一种显示基板及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明实施例涉及显示器领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。本发明实施例中，在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。如此，沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了摩擦的均匀性，改善了配向显示不均的情况。
【专利说明】
一种显示基板及显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。
【背景技术】
[0002](11111111-8118181:01—11^111(1 01-781:^1 01邓1奶，薄膜晶体管液晶不器)是利用施加在液晶层上电场强度的变化，改变液晶分子的扭曲方向，从而控制透光的强弱来显示图像的。一般来讲，一块完整的液晶显示面板必须具有背光模块、偏光片、界!'阵列基板和彩膜基板以及由它们两块基板组成的盒中填充的液晶分子层构成。
[0003]在的制造过程中，在将阵列基板与彩膜基板对合形成显示模组￠611盒)之后，会有对界!'基板上各个器件的功能进行测试的步骤，即显示模组虚拟测试
^11-1:1181 1681:) 0 0611 ^11-1:1181 了681: —般包括对了？1'基板上的数据线、扫描线、公共电极线、开关等是否能够正常工作进行测试。为了实现上述的测试，一般会在基板上的显示区域的外围设计有多个用于检测的虚拟测试化#，简称V”端子。同样为了后期将集成电路绑定于基板上，也需要在基板上的显示区域的外围设计多个集成电路端子。
[0004]图1示例性示出了现有技术中一种显示基板的结构示意图，如图1所示，现有技术中在基板上设计有VI端子及集成电路端子，显示基板包括用于显示的显示区域101，和用于布置元件的元件区域102，在元件区域102中布置多种元件，例如多个VI端子103、集成电路端子104等。如图1所示，各个元件之间相互之间排列不紧密，会形成的空隙105，且空隙105面积较大。由于VI端子103、集成电路端子104等元件是形成于基板上的配向层之前，图中预设摩擦方向为水平方向106，那么如果当在基板上沿着水平方向106进行涂布配向层时，即进行摩擦工艺时，滚轮扫到各个元件之间相互之间形成的空隙105，会使得绒布滚轮上的绒布保持与空隙105形状相一致的形变，从而改变了原有绒布上已经配置好的细小的凹槽的形状，使得扫在空隙105处的绒布上的配向方向与其他部位不同，从而影响摩擦的均勾性从而产生配向显示不均(见^化叩的情况。
[0005]综上所述，亟需一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。
【发明内容】
[0006]本发明实施例提供一种显示基板及显示装置，用以减轻配向显示不均现象。
[0007]本发明实施例提供一种显不基板，包括:
[0008]衬底基板，衬底基板包括显示区域和元件区域，以及设置在显示区域和元件区域之间且围绕显示区域的走线区域；
[0009]设置于衬底基板上的配向层，配向层具有预设的摩擦方向；
[0010]设置于衬底基板走线区域的冗余图形，设置于衬底基板元件区域的元件图形，其中，沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0011]较佳的，阈值为105%。
[0012]较佳的，还包括设置于衬底基板与配向层之间的第一电极层，冗余图形与第一电极层同层。
[0013]较佳的，第一电极层为像素电极层或者公共电极层。
[0014]较佳的，冗余图形为多个相互不连通的独立图形。
[0015]较佳的，多个相互不连通的独立图形为矩形。
[0016]较佳的，独立图形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，第一矩形与第二矩形间隔排布，其中，第一方向与第二方向垂直。
[0017]较佳的，多个相互不连通的独立图形包括至少一个第一镂空区域。
[0018]较佳的，多个相互不连通的独立图形呈阵列排布或交错排布。
[0019]较佳的，冗余图形为全连通图形。
[0020]较佳的，全连通图形包括多个第二镂空区域。
[0021]较佳的，第二镂空区域为矩形，且多个第二镂空区域呈阵列排列或交错排列。
[0022]较佳的，全连通图形为边缘不规则的整面图形。
[0023]较佳的，冗余图形接触公共电极电位。
[0024]较佳的，元件图形包括虚拟测试VI端子和/或集成电路端子形成的图形。
[0025]本发明实施例提供一种显示装置，包括如前所述的显示基板。
[0026]较佳的，还包括彩色滤光片基板，冗余图形设置于封框胶区与彩色滤光片基板边界之间。
[0027]本发明实施例中，衬底包括显示区域和元件区域，以及设置在显示区域和元件区域之间且围绕显示区域的走线区域；在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0028]由于在显示区域和元件区域之间的走线区域设置有冗余图形，因此，滚轮依次滚过元件区域的元件图形、走线区域的冗余图形，之后进入显示区域；进一步由于沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，因此沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置经过不同路径达到显示区域时，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了摩擦的均匀性，改善了配向显示不均的情况。
【专利附图】
【附图说明】
[0029]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为现有技术提供的一种显示基板结构示意图；
[0031]图2为本发明实施例适用的一种显不基板不意图；
[0032]图3为本发明实施例提供的显示基板母板的结构示意图；
