彩膜基板、柔性液晶显示面板及制备方法与流程

本发明涉及显示器制程领域，尤其涉及彩膜基板、柔性液晶显示面板及制备方法。

背景技术：

近年来，柔性显示技术由于其低功耗、可弯曲、柔韧性佳等优点受到广泛关注。

然而，柔性液晶显示面板一直存在弯折时，液晶分子受力发生严重偏移，从而造成液晶晶胞间隙不均，进而影响柔性液晶显示面板显示效果的问题。

因此，现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题，急需解决。

技术实现要素：

本发明提供一种柔性液晶显示面板，以解决现有柔性液晶显示面板存在弯折后液晶晶胞间隙不均和色偏严重的技术问题。

为解决以上问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供一种彩膜基板，包括：

柔性衬底基板；

光阻层，位于所述柔性衬底基板上；

配向层，位于所述光阻层远离所述柔性衬底的一侧；以及

黑矩阵墙，位于所述配向层远离所述光阻层的一侧，且存在至少一处所述黑矩阵墙的高度为阈值高度，所述黑矩阵墙组成的立体结构形成有容纳腔。

在本发明提供的彩膜基板中，所述黑矩阵墙的高度均相同。

在本发明提供的彩膜基板中，存在至少一处所述黑矩阵墙的高度低于其余部分所述黑矩阵墙的高度。

在本发明提供的彩膜基板中，存在至少一个像素单元周围的所述黑矩阵墙的高度，高于该像素单元内子像素间所述黑矩阵墙的高度。

在本发明提供的彩膜基板中，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙的高度均相同，且所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵墙的高度也都相同。

在本发明提供的彩膜基板中，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙的高度均相同，每个像素单元内子像素间的所述黑矩阵墙的高度也相同，存在至少两个像素单元，其子像素间的所述黑矩阵墙的高度不相同。

在本发明提供的彩膜基板中，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙的高度均相同，存在至少一个像素单元，所述像素单元内子像素间的所述黑矩阵墙的高度不相同。

在本发明提供的彩膜基板中，存在至少一个像素单元周围的所述黑矩阵墙，存在至少一处高度与别处的高度不相同。

本发明实施例还提供一种柔性液晶显示面板，包括阵列基板、彩膜基板、以及容纳于所述彩膜基板的黑矩阵墙容纳腔内的液晶，所述彩膜基板包括：

柔性衬底基板；

光阻层，位于所述柔性衬底基板上；

配向层，位于所述光阻层远离所述柔性衬底的一侧；以及

黑矩阵墙，位于所述配向层远离所述光阻层的一侧，且存在至少一处所述黑矩阵墙的高度为阈值高度，所述黑矩阵墙组成的立体结构形成有容纳腔。

同时，本发明实施例还提供一种彩膜基板的制备方法，包括：

提供柔性衬底基板；

在所述柔性衬底基板上制备光阻层；

在所述光阻层远离所述柔性衬底基板的一侧制备配向层；

在所述配向层远离所述光阻层的一侧上制备黑矩阵墙。

本发明的有益效果为：本发明提供一种彩膜基板、柔性液晶显示面板及制备方法，其彩膜基板包括柔性衬底基板、光阻层、配向层以及黑矩阵墙；通过在彩膜基板上设置具有液晶容纳腔的立体黑矩阵墙，将液晶固定于容纳腔内，防止了液晶分子的随意流动和偏移，避免了因液晶的偏移造成的晶胞间隙不均，即解决了现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的彩膜基板的3d结构示意图；

图2为本发明实施例提供的彩膜基板的第一种结构示意图；

图3为本发明实施例提供的彩膜基板的第二种结构示意图；

图4为本发明实施例提供的彩膜基板的第三种结构示意图；

图5为本发明实施例提供的彩膜基板的第四种结构示意图；

图6为本发明实施例提供的彩膜基板的第五种结构示意图；

图7为本发明实施例提供的彩膜基板的第六种结构示意图；

图8为本发明实施例提供的柔性液晶显示面板的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的彩膜基板的制备示意图；

图10为本发明实施例提供的柔性液晶显示面板的制备流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明的具体实施方案，对本发明实施方案和/或实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显而易见的，下面所描述的实施方案和/或实施例仅仅是本发明一部分实施方案和/或实施例，而不是全部的实施方案和/或实施例。基于本发明中的实施方案和/或实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前下所获得的所有其他实施方案和/或实施例，都属于本发明保护范围。

本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[左]、[右]、[前]、[后]、[内]、[外]、[侧]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明和理解本发明，而非用以限制本发明。术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或是暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

