技术特征：
技术总结
本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用了该上层膜形成用组合物的图案形成方法和电子器件的制造方法，本发明的含有聚合物的光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物中，能够通过光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物，以较高的焦点深度性能形成具有超微细的宽度或孔直径，例如60nm以下的沟槽图案或孔图案，所述光致抗蚀剂用上层膜形成用组合物在聚合物的通过凝胶渗透色谱法测定的分子量分布中，重均分子量为4万以上的高分子量成分的峰面积相对于整体峰面积为0.1％以下。
技术研发人员：后藤研由;井上尚纪;丹吴直纮;山本庆;白川三千纮
受保护的技术使用者：富士胶片株式会社
技术研发日：2016.02.18
技术公布日：2017.10.13