专利名称：用于掩膜板的防尘保护装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种用于掩膜板的防尘保护装置。
背景技术：
在半导体集成电路制造工艺中，光刻工艺是其中最为重要的步骤之一。光刻工艺的过程是经曝光系统将预制在掩模板上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或介质层上的光刻胶层上。经过显影工艺去除或保留曝光图案部位的光刻胶，以达到将预制在掩模板上的器件或电路图形在晶片表面或介质层上精确成型的目的。光刻工艺的好坏将直接影响半导体器件的特征尺寸和产品品质，其中， 掩膜板是光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜板上的任何缺陷都会对最终图形精度产生严重的影响。参考IA和图1B，图IA为现有的用于掩膜板的防尘保护装置的结构示意图，图IB为现有的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面结构示意图。所述掩膜板115具有图案区域，用于掩膜板115的防尘保护装置包括框架113和保护薄膜111，所述保护薄膜111被紧绷在所述框架112上，所述保护薄膜111需光学透明且结实，通常采用硝化纤维或者醋酸纤维素制成。所述框架112环绕掩膜板边沿，所述保护薄膜111和所述框架112限定的空间覆盖所述图案区域，以将所述图案区域密封，保护掩膜板115上的图案区域不受尘粒或其它形式的污染，并且沾在保护薄膜111上的污染物与图案区域表面保持足够远的距离，在成像时，污染物的像平面不落在晶片表面上，减小污染物对生产的影响。然而，在实际生产中发现，由于保护薄膜111被紧绷在所述框架112上，在保护薄膜面上有张力的存在，对框架112产生作用力，并传递到掩膜板115上，掩膜板115会因此产生微小形变，导致图案区域偏离预定的位置，最终影响复制到晶片上的图案的效果。
实用新型内容本实用新型提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，以解决保护薄膜产生的张力使掩膜板产生形变影响影响复制到晶片上的图案的效果的问题。为解决上述问题，本实用新型提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框沿其长度方向上设置有孔洞。可选的，所述边框为单层结构。可选的，所述边框为多层结构，每层结构沿其长度方向均设置有孔洞。可选的，其特征在于，所述边框的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化。可选的，所述孔洞的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化。可选的，所述孔洞的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势一致。可选的，所述孔洞的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势不一致。可选的，所述边框的多层结构是同种材质。[0014]可选的，所述边框的多层结构是不同种材质。可选的，所述边框、所述掩膜板和所述保护薄膜之间粘合连接。与现有技术相比，本实用新型提供的用于掩膜板的防尘保护装置，由于其中至少一个边框沿该其长度方向上设置有孔洞，该边框易产生形变吸收部分保护薄膜的张力，使掩膜板受到的张力变小，从而减小或消除掩膜板的形变。更优选的，将边框和孔洞设计成宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化的，有更好的形变能力，能吸收更多的张力，进一步提高曝光效果。
图IA为现有的用于掩膜板的防尘保护装置立体结构示意图；图IB为沿图IA的AA’方向的剖面结构示意图； 图2A为本实用新型实施例一的用于掩膜板的防尘保护装置的立体结构示意图；图2B为沿图2A的AA’方向的剖面示意图；图3为本实用新型实施例二的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图；图4为本实用新型实施例三的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图；图5为本实用新型实施例四的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图。
具体实施方式
本实用新型的核心思想在于，提供一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框沿其长度方向设置有孔洞。由于这样的框架结构易产生形变，能够吸收所述保护薄膜产生的张力，从而能减小或消除掩膜板的形变，防止掩膜板形变对复制到晶片上的图案的效果产生影响。
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的用于掩膜板的防尘保护装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。实施例一参考图2A和图2B，图2A为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的示意图，图2B为沿图2A的AA’方向剖面示意图。所述掩膜板215具有图案区域(未图示)，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜211以及用于固定所述保护薄膜211的框架212，所述保护薄膜211和所述框212架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架212包括多个首尾相连的长条状边框213，其中至少一个边框213内部有沿该边框长度方向上的孔洞214，此种边框结构易产生形变，从而吸收部分保护薄膜211的张力，能减小张力对所述掩膜板215的影响。所述边框213与所述掩膜板215由粘合剂粘合连接，所述保护薄膜211与所述边框213也由粘合剂粘合连接。所述边框213材质可为金属、合金、高分子材料复合物中的任意一种。优选为铝合金材质，其质轻，有足够的强度，并且弹性好。所述边框213高度H为5mnT6. 5mm,以满足在曝光机台以及检测机台内高度需求。实施例二参考附图3，图3为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜411以及用于固定所述保护薄膜411的框架，所述保护薄膜411和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框413，其中至少一个边框413内部有沿该边框长度方向上的孔洞414，所述边框413的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化，所述孔洞414的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化，所述孔洞414的宽度的变化趋势与所述边框413的宽度的变化趋势一致。