[0033]图4为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
[0034]图5为图4沿截面“，的剖面图；
[0035]图6为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0036]图7为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0037]图8为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0038]图9为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0039]图10为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0040]图11为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0041]图12为本发明实施例提供的一种冗余图形的排布方式示意图；
[0042]图13为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
[0043]图14为图13沿截面8-8’的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0044]为了使本发明的目的、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0045]图2示例性示出了本发明实施例适用的一种显示基板示意图。如图2所示，显示基板上包括用于显示的显示区域101，多个像素单元113设置于显示区域内，设置在显示区域101外围并用于布置元件的元件区域102，以及设置在所述显示区域101和元件区域102之间且围绕所述显示区域101的走线区域108。如图2所示，位于显示区域101的下方和侧方，均可设置元件区域102，两个元件区域102均可布置VI端子103、集成电路端子104等。
[0046]具体实施中，滚轮进行沿着摩擦方向进行涂布配向层之前，多个显示基板是制作在一起的，即大张的显示基板母板，图3示例性示出了显示基板母板的结构示意图。如图3所示，滚轮涂布配向层的摩擦方向可为水平方向106，也可为垂直方向107，但无论摩擦方向为水平方向106还是垂直方向107，滚轮均会经过元件区域102进入显示区域101。因此，本发明实施例对具体摩擦方向不做限制，摩擦方向可沿任意路径。本发明实施例中以摩擦方向沿水平方向106为例、并以单独一个显示基板为例进行说明。
[0047]基于图2和图3所不的一种显不基板不意图架构，图4不出了本发明实施例提供的一种显示基板，针对每个独立的显示基板，包括:
[0048]衬底基板109，衬底包括显示区域101和元件区域102，以及设置在显示区域101和元件区域102之间且围绕显示区域101的走线区域108 ；
[0049]设置于衬底基板109上的配向层110，配向层具有预设的摩擦方向，本发明实施例中以图4中所示的水平方向106为例进行介绍；
[0050]设置于衬底基板走线区域108的冗余图形111，设置于衬底基板元件区域102的元件图形112，其中，沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形111和元件图形112沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0051]由于在显示区域101和元件区域102之间的走线区域108设置有冗余图形111，因此，滚轮在沿着预设摩擦方向，即水平方向106进行涂布配向层110时，需依次滚过元件区域102的元件图形112、走线区域108的冗余图形111，之后进入显示区域101，具体来说，进入显示区域101的过程是先经过封框胶区116的边界，之后进入显示区域101。
[0052]具体来说，沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，为了更好的说明此关系，现假设沿摩擦方向的任意两条路径上，任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和为第一路径总和，另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和为第二路径总和，由于要求其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，因此可得出下述两个公式，本发明实施例要求满足公式:
[0053]第一路径总和彡第二路径总和X阈值
[0054]可见，第一路径总和与第二路径总和近似相等，且第一路径总和与第二路径总和相差的值都在一定范围之内，即沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形沿所述摩擦方向上的长度之和近似相等。如此，从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置经过不同路径达到显示区域时，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了配向摩擦的均匀性，改善了配向摩擦显示不均的情况。
[0055]较佳的，阈值为105%，本领域技术人员可知，为了进一步提高配向摩擦的均匀性，可将阈值设置的更小，在100%与105%之间。另一方面，若由于机械本身误差的原因，或因为工艺流程原因，阈值很难达到105%时，也可将该阈值适当提高。
[0056]通过上述描述可知，在平行于配向方向上，如图4所示，冗余图形111设置于走线区域108，且为了满足沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形111和元件图形112沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，较佳的，可将冗余图形111设置于沿摩擦方向上的元件区域102的元件图形112与显示区域101之间，
