一种掩膜板的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种掩膜板，包括阵列排布的多个矩形遮光区，多个矩形遮光区之间的间隙构成漏光区，漏光区包括横纵交错的多个横向漏光条和纵向漏光条，掩膜板上还设有辅助遮光区，辅助遮光区遮挡射至矩形遮光区拐角处的光线，使光线在矩形遮光区拐角处的光强呈直角分布。采用上述结构的掩膜板能够使遮光区在漏光区拐角处的光强分布呈直角或接近直角，从而利用该掩膜板能够形成拐角处为直角的黑矩阵，降低了黑矩阵拐角区域的遮光面积，提高了黑矩阵的开口率，达到了提高显示面板的光线透过率的目的。
【专利说明】一种掩膜板
【技术领域】
[0001] 本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种掩膜板。
【背景技术】
[0002] 随着显示技术的不断发展，人们对显示面板画面显示亮度的要求越来越高，如何 提高彩色滤光片的开口率，进而提升显示面板的光线透过率显得越来越重要。
[0003] 彩色滤光片主要包括：黑矩阵和着色层，其中，黑矩阵为网格状结构，着色层一般 包括红色、绿色和蓝色的光阻，该些光阻位于黑矩阵网格内。现有技术中，通常采用构图工 艺形成黑矩阵，其过程具体为：在衬底基板上覆盖黑矩阵材料，在黑矩阵材料上覆盖光刻胶 层，之后利用具有黑矩阵图形的掩膜板遮盖光刻胶层，经过曝光、显影形成具有黑矩阵图形 的光刻胶层，以该具有黑矩阵图形的光刻胶层为掩膜刻蚀黑矩阵材料，形成具有网格状结 构的黑矩阵。
[0004] 如图1所示，适用于负性光刻胶的形成黑矩阵的掩膜板包括：遮光区101和漏光 区102,由于黑矩阵为网格状结构，因此掩膜板遮光区101的拐角处为直角，这会造成曝光 机光线在掩膜板遮光区101的拐角处发生衍射与散射作用后，曝光光强在拐角处呈弧形分 布，进而导致实际形成的黑矩阵网格角度呈圆角而非所需的直角，如图2所示，黑矩阵每个 网格拐角处增大的面积S约为
【权利要求】
1. 一种掩膜板，包括阵列排布的多个矩形遮光区，所述多个矩形遮光区之间的间隙构 成漏光区，所述漏光区包括横纵交错的多个横向漏光条和纵向漏光条，其特征在于，所述掩 膜板上还设有辅助遮光区，所述辅助遮光区遮挡射至所述矩形遮光区拐角处的光线，使光 线在所述矩形遮光区拐角处的光强呈直角分布。
2. 根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述辅助遮光区位于所述矩形遮光区 拐角处，与所述矩形遮光区相接合，且所述辅助遮光区为楔形，所述楔形的楔角为锐角，所 述楔角指向所述漏光区。
3. 根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述楔角的角度范围为30度?90度。
4. 根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述辅助遮光区为以所述楔角的角平 分线为对称轴的对称图形。
5. 根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述辅助遮光区位于所述矩形遮光区 拐角处，与所述矩形遮光区相间隔，且所述辅助遮光区包括相交形成夹角的两条遮光带，所 述两条遮光带相交所形成的夹角的开口朝向所述矩形遮光区的拐角。
6. 根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光带的宽度为0. 5微米?2. 0微 米。
7. 根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述两条遮光带所呈的夹角为90度，且 所述两条遮光带分别与所述矩形遮光区拐角处的两条边平行。
8. 根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，若所述辅助遮光区位于所述掩膜板的 中间区域，则所述辅助遮光区为十字形结构；若所述辅助遮光区位于所述掩膜板的边缘区 域，则所述辅助遮光区为T形结构或L形结构。
【文档编号】G03F1/38GK104281000SQ201410572995
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年10月23日 优先权日:2014年10月23日
【发明者】汪栋, 吴洪江 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司