻材料层堆叠形成凸起。优选的,所述两层色阻材料层分别为红色色阻材料层与绿色色阻材料层;或两层色阻材料层分别为红色色阻材料层与蓝色色阻材料层;或两层色阻材料层分别为绿色色阻材料层与蓝色色阻材料层。根据色阻材料层的形成先后工艺,可以选择相应的色阻材料层组合,以方便色阻的形成以及凸起的形成。优选的,所述步骤A中,在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在彩膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成三层色阻材料层形成的。根据不同液晶面板的厚度,也可以利用三层色阻材料层堆叠形成凸起。优选的,所述三层色阻材料层分别为红色色阻材料层、绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层。利用三原色色阻材料层形成堆叠的凸起,从而不需要增加额外的工艺步骤。优选的,所述步骤B中,所述导电层为ITO材料层。ITO材料透明,不影响液晶面板 的透光性。优选的,所述步骤A中,在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻以及黑矩阵的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的黑矩阵材料层以及色阻材料层形成的。根据液晶面板上的材料层制作工艺,也可以利用三层色阻材料层堆叠写成凸起。一种液晶显示装置的制造方法,包括上述的液晶面板的制造方法。一种液晶玻璃,包括上层基板以及下层基板,所述下层基板包括有多个阵列基板单元,所述上层基板包括有多个与所述阵列基板单元对应的彩膜基板单元;所述下层基板上的每个阵列基板单元的边缘处设置有焊盘;其特征在于,所述彩膜基板单元对应于所述焊盘的位置设置有凸起,所述彩膜基板单元上设置有导电层,所述导电层覆盖所述凸起,所述凸起上的导电层与所述焊盘接触。本发明由于在液晶面板的制造方法中在彩膜基板上对应于阵列基板焊盘的位置处形成凸起,并在凸起上设置导电层,使得在紫外光固化框胶的步骤中,彩膜基板与阵列基板导通而具有相同的电位,这样就避免了由于紫外光照射下使得被照射的液晶分子发生提前倾倒形成预倾角,也就避免了在液晶面板的边缘处由于液晶分子具有预倾角而造成边缘处画面不均匀的现象;也就是说,液晶面板边缘的液晶分子紫外光照射时液晶面板的边缘处不会发生液晶分子提前倾倒,从而使得液晶面板边缘处的显示效果均匀,可视区的范围进一步扩大,也就是扩大了液晶面板的有效显示区域,使得液晶显示装置的窄边框化可以更容易实现。


图I是现有液晶面板的框I父固化工艺步骤不意图,图2是现有液晶面板的框架固化工艺后周边液晶分子形成预倾角示意图,图3是现有液晶面板在框架固化步骤中液晶面板边缘处的结构简图,图4是在PSVA制程前的电路测试中切割彩膜基板边缘厚裸露出焊盘的结构示意图,图5是液晶面板周边的焊盘裸露不意图,图6是本发明实施例中在框架固化步骤中液晶面板边缘处的结构简图,图7是本发明实施例中框胶固化步骤的示意图,图8是本发明实施例中框胶固化步骤后液晶分子的排布示意图,图9是本发明实施例中在彩膜基板上形成凸起的一种实施方式,
图10是本发明实施例中在彩膜基板上形成凸起的另一种实施方式,图11是本发明实施例中所包含的工艺步骤的先后顺序流程图。其中10、彩膜基板,20、阵列基板,21、焊盘,11、导电层,15、框胶,7、紫外光掩膜,
8、液晶分子,30、凸起,31、第一色阻材料层,32、第二色阻材料层,33、第三色阻材料层。
具体实施例方式下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。如图11所示为本发明所述的液晶面板的制造方法所包含的几个步骤A :在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤;B :在彩膜基板上形 成导电层,并使导电层覆盖所述凸起的步骤;C :将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤;D :使用紫外光固化框胶的步骤;以及后续的PSVA制程步骤。如图3-5所示,在框胶15外、阵列基板20的边缘处设置有焊盘21,在液晶面板的PSVA制程之前,需要对彩膜基板10的边缘进行切割以使阵列基板20上的焊盘21裸露出来,从而可以施加电压进行线路测试。如图6所示,在对彩膜基板10的边缘进行切割之前,在彩膜基板10的制造工艺中,包括本发明所述的步骤A以及步骤B,即在彩膜基板的待切割边缘对应于阵列基板焊盘21的位置处形成一凸起30,并在该彩膜基板10的导电层11形成步骤中使导电层覆盖凸起30。在之后的将彩膜基板10与阵列基板20压合的步骤中,包括本发明所述的使导电层11与焊盘21接触的步骤,从而使压合后的彩膜基板10上的导电层11与阵列基板20上的焊盘21之间具有相同的电位,而焊盘21与阵列基板20上的线路是连接的,从而使上下对置的彩膜基板10与阵列基板20间不存在电位差。如图7及图8所示,在本发明所述的步骤D即紫外光固化框胶的步骤中,由于上下对置的彩膜基板10与阵列基板20间不存在电位差,则液晶面板边缘处的液晶分子8 (图中虚线框内的液晶分子8)在受到紫外光照射时就不会发生倾倒形成预倾角,而是会自然的相对于配向层表面垂直,这样一来,即使可视区(AA区)周边直接照射到紫外光其所造成之画面不均匀的现象(mura)也可以大幅改善,可视区边界与紫外边界之距离也可以大幅缩短,此外,PSVA模式的液晶显示器之窄边框化设计亦会更容易达成。如图9所示,在本发明所述的步骤A中,在彩膜基板基板10上形成凸起30的工艺可以在彩膜基板的色阻形成步骤中,利用不同色阻形成工艺的先后步骤在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层,从而形成凸起30。如图9所示,本发明可提供的具体实施方式