[0057]较佳的，在垂直于配向层的方向上，冗余图形的具体位置如图5所示，图5示例性示出了图4实施例沿截面八-八’的剖面图，从图中可看出，该显示基板包括衬底基板109、配向层110，以及设置于衬底基板109与配向层110之间的第一电极层202，还包括冗余图形111、元件图形112，较佳的，冗余图形111与第一电极层202同层。元件图形112也与第一电极层202同层。第一电极层应为最靠近配向层110的一层，进而由于冗余图形111和元件图形112与第一电极层同层，因此冗余图形111和元件图形112也最靠近配向层110，此时，当滚轮依次滚过元件图形112、冗余图形111之后，滚轮上各处形变基本保持一致，此时滚轮进入配向层110区域，在配向层上进行摩擦工艺时，提高了配向摩擦的均匀性，改善了配向摩擦显示不均的情况。
[0058]较佳的，第一电极层为像素电极层或者公共电极层。在边缘场开关技术(办1叩6^161(1 3界11x111118，简称？巧)或者平面转换3界11x111118，简称1？幻中，第一电极层为公共电极层或者像素电极层；但是在扭曲向列简称型中，通常使用栅极电极层作为公共电极层，用于存储电容，此时栅极电极层是最靠近衬底基底电极层，因此使用像素电极层作为第一电极层。
[0059]具体实施中，元件图形包括VI端子和/或集成电路端子形成的图形，这些图形均是由导电材料制成，例如可用纳米铟锡金属氧化物(匕也皿XIII 0x1(168，简称110)制成。较佳的，使用导电材料制作冗余图形，如110等制成。
[0060]下面详细介绍冗余图形的各种可能出现的形状，本发明实施例中，只要冗余图形和元件图形满足以下条件即可:沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。对于冗余图形的具体形状不做强制性限定。
[0061]较佳的，基于图4中所示的元件图形，可以对冗余图形进行任意设置，图6示例性示出了一种冗余图形的排布方式，如图6所示，冗余图形在垂直方向107上的尺寸应大于显示区域101上沿垂直方向107的尺寸，以使滚轮上需要经过显示区域的位置均经过该冗余图形。
[0062]较佳的，冗余图形可为多个相互不连通的独立图形，即多个图形之间没有连接。如图6所示，冗余图形305为两个相互不连通的独立图形，其中一个为多边形，另一个为矩形，此时经过不同路径，如图6中第一路径301、第二路径302、第三路径303、第四路径304，所经过的元件图形112与冗余图形305的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0063]较佳的，冗余图形与元件图形的边界处应对齐，如图6中的第一路径301，经过元件图形中元件306的下边界，同时也经过冗余图形中图案308的上边界307。下述几种冗余图形的不同形状中，冗余图形中的小图像的边界均应与元件图形中的小图像的边界对齐，以便保证经过边界的路径所经过的元件图形与冗余图形的长度总和也满足条件:沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0064]较佳的，多个相互不连通的独立图形为矩形。图7示例性示出了一种冗余图形的排布方式，如图7所示，冗余图形406由多个相互不连通的独立矩形组成，独立矩形407、独立矩形408、独立矩形409、独立矩形410、独立矩形411、独立矩形412、独立矩形413、独立矩形414、独立矩形415、独立矩形416之间均互不连通，相互之间独立。独立矩形之间可相互间隔排布，如独立矩形407与独立矩形408之间间隔一段距离；独立矩形之间可错开排布，也可对齐排布，如独立矩形407与独立矩形408的左右边界对齐排布，而独立矩形407与独立矩形414则错开排布。各个独立图形进行排布时，上下边界应对齐，如独立矩形408的上边界与独立矩形414的下边界应对齐。如图7中第一路径401、第二路径402、第三路径403、第四路径404、第五路径405，所经过的元件图形112与冗余图形406的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0065]较佳的，独立图形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，第一矩形与第二矩形间隔排布，其中，第一方向与第二方向垂直。如图8所示，第一方向114为水平方向，第二方向115为与第一方向114垂直的垂直方向，较佳的，第一方向114平行于摩擦方向106。图8示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形506由多个相互不连通的独立图形组成，如图8中所示，独立矩形507、独立矩形508、独立矩形509、独立矩形510、独立矩形511、独立矩形512、独立矩形513、独立矩形514、独立矩形515之间均互不连通，相互之间独立。独立图形包括沿第一方向114延伸的第一矩形和沿第二方向115延伸的第二矩形，第一方向114为水平方向，矩形在第一方向114上延伸，即为该矩形长边延伸方向与第一方向114平行，如独立矩形507、独立矩形508、独立矩形509、独立矩形510，均为长边延伸方向与第一方向114平行的第一矩形。第二方向115为垂直方向，矩形在第二方向115上延伸，即为该矩形长边延伸方向与第二方向平行。独立矩形511、独立矩形512均为长边延伸方向与第二方向115平行的第二矩形。第一矩形与第二矩形间隔排布，如第一矩形中的独立矩形510与第二矩形中的独立矩形511之间间隔分布，第一矩形中的独立矩形相互之间间隔分布，如独立矩形507、独立矩形508间隔分布。第二矩形相互之间间隔分布，如独立矩形511、独立矩形512之间间隔分布。第一方向114与第二方向115垂直。各个独立矩形之间的间隔可相等，也可不等。如沿第二方向115独立矩形507与独立矩形508之间的间隔、独立矩形508与独立矩形509之间的间隔、独立矩形509与独立矩形510之间的间隔均相等，独立矩形509与独立矩形510之间的间隔、独立矩形510与独立矩形511之间的间隔互不相同。