针对现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题，本发明提供一种彩膜基板可以解决这个问题。

在一种实施例中，如图1所示，本发明提供的彩膜基板1包括：

柔性衬底基板11，在一种实施例中，所述柔性衬底基板的材料为高分子聚合物；

光阻层12，位于所述柔性衬底基板11上，所述光阻层12包括同层依次重复设置的第一子像素121、第二子像素122和第三子像素123；

配向层13，位于所述光阻层12远离所述柔性衬底11的一侧；

黑矩阵墙14，位于所述配向层13远离所述光阻层12的一侧，且存在至少一处所述黑矩阵墙的高度为阈值高度，所述黑矩阵墙组成三维的蜂窝状立体结构，且形成有容纳腔，用于容纳液晶。

本发明提供一种彩膜基板，包括柔性衬底基板、光阻层、配向层以及黑矩阵墙；通过在彩膜基板上设置具有液晶容纳腔的立体黑矩阵墙，将液晶固定于容纳腔内，防止了液晶分子的随意流动和偏移，避免了因液晶的偏移造成的晶胞间隙不均，即解决了现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题。

所述黑矩阵墙固定液晶的能力、对液晶显示面板中阵列基板和所述彩膜基板的支撑作用、以及对于光横向折射的阻挡作用都与所述黑矩阵墙的设置方式有关。所述黑矩阵墙高度设置的越高，所述高黑矩阵墙设置的越密集，所述黑矩阵墙固定液晶的能力、对液晶显示面板中阵列基板和所述彩膜基板的支撑作用、以及对于光横向折射的阻挡作用越好，即解决现有柔性液晶显示面板存在的液晶分子受力发生严重偏移的问题、以及对组色偏问题越有效。

所述黑矩阵墙各位置的高度设置的越接近阈值高度，所述黑矩阵墙的立体结构越牢固，在受到外界压力时，其支撑效果就越好；所述黑矩阵墙设置的限定空间越小，设置的限定小空间越密集，液晶移动和偏移的范围越小，在受到压力作用时，液晶分子的固定效果越好，即液晶分子受力发生严重偏移的可能性越小；同时，所述黑矩阵设置的高度越高，所述高黑矩阵墙设置的越密集，对于光横向折射的阻挡作用越强，即降低液晶显示面板对组色偏的效果越好。

以下图2至图7对应为本发明的彩膜基板的六种具体实施例，图2至图7中的图(a)为该实施例的彩膜基板的正视结构示意图，图2至图7中的图(b)为该实施例的彩膜基板的侧视结构示意图。

在本发明的一种实施例中，如图2所示，所述黑矩阵墙14的高度均相同，所述高度为阈值高度，在三维空间上形成立体蜂窝状的结构。

该实施例对应的所述黑矩阵墙14，其所有部分均在显示面板中起主支撑作用，且三维的立体蜂窝状结构给与所述黑矩阵墙14更为牢固的几何结构，即该实施例对应的所述黑矩阵墙14为具有极强支撑能力的黑矩阵墙结构，在受到外界压力时，具有极好的支撑阵列基板和所述彩膜基板的效果。

所述黑矩阵墙14的高度均设置为阈值高度，就将所述容纳腔一个个限定在一个子像素面积对应的空间内，液晶移动和偏移的范围固定于小空间的所述容纳腔内，在受到压力作用时，液晶分子的固定效果极好，液晶分子发生偏移的可能性极小，从而解决了液晶显示面板存在的晶胞间隙不均的问题。

所述黑矩阵墙14的高度均设置为阈值高度，极好的阻挡了光的横向折射，从而能够极其有效降低液晶显示面板对组色偏的问题。

在本发明的一种实施例中，如图3所示，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14的高度均相同，所述高度为阈值高度；所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵14的高度也都相同，所述高度低于阈值高度。

如图3所示的实施例，相较于如图2所示的实施例，其降低了所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵14的高度，减少了所述黑矩阵墙14材料的使用。所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14在液晶显示面板中起主支撑作用，所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵14在液晶显示面板中起辅助支撑作用，其三维的立体类蜂窝状结构依然是牢固的几何构造，在受到外界压力时，起主支撑作用的所述黑矩阵墙14和起辅助支撑作用的所述黑矩阵墙14能够起到双重支撑阵列基板和所述彩膜基板的效果。

如图3所示的实施例，相较于如图2所示的实施例，其降低了所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵14的高度，所述容纳腔的限定空间变大，图中同一像素单元内上面部分空间内的液晶流动的范围增大，增大为一个像素单元面积，但是下面大部分空间内的液晶任限定在一个子像素面积，在受到压力作用时，该实施例所述的黑矩阵14依然能够很好地固定液晶分子，防止其在较大的范围内偏移，从而解决了液晶显示面板存在的晶胞间隙不均的问题。

如图3所示的实施例，相较于如图2所示的实施例，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14的高度设置为阈值高度，极好的阻挡了光的横向折射，所有像素单元内所有子像素间的所述黑矩阵14的高度设置为低于阈值高度，也能有效阻挡部分光的横向折射，从而能够有效的降低液晶显示面板对组色偏的问题。

