正型感光性树脂组成物及其图案形成方法
【专利摘要】本发明是有关一种正型感光性树脂组成物及其图案形成方法。该正型感光性树脂组成物包含酚醛清漆树脂(A)、聚硅氧烷(B)、邻萘醌二叠氮磺酸类的酯化物(C)及溶剂(D)。上述酚醛清漆树脂(A)包含二甲酚型酚醛清漆树脂(A-1)，且该二甲酚型酚醛清漆树脂(A-1)由醛类化合物与二甲酚类化合物聚缩合而得。
【专利说明】正型感光性树脂组成物及其图案形成方法
【技术领域】
[0001] 本发明是有关一种正型感光性树脂组成物及其图案形成方法，特别是有关一种使 用在半导体集成电路元件、薄膜晶体管的液晶显示元件或触控面板的制造流程中，具有良 好剥除性与图案断面形状的正型感光性树脂组成物及使用该组成物形成图案的方法。
【背景技术】
[0002] 随着生活中各种电子产品的微小化，各种智慧型手机、薄型电视W及高效能的微 处理器充斥在现今生活中，而使得光刻工艺越来越精密，所形成的线宽也越来越精细。
[0003] 针对光致抗蚀剂不同特性的需求，日本公开特许第2010-20291号掲示一种正型 感光性树脂组成物，该正型感光性树脂组成物包含碱溶性树脂、二叠氮酿化合物、固化剂及 有机溶剂。碱溶性树脂可包含丙帰醜基共聚物及酷酵清漆树脂，其中丙帰醜基共聚物是不 饱和帰姪化合物及不饱和駿酸的单体在溶剂及聚合引发剂存在下，经自由基聚合反应来制 备的，而酷酵清漆树脂是藉由酷化合物与酵化合物或丽化合物在酸性催化剂存在下来制备 的。该碱可溶性树脂可改善正型感光性树脂组成物的耐热性。
[0004] 其次，日本公开特许第2010-39270号掲示一种正型感光性树脂组成物，该正型感 光性树脂组成物包含一高分子聚合物、二叠氮酿化合物、交联剂及溶剂。该高分子聚合物包 含如下式（VIII)所示的化合物、丙帰酸醋化合物与酷酵轻基化合物，其中该高分子聚合物 包含1重量百分比至50重量百分比的如下式（VIII)所示的化合物。当式（VIII)所示的 化合物的使用量介于前述范围时，所制得的正型感光性树脂组成物具有良好的接着性及密 着性：
[0005]
【权利要求】
1. 一种正型感光性树脂组成物，包含： 酚醛清漆树脂（A); 聚硅氧烷（B); 邻萘醌二叠氮磺酸类的酯化物（C);以及 溶剂（D)。
2. 如权利要求1所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于该聚硅氧烷（B)由如式 (I)所示的化合物所聚合形成： siogjoig^ 式⑴ 在该式（I)中，该&代表氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为 6至15的芳香基、具有酸酐基的烷基、具有环氧基的烷基或具有环氧基的烷氧基；该馬代表 氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；a代表0至 3的整数。
3. 如权利要求2所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于该至少一 &包含一具有酸 酐基的烷基、一具有环氧基的烷基或一具有环氧基的烷氧基。
4. 如权利要求1所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于该酚醛清漆树脂（A)包含 二甲酚型酚醛清漆树脂（A-1)，其中该二甲酚型酚醛清漆树脂（A-1)由醛类化合物与芳香 族羟基化合物聚缩合所形成，其中该芳香族羟基化合物至少包含二甲酚类化合物。
5. 如权利要求1所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于基于该酚醛清漆树脂（A) 的使用量为100重量份，该聚硅氧烷（B)的使用量为1重量份至20重量份，该邻萘醌二叠 氮磺酸类的酯化物（C)的使用量为5重量份至60重量份，该溶剂（D)的使用量为100重量 份至1000重量份。
6. 如权利要求4所述的正型感光性树脂组成物，其特征在于基于该酚醛清漆树脂（A) 的使用量为100重量份，该二甲酚型酚醛清漆树脂（A-1)的使用量为2重量份至50重量份。
7. -种图案形成方法，所述图案形成方法为对如权利要求1至6中任一项所述的正型 感光性树脂组成物依序进行一涂布步骤、一预烤步骤、一曝光步骤、一显影步骤及一后烤处 理步骤，而于一基板上形成一图案。
8. -种薄膜晶体管阵列基板，包含如权利要求7所述的图案形成方法所形成的图案。
9. 一种液晶显示元件，包含如权利要求8所述的薄膜晶体管阵列基板。
【文档编号】G03F7/004GK104423168SQ201410421017
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年8月25日 优先权日:2013年9月10日
【发明者】刘骐铭, 施俊安 申请人:奇美实业股份有限公司