如图8中第一路径501、第二路径502、第三路径503、第四路径504、第五路径505，所经过的元件图形112与冗余图形506的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0066]较佳的，多个相互不连通的独立图形包括至少一个第一镂空区域。如图9所示，图9示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形606多个相互不连通的独立图形组成，如独立图形607、独立图形608、独立图形609、独立图形610、独立图形611、独立图形612。独立图形之间无连接。其中独立图形包括至少一个第一镂空区域，如独立图形607为镂空区域，镂空图案可为整齐排布，也可错开排布。如图9中第一路径601、第二路径602、第三路径603、均经过了第一镂空区域。如图9中第一路径601、第二路径602、第三路径603、第四路径604、第五路径605，所经过的元件图形112与冗余图形606的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0067]较佳的，多个相互不连通的独立图形呈阵列排布或交错排布。独立图形可为任意形状，本实施例中假设独立图形为矩形，本领域技术人员可知，该独立图形也可为三角形等其它形状。如图7中冗余图形406所示，独立矩形407、独立矩形408、独立矩形409独立矩形410呈阵列排布。各个图形之间也可交错排布，如独立矩形407、独立矩形414、独立矩形408、独立矩形415之间均为交错排布。多个相互不连通的独立图形也任意排列。
[0068]较佳的，冗余图形为全连通图形。如图10所示，图形707为一个全连通图形，四周边缘部分可为不规则形状。较佳的，全连通图形707中的边界应与元件图形的边界对齐，如全连通图形707中的边界708与元件图形709的下边界对齐。图10示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形706由一个全连通图形707组成。如图10中第一路径701、第二路径702、第三路径703、第四路径704，所经过的元件图形112与冗余图形706的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0069]较佳的，全连通图形包括多个第二镂空区域。如图11所示，图11示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形806包括多个第二镂空区域。冗余图形806包括全连通图形807，以及多个独立图形，如独立图形812、独立图形813、独立图形814。全连通图形807中包括多个第二镂空区域，如第二镂空区域808、第二镂空区域809、第二镂空区域810、第二镂空区域811。多个第二镂空区域可对齐排布，也可交错排布，如第二第二镂空区域808、第二镂空区域809、第二镂空区域810、第二镂空区域811的左右边界均对齐。如图11中第一路径801、第二路径802、第三路径803、第四路径804、第五路径805，所经过的元件图形112与冗余图形806的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0070]较佳的，如图12所示，图12示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形906包括多个第二镂空区域，第二镂空区域为矩形，且多个第二镂空区域呈阵列排列或交错排列。如图12中所示，冗余图形906包括多个第二镂空区域，如第二镂空区域907、第二镂空区域908、第二镂空区域909、第二镂空区域910、第二镂空区域911、第二镂空区域912、第二镂空区域913、第二镂空区域914、第二镂空区域915、第二镂空区域916、第二镂空区域917。还可包括独立图形918、独立图形919、独立图形920。多个第二镂空区域呈阵列排列，如第二镂空区域908、第二镂空区域910、第二镂空区域911的左右边界均对齐，呈阵列排布。第二镂空区域907、第二镂空区域909、第二镂空区域912、第二镂空区域912、第二镂空区域914、第二镂空区域915、第二镂空区域916、第二镂空区域917成交错排列。如图12中第一路径901、第二路径902、第三路径903、第四路径904、第五路径905，所经过的元件图形112与冗余图形906的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0071]较佳的，全连通图形为边缘不规则的整面图形，如图10所示，图10示例性示出了一种冗余图形的排布方式，冗余图形706由一个全连通图形707组成，全连通图形707为边缘不规则的整面图形。如图10中第一路径701、第二路径702、第三路径703、第四路径704、第五路径705，所经过的元件图形112与冗余图形706的长度之和均近似相等，即沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0072]较佳的，冗余图形由一个全连通图形组成时，由于冗余图形为全连通图形时，与滚轮摩擦会产生较多的静电，因此较佳的，需将冗余图形接触公共电极电位，以便于将由于与冗余图形摩擦而使滚轮上产生的静电导入大地。
[0073]通过上述论述可知，本发明实施例中，由于在显示区域和元件区域之间的走线区域设置有冗余图形，因此，滚轮依次滚过元件区域的元件图形、走线区域的冗余图形，之后进入显示区域；进一步由于沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，因此沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置经过不同路径达到显示区域时，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了配向摩擦的均匀性，改善了配向摩擦显示不均的情况。