本实施例中，边框413的宽度沿所述掩膜板的厚度方向从掩膜板一端到保护薄膜一端先均匀变小再均匀变大。相比实施例一，本实施例的框架形状形变性能更佳，因此能吸收更多保护薄膜的张力，从而能进一步减小张力对所述掩膜板的影响。·[0034]实施例三参考附图4，图4为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜511以及用于固定所述保护薄膜511的框架，所述保护薄膜511和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框513，其中至少一个边框513内部有沿该边框长度方向上的孔洞514，所述边框513的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化，所述孔洞514的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化，所述孔洞514的宽度的变化趋势与所述边框513的宽度的变化趋势不一致。本实施例中，边框513的宽度沿所述掩膜板的厚度方向从掩膜板一端到保护薄膜一端均匀变小，所述孔洞514的宽度沿所述掩膜板的厚度方向从掩膜板一端到保护薄膜一端先均匀变小再均匀变大。相比实施例二，本实施例的框架形状形变性能更佳，因此能吸收更多保护薄膜的张力，从而能进一步减小张力对所述掩膜板的影响。实施例四参考附图5，图5为本实施例的用于掩膜板的防尘保护装置的剖面示意图，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜311以及用于固定所述保护薄膜311的框架，所述保护薄膜311和所述框架限定的空间覆盖掩模版315的图案区域，所述框架包括多个首尾相连的边框313，其中至少一个边框313为多层结构，每层结构沿其长度方向上均设有孔洞。本实施例的边框313优选为两层结构，相比于实施例二，本实施例既保留了框架的吸收保护薄膜张力的能力，又有较牢固的结构，有较长的使用寿命。具体的，本实施例中所述边框313的两层结构包括与掩膜板315连接的第一层边框317以及与保护薄膜311连接的第二层边框318。第一层边框317的宽度沿所述掩膜板的厚度方向从掩膜板一端到保护薄膜一端均匀变小，其中的孔洞314的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势一致。第二层边框318的宽度沿所述掩膜板的厚度方向从掩膜板一端到保护薄膜一端均匀变大，其中的孔洞316的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势一致。所述第一层边框317与第二层边框318之间由粘合剂粘合而成的，所述第一层边框317与所述掩膜板315由粘合剂粘合连接，所述第二层边框318与所述保护薄膜311由粘合剂粘合连接。[0041]第一层边框317与第二层边框318的材质可以相同也可以不相同，所述第一层边框317与第二层边框318的材质可为金属、合金、高分子材料复合物中的任意一种或几种。本实施例中的两层边框都选用铝合金材质，或者，第一层边框317为铝合金材质，第二层边框318为表面经过钝化的铝。综上所述，本实用新型提供了一种用于掩膜板的防尘保护装置，该防尘保护装置 的边框沿其长度方向上设置有孔洞。由于这样的框架结构易产生形变，能够吸收所述保护薄膜产生的张力，从而能减小或消除掩膜板的形变，防止掩膜板形变对复制到晶片上的图案的效果产生影响。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，其特征在于，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框沿其长度方向上设置有孔洞。
2.如权利要求I所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框为单层结构。
3.如权利要求I所述的用于掩膜板的防尘保护装置， 其特征在于，所述边框为多层结构，每层结构沿其长度方向均设置有孔洞。
4.如权利要求I至3中任一项所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框 的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化。
5.如权利要求4所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述孔洞的宽度沿所述掩膜板的厚度方向变化。
6.如权利要求5所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述孔洞的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势一致。
7.如权利要求5所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述孔洞的宽度的变化趋势与所述边框的宽度的变化趋势不一致。
8.如权利要求3所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框的多层结构是同种材质。
9.如权利要求3所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框的多层结构是不同种材质。
10.如权利要求I所述的用于掩膜板的防尘保护装置，其特征在于，所述边框、所述掩膜板和所述保护薄膜之间粘合连接。
专利摘要本实用新型揭露了一种用于掩膜板的防尘保护装置，所述掩膜板具有图案区域，所述用于掩膜板的防尘保护装置包括保护薄膜以及用于固定所述保护薄膜的框架，所述保护薄膜和所述框架限定的空间覆盖所述图案区域，所述框架包括多个首尾相连的长条状边框，其中至少一个边框沿其长度方向上设置有孔洞。使用本实用新型所提供的防尘保护装置，其框架结构更易吸收所述保护薄膜产生的张力，从而能减小或消除掩膜板的形变，提升产品良率。
文档编号G03F1/64GK202794842SQ20122052126
公开日2013年3月13日 申请日期2012年10月11日 优先权日2012年10月11日
发明者覃柳莎, 张力群 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司