可以是在彩膜基板10上形成第一色阻材料层31,并在形成第二色阻材料层32的时候使第二色阻材料层32的形成区域在要形成凸起的位置与第一色阻材料层31重合,故而形成凸起。第一色阻材料层31以及第二色阻材料层32分别可以是红色色阻材料层与绿色色阻材料层;或是红色色阻材料层与蓝色色阻材料层;或是绿色色阻材料层与蓝色色阻材料层。如图10所示,本发明还可以提供另一种具体实施方式
,在彩膜基板10上形成第一色阻材料层31,并在形成第二色阻材料层32的时候使第二色阻材料层32的形成区域在要形成凸起的位置与第一色阻材料层31重合,同时再在重合处再形成第三色阻材料层33而最终形成凸起30 ;第一色阻材料层31、第二色阻材料层32以及第三色阻材料层33分别可以是红色色阻材料层、绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层。
另外,彩膜基板上的材料层形成制程及顺序分别是黑矩阵,色阻材料(即红色、绿色以及蓝色色阻材料层)以及ITO层。因此,彩膜基板上的材料层并不限于色阻材料,因此也可以在其他材料层形成步骤中形成,也可以在多种类型的材料层形成步骤中形成,如可以在黑矩阵材料层以及色阻材料层的形成步骤中形成凸起,或是这些材料层与PI层共同形成的步骤中使黑矩阵、色阻 以及PI层在对应于焊盘的位置处重合,从而也可以形成凸起。以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。
权利要求
1.一种液晶面板的制造方法,包括 A :在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤; B :在彩膜基板上形成导电层,并使导电层覆盖所述凸起的步骤; C :将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤; D :使用紫外光固化框胶的步骤。
2.如权利要求I所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述步骤A中,在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的色阻材料层形成的。
3.如权利要求2所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述步骤A中,在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在所述彩膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成两层色阻材料层形成的。
4.如权利要求3所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述两层色阻材料层分别为红色色阻材料层与绿色色阻材料层;或两层色阻材料层分别为红色色阻材料层与蓝色色阻材料层;或两层色阻材料层分别为绿色色阻材料层与蓝色色阻材料层。
5.如权利要求2所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述步骤A中,在彩膜基板上形成堆叠的色阻材料层是通过在彩膜基板上对应所述阵列基板焊盘的位置形成三层色阻材料层形成的。
6.如权利要求5所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述三层色阻材料层分别为红色色阻材料层、绿色色阻材料层以及蓝色色阻材料层。
7.如权利要求I所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述步骤B中,所述导电层为ITO材料层。
8.如权利要求I所述的一种液晶面板的制造方法,其特征在于,所述步骤A中,在彩膜基板上形成所述凸起是在所述彩膜基板形成色阻以及黑矩阵的步骤中通过在所述与焊盘对应的位置上形成堆叠的黑矩阵材料层以及色阻材料层形成的。
9.一种液晶显示装置的制造方法,其特征在于,包括如权利要求1-8任一所述的液晶面板的制造方法。
10.一种液晶玻璃,包括上层基板以及下层基板,所述下层基板包括有多个阵列基板单元,所述上层基板包括有多个与所述阵列基板单元对应的彩膜基板单元;所述下层基板上的每个阵列基板单元的边缘处设置有焊盘;其特征在于,所述彩膜基板单元对应于所述焊盘的位置设置有凸起,所述彩膜基板单元上设置有导电层,所述导电层覆盖所述凸起,所述凸起上的导电层与所述焊盘接触。
全文摘要
本发明公开一种液晶面板、液晶显示装置的制造方法以及液晶玻璃,包括A在彩膜基板对应于阵列基板焊盘的位置形成凸起的步骤;B在彩膜基板上形成导电层,并使导电层覆盖所述凸起的步骤;C将彩膜基板与阵列基板压合使所述导电层与所述焊盘接触的步骤;D使用紫外光固化框胶的步骤。本发明由于在液晶面板的制造方法中在彩膜基板上对应于阵列基板焊盘的位置处形成凸起,并在凸起上设置导电层,使得彩膜基板与阵列基板导通而具有相同的电位,液晶面板边缘的液晶分子紫外光照射时液晶面板的边缘处不会发生液晶分子提前倾倒,从而使得液晶面板边缘处的显示效果均匀,扩大了液晶面板的有效显示区域,使得液晶显示装置的窄边框化更容易实现。
文档编号G02F1/13GK102681237SQ20121015190
公开日2012年9月19日 申请日期2012年5月16日 优先权日2012年5月16日
发明者陈政鸿 申请人:深圳市华星光电技术有限公司
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