[0074]图13示例性示出了一种显示装置的结构示意图，图14为图13沿截面8-8’的剖面结构示意图。
[0075]基于相同构思，本发明实施例还提供一种显示装置，如图13、图14所示，包括上述内容所论述的显示基板，从图13、图14中可看出，配向层预设摩擦方向为水平方向106，该显示基板包括衬底基板1004、配向层1003，以及设置于衬底基板1004与配向层1003之间的第一电极层1006，还包括冗余图形1002、元件图形1005，较佳的，冗余图形1002与第一电极层1006同层。显示基板和冗余图形的特性与上述论述内容一致，在此不再赘述。
[0076]较佳的，如13、图14所示，该显示装置还包括彩色滤光片基板1001，以及封框胶区1009，较佳的，冗余图形1002设置于封框胶区1009与彩色滤光片基板1001边界之间。此时，冗余图形可被彩色滤光片基板1001封装并保护起来。
[0077]从上述内容可以看出:本发明实施例中，衬底包括显示区域和元件区域，以及设置在显示区域和元件区域之间且围绕显示区域的走线区域；在衬底上设置具有预设摩擦方向的配向层，在走线区域设置有冗余图形，在元件区域设置有元件图形；沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
[0078]由于在显示区域和元件区域之间的走线区域设置有冗余图形，因此，滚轮依次滚过元件区域的元件图形、走线区域的冗余图形，之后进入显示区域；进一步由于沿摩擦方向的任意两条路径上，其中任一条路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上冗余图形和元件图形沿摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积，因此沿摩擦方向的任意两条路径上的冗余图形和元件图形长度之和近似相等；从而使滚轮在沿摩擦方向进入显示区域之前，滚轮的不同位置经过不同路径达到显示区域时，滚轮的不同位置均滚过了长度近似相等的图形，从而使滚轮上的各个位置产生了形状相一致的形变，从而提高了配向摩擦的均匀性，改善了配向摩擦显示不均的情况。
[0079]尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
[0080]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种显示基板，其特征在于，包括: 衬底基板，所述衬底基板包括显示区域和元件区域，以及设置在所述显示区域和元件区域之间且围绕所述显示区域的走线区域； 设置于所述衬底基板上的配向层，所述配向层具有预设的摩擦方向； 设置于所述衬底基板走线区域的冗余图形，设置于所述衬底基板元件区域的元件图形，其中，沿摩擦方向的任意两条路径上，一路径上所述冗余图形和元件图形沿所述摩擦方向上的长度之和不大于另一路径上所述冗余图形和元件图形沿所述摩擦方向上的长度之和与阈值的乘积。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述阈值为105%。
3.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括设置于所述衬底基板与所述配向层之间的第一电极层，所述冗余图形与所述第一电极层同层。
4.如权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一电极层为像素电极层或者公共电极层。
5.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述冗余图形为多个相互不连通的独立图形。
6.如权利要求5所述的显示基板，其特征在于，多个相互不连通的所述独立图形为矩形。
7.如权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述独立图形包括沿第一方向延伸的第一矩形和沿第二方向延伸的第二矩形，所述第一矩形与所述第二矩形间隔排布，其中，所述第一方向与所述第二方向垂直。
8.如权利要求5所述的显示基板，其特征在于，多个相互不连通的所述独立图形包括至少一个第一镂空区域。
9.如权利要求5所述的显示基板，其特征在于，多个相互不连通的所述独立图形呈阵列排布或交错排布。
10.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述冗余图形为全连通图形。
11.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述全连通图形包括多个第二镂空区域。
12.如权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述第二镂空区域为矩形，且多个所述第二镂空区域呈阵列排列或交错排列。
13.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述全连通图形为边缘不规则的整面图形。
14.如权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述冗余图形接触公共电极电位。
15.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述元件图形包括虚拟测试VT端子和/或集成电路端子形成的图形。
16.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至15所述的显示基板。
17.如权利要求16所述的显示装置，其特征在于，还包括彩色滤光片基板，所述冗余图形设置于所述封框胶区与彩色滤光片基板边界之间。
【文档编号】G02F1/1337GK104483780SQ201410790742
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年12月17日 优先权日:2014年12月17日
【发明者】席克瑞, 汪梅林, 李峻, 张新彦 申请人:上海中航光电子有限公司, 天马微电子股份有限公司