显示不均匀缺陷显现装置、方法和检测设备与流程

文档序号:11152683阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种显示不均匀缺陷显现装置,用于显现显示基板上的显示不均匀缺陷,其特征在于,所述显示不均匀缺陷显现装置包括激光发射源、激光感应器、运动支撑单元、显示不均匀缺陷显现单元以及位置检测单元,其中,

所述激光发射源用于被控制而向所述显示基板上的显示不均匀缺陷处发射激光信号,并被控制而描绘出所述显示不均匀缺陷的形貌;

所述运动支撑单元,与所述激光感应器连接,用于支撑所述激光感应器,并控制所述激光感应器运动至能够接收到所述激光发射源发射的激光的位置;

所述激光感应器,用于接收并记录所述激光发射源发射的激光信号;

所述显示不均匀缺陷显现单元,与所述激光感应器连接,用于将所述激光感应器接收到的激光信号转换为数字信号,以模拟出显示不均匀缺陷的形貌;

所述位置检测单元,与所述运动支撑单元连接,用于通过检测所述运动支撑单元支撑的激光感应器与所述显示基板的相对坐标,而得到所述显示不均匀缺陷在所述显示基板上的位置坐标。

2.如权利要求1所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,所述运动支撑单元还用于控制所述激光感应器的表面与所述显示基板之间的角度小于预定角度。

3.如权利要求1所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,所述显示基板设置于机台上;

所述运动支撑单元包括固定轨道、伸缩杆、旋转支撑模组和动力机构,其中,

所述动力机构分别与所述伸缩杆和所述旋转支撑模组连接;

所述固定轨道沿第一方向固定设置于所述机台的一侧边;

所述伸缩杆沿着第二方向设置,所述伸缩杆包括固定端和伸缩端;

所述伸缩杆的固定端设置于所述固定轨道上,所述伸缩杆能够被所述动力机构控制而沿着所述固定轨道滑动;

所述伸缩杆的伸缩端能够被所述动力机构控制而沿着第二方向运动;

所述旋转支撑模组设置于所述伸缩杆的伸缩端;

所述旋转支撑模组与所述动力机构连接,用于支撑所述激光感应器,并能够被所述动力机构控制而带动所述激光感应器旋转;

所述激光感应器位于所述机台和所述显示基板之间。

4.如权利要求3所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,所述旋转支撑模组包括支撑旋转球和支撑部;

所述支撑旋转球,设置于所述伸缩杆的伸缩端,与所述动力机构连接,能够被动力机构控制而旋转;

所述支撑部与所述支撑旋转球连接,并用于支撑所述激光感应器,能够随着所述支撑旋转球旋转而带动所述激光感应器相应旋转。

5.如权利要求3所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,所述位置检测单元包括位移传感器、角度传感器、显示基板位置检测模块,相对位置检测模块,其中,

所述位移传感器设置于所述伸缩杆的伸缩端;

所述角度传感器设置于所述旋转支撑模组;

所述位移传感器用于检测得到所述伸缩杆的伸缩端的线性位移信号;

所述角度传感器用于检测当所述旋转支撑模组被所述动力机构控制而旋转至所述激光感应器与所述显示基板平行时,所述旋转支撑模组需要旋转的角度信息;

所述显示基板位置检测模块,用于检测所述显示基板的绝对位置信息;

所述相对位置检测模块,分别与所述位移传感器、所述角度传感器和所述显示基板位置检测模块连接,用于根据所述显示基板的绝对位置信息,所述线性位移信号和所述角度信息,计算得到所述激光感应器在所述显示基板上的位置坐标。

6.如权利要求1至5中任一权利要求所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,还包括:

显示不均匀缺陷存储单元,分别与所述显示不均匀缺陷显现单元和所述位置检测单元连接,用于存储所述显示不均匀缺陷在所述显示基板上的位置坐标以及显示不均匀缺陷的形貌。

7.一种显示不均匀缺陷显现方法,应用于如权利要求1至6中任一权利要求所述的显示不均匀缺陷显现装置,其特征在于,所述显示不均匀缺陷显现方法包括:

激光发射源向显示基板上的显示不均匀缺陷处发射激光信号;

运动支撑单元控制激光感应器运动至能够接收到所述激光发射源发射的激光的位置,并控制所述激光感应器与所述显示基板之间的角度小于预定角度;

所述激光发射源描绘出所述显示不均匀缺陷的形貌;

所述激光感应器接收并记录所述激光发射源发射的激光信号;

显示不均匀缺陷显现单元所述激光感应器接收到的激光信号转换为数字信号,以模拟出显示不均匀缺陷的形貌;

位置检测单元通过检测所述运动支撑单元支撑的激光感应器与所述显示基板的相对坐标,而得到所述显示不均匀缺陷在所述显示基板上的位置坐标。

8.一种检测设备,包括机台,其特征在于,还包括如权利要求1至6中任一权利要求所述的显示不均匀缺陷显现装置;

所述显示不均匀缺陷显现装置用于检测设置于所述机台上的显示基板上的显示不均匀缺陷。

9.如权利要求8所述的检测设备,其特征在于,还包括接触点位存储单元、历史形貌存储单元、第一比较单元和第二比较单元;

所述接触点位存储单元,用于预先存储在生产过程中各工艺设备分别与所述显示基板接触的接触点位;

所述历史形貌存储单元,用于预先存储在生成过程中形成的多个历史显示不均匀缺陷的形貌,及形成该历史显示不均匀缺陷的工艺原因;

所述第一比较单元,分别与所述接触点位存储单元和所述显示不均匀缺陷显现装置包括的位置检测单元连接,用于通过比对来自所述位置检测单元的显示不均匀缺陷在所述显示基板上的位置坐标和所述接触点位,以得到显示不均匀缺陷位置匹配记录;

所述第二比较单元,分别与所述历史形貌存储单元和所述显示不均匀缺陷显现装置包括的显示不均匀缺陷显现单元连接,用于通过比较来自显示不均匀缺陷显现单元的显示不均匀缺陷的形貌和所述历史显示不均匀缺陷的形貌,以得到形成该显示不均匀缺陷的工艺原因。

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