Opto Products Co.，Ltd·)、以及 KC4UY (Konica Minolta Opto Products Co.，Ltd.)等。
[0083] 环状烯烃系树脂包含降冰片烯或多环降冰片烯系单体等环状烯烃的聚合物、或者 它们的共聚物。该环状烯烃系树脂可以包含开环结构，另外，也可以对包含开环结构的环状 烯烃系树脂进行了加氢。另外，该环状烯烃系树脂在不显著损害透明性、不显著增加吸湿性 的范围内可以包含来源于链状烯烃和乙烯基化芳香族化合物的结构单元。另外，该环状烯 烃系树脂可以在其分子内导入有极性基团。
[0084] 作为链状烯烃，可列举出乙烯和丙烯等，作为乙烯基化芳香族化合物，可列举出苯 乙烯、α -甲基苯乙烯和烷基取代苯乙烯等。
[0085] 环状烯烃系树脂为环状烯烃与链状烯烃或乙烯基化芳香族化合物的共聚物时，来 源于环状烯烃的结构单元的含量相对于共聚物的全部结构单元通常为50摩尔％以下，优选 为15~50摩尔％。
[0086] 环状烯烃系树脂为环状烯烃与链状烯烃与乙烯基化芳香族化合物的三元共聚物 时，来源于链状烯烃的结构单元的含量相对于共聚物的全部结构单元通常为5~80摩尔％， 来源于乙烯基化芳香族化合物的结构单元的含有比例相对于共聚物的全部结构单元通常 为5~80摩尔％。这种三元共聚物具有能够将昂贵的环状烯烃的用量降低为较少这一优 点。
[0087] 环状烯烃系树脂可从市场获取。作为市售的环状烯烃系树脂，可列举出Topas (注册商标）（Ticona 公司（德））、ARTON (注册商标）（JSR CORPORATION)、ZE0N0R (注册商 标）（ΖΕΟΝ CORPORATION)、ZEONEX (注册商标）（ΖΕΟΝ CORPORATION)以及、APEL (注册商 标）（三井化学株式会社）等。可以将这种环状烯烃系树脂通过例如溶剂流延法、熔融挤出 法等公知的手段来制膜，从而制成基材。作为市售的包含环状烯烃系树脂的基材，可列举 出 Esushina (注册商标）（SEKISH CHEMICAL CO. ,LTD. )、SCA40 (注册商标）（SEKISH CHEMICAL CO. ,LTD. )、ZE0N0R FILM (注册商标）（0PTES CORPORATION)、以及 ARTON FILM (注册商标）（JSR CORPORATION)等。
[0088] 可以对基材实施表面处理。作为表面处理的方法，可列举出例如：在从真空至大气 压的气氛下用电晕或等离子体对基材的表面进行处理的方法；对基材表面进行激光处理的 方法；对基材表面进行臭氧处理的方法；对基材表面进行皂化处理的方法；对基材表面进 行火焰处理的方法；在基材表面涂布偶联剂的方法；对基材表面进行底漆处理的方法；以 及，使反应性单体、具有反应性的聚合物附着于基材表面后照射放射线、等离子体或紫外线 而进行要反应的接枝聚合并处理的方法等。其中，优选的是，在从真空至大气压的气氛下对 基材表面进行电晕或等离子体处理的方法。
[0089] 作为用电晕或等离子体进行基材的表面处理的方法，可列举出如下方法：在大气 压附近的压力下，在相对的电极间设置基材，使其产生电晕或等离子体，进行基材的表面处 理的方法；向相对的电极间流通气体，将气体在电极间进行等离子体化，将进行了等离子体 化的气体吹附至基材的方法；以及，在低压条件下，使其产生辉光放电等离子体，进行基材 的表面处理的方法。
[0090] 其中，优选的是，在大气压附近的压力下，在相对的电极间设置基材，使其产生电 晕或等离子体，进行基材的表面处理的方法；或者，向相对的电极间流通气体，将气体在电 极间进行等离子体化，将进行了等离子体化的气体吹附至基材的方法。基于所述电晕或等 离子体的表面处理通常利用市售的表面处理装置来进行。
[0091] 基材可以在要涂布光学各向异性膜形成用组合物的面的相反面具有保护膜。作为 保护膜，可列举出聚乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚烯烃等膜、以及在该膜上 进一步具有粘接层的膜等。优选的是，在要涂布光学各向异性膜形成用组合物的面的相反 面具有粘接层，进而在其上具有保护膜。其中，从干燥时的热变形小这一点来看，优选为聚 对苯二甲酸乙二醇酯。通过在基材的、要涂布光学各向异性膜形成用组合物的面的相反面 具有保护膜，能够抑制搬运基材时的膜的摇动、涂布面的轻微的振动，能够提高涂膜的均一 性。
[0092] 基材的厚度从能够实际操作的程度的重量这一点优选为薄，但过薄时存在强度降 低、加工性差的倾向。基材的厚度通常为5~300 μ m，优选为20~200 μ m。