在本发明的一种实施例中，如图4所示，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14的高度均相同，所述高度为阈值高度；每个像素单元内子像素间的所述黑矩阵墙14的高度也相同，所述高度低于阈值高度；存在至少两个像素单元，其子像素间的所述黑矩阵墙14的高度不相同。

在本发明的一种实施例中，如图5所示，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14的高度均相同，所述高度为阈值高度；存在至少一个像素单元，所述像素单元内子像素间的所述黑矩阵墙14的高度不相同；所述所有像素单元内，两个固定子像素间的所述黑矩阵墙14的高度相同。

在本发明的一种实施例中，如图6所示，所有像素单元周围的所述黑矩阵墙14的高度均相同，所述高度为阈值高度；存在至少一个像素单元，所述像素单元内子像素间的所述黑矩阵墙14的高度不相同；存在至少两个所述像素单元，其内两个固定子像素间的所述黑矩阵墙14的高度不相同。

在本发明的一种实施例中，如图7所示，存在至少一个像素单元周围的所述黑矩阵墙14，存在至少一处的高度与别处的高度不相同。

如图8所示，本发明还提供一种柔性液晶显示面板，包括彩膜基板1、阵列基板2、以及容纳于所述彩膜基板的黑矩阵墙容纳腔内的液晶3，所述彩膜基板1包括：

柔性衬底基板11，在一种实施例中，所述柔性衬底基板的材料为高分子聚合物；

光阻层12，位于所述柔性衬底基板11上，所述光阻层12包括同层依次重复设置的第一子像素121、第二子像素122和第三子像素123；

配向层13，位于所述光阻层12远离所述柔性衬底11的一侧；

黑矩阵墙14，位于所述配向层13远离所述光阻层12的一侧，且存在至少一处所述黑矩阵墙的高度为阈值高度，所述黑矩阵墙组成三维的蜂窝状立体结构，且形成有容纳腔，用于容纳液晶。

本发明提供一种柔性液晶显示面板，包括彩膜基板、阵列基板、以及容纳于所述彩膜基板的黑矩阵墙容纳腔内的液晶，其彩膜基板包括柔性衬底基板、光阻层、配向层以及黑矩阵墙；通过在彩膜基板上设置具有液晶容纳腔的立体黑矩阵墙，将液晶固定于容纳腔内，防止了液晶分子的随意流动和偏移，避免了因液晶的偏移造成的晶胞间隙不均，即解决了现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题。

如图9所示，本发明提供一种彩膜基板的制备方法，包括：

提供柔性衬底基板11，如图9中的(a)所示；

在所述柔性衬底基板11上制备光阻层12，所述制备光阻层包括制备同层设置的第一子像素121、第二子像素122、第三子像素123，其效果如图9中的(b)所示；

在所述光阻层12远离所述柔性衬底基板11的一侧制备配向层13，其效果如图9中的(c)所示；

在所述配向层13远离所述光阻层12的一侧上制备黑矩阵墙14,其效果如图9中的(d)所示。

同时，如图10所示，本发明还提供一种柔性液晶显示面板的制备方法，包括制备彩膜基板1、制备阵列基板2、以及将所述彩膜基板和所述阵列基板对合。

所述制备所述彩膜基板的具体步骤包括：

s11、提供柔性衬底基板；

s12、在所述柔性衬底基板上制备像素层；

s13、在所述像素层远离所述柔性衬底基板的一侧制备配向层；

s14、在所述配向层远离所述像素层的一侧上制备黑矩阵墙；

s15、在所述黑矩阵墙的容纳腔内注入液晶。

所述黑矩阵墙在所述像素层制备完成后再制作，避免了像素光阻在黑矩阵上形成“牛角”造成表面不平，从而影响后续支撑结构站位的问题，同时，在本发明实施例中，所述彩膜基板制程简化了现有彩膜基板的制备工序。

所述制备所述阵列基板的具体步骤包括：

s21、提供柔性衬底基板；

s22、在所述柔性衬底基板上依次制备各膜层；

s23、在所述膜层远离所述柔性衬底基板的一侧制备配向层；

s14、进行框胶涂布。

所述将所述彩膜基板和所述阵列基板对合的具体步骤包括：

将制备所得所述彩膜基板和制备所得的所述阵列基板进行合板。

根据上述实施例可知：

本发明提供一种彩膜基板、柔性液晶显示面板及制备方法，其彩膜基板包括柔性衬底基板、光阻层、配向层以及黑矩阵墙；通过在彩膜基板上设置具有液晶容纳腔的立体黑矩阵墙，将液晶固定于容纳腔内，防止了液晶分子的随意流动和偏移，避免了因液晶的偏移造成的晶胞间隙不均，即解决了现有柔性液晶显示面板存在液晶分子受力发生严重偏移的问题。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。