[0093] 长条膜基材的长度方向的长度通常为10~3000m，优选为100~2000m。基材的 宽度方向的长度通常为〇. 1~5m，优选为0. 2~2m。
[0094] 〈高分子树脂膜〉 该光学各向异性膜优选在该光学各向异性膜与基材之间具有高分子树脂膜。高分子树 脂膜的厚度优选为Inm~300nm，更优选为IOnm~300nm，进一步优选为IOnm~200nm〇
[0095] 为了减小对基材和光学各向异性膜的光学特性的影响，高分子树脂膜的相对于 550nm的光的正面相位差值R tl (550)优选为0~10nm，更优选为0~8nm，进一步优选为 0 ~6nm〇
[0096] 高分子树脂膜优选为能够使液晶性材料发生取向的、具有取向控制力的取向膜。
[0097] 作为取向膜，优选为如下膜：其具有不会因涂布光学各向异性膜形成用组合物等 而溶解的耐溶剂性，且具有用于去除溶剂、液晶化合物的取向的加热处理的耐热性。作为取 向膜，可列举出包含取向性聚合物的取向膜、光取向膜、以及在表面具有凹凸图案或多个槽 的凹槽取向膜等。
[0098] 这种取向膜容易进行液晶性材料的取向，另外，能够通过取向膜的种类、摩擦条件 (rubbing condition)进行水平取向、垂直取向、混合（hybrid)取向、倾斜取向等各种取向 的控制。
[0099] 〈包含取向性聚合物的取向膜〉 作为取向性聚合物，可列举出具有酰胺键的聚酰胺、明胶类；具有酰亚胺键的聚酰亚胺 及其水解物即聚酰胺酸；聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚噁唑、聚乙烯亚胺、 聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酸以及聚丙烯酸酯类。其中，优选为聚乙烯醇。可以 将两种以上的取向性聚合物组合。
[0100] 包含取向性聚合物的取向膜可以如下获得：通常通过将溶解于溶剂的取向性聚合 物的取向性聚合物组合物涂布于基材，去除溶剂来形成涂布膜；或者，将取向性聚合物组合 物涂布于基材，去除溶剂来形成涂布膜，摩擦该涂布膜，从而获得。
[0101] 作为前述溶剂，可列举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁 基溶纤剂、丙二醇单甲基醚等醇溶剂；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇甲基醚醋酸酯、γ-丁内 酯、丙二醇甲基醚醋酸酯、乳酸乙酯等酯溶剂；丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮、 甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂； 乙腈等腈溶剂；四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂；以及，氯仿、氯苯等氯化烃溶剂。溶剂也 可以组合两种以上。
[0102] 取向性聚合物组合物中的取向性聚合物的浓度只要在取向性聚合物全溶于溶剂 的范围即可。取向性聚合物相对于取向性聚合物组合物的含量优选为0. 1~20质量％，更 优选为〇. 1~10质量％。
[0103] 取向性聚合物组合物可以从市场上获取。作为市售的取向性聚合物组合物，可列 举出SUNEVER(注册商标、日产化学工业株式会社制）、OPTOMER(注册商标、JSR CORPORATION 制）等。
[0104] 作为将取向性聚合物组合物涂布于基材的方法，可列举出如下公知方法：旋涂法、 挤压法、凹版涂布法、模具涂布法、狭缝涂布法、棒涂法、涂敷法等涂布法、柔版印刷法等印 刷法等。通过后述的Roll to Roll形式的连续制造方法来制造光学各向异性膜时，作为该 涂布方法，通常采用凹版涂布法、模具涂布法或柔版印刷法等印刷法。
[0105] 作为去除取向性聚合物组合物所含的溶剂的方法，可列举出自然干燥、通风干燥、 加热干燥、减压干燥以及将它们组合而成的方法。干燥温度优选为10~250°C、更优选为 25~200°C。干燥时间还因溶剂种类而异，优选为5秒钟~60分钟、更优选为10秒钟~30 分钟。
[0106] 可以对由取向性聚合物组合物形成的涂布膜实施摩擦处理。通过实施摩擦处理， 可以对前述涂布膜赋予取向控制力。
[0107] 作为摩擦处理的方法，可列举出使前述涂布膜与缠绕有摩擦布且旋转的摩擦辊接 触的方法。