大压力按压时，彩膜基板相对阵列基板偏移，偏移后彩膜基板上的黑矩阵无法遮挡栅线和公共电极线之间的间隔区域，遮光条能够很好地对间隔区域进行遮挡，防止间隔区域漏光造成液晶显示面板的漏光不良。
[0057]本实施例中阵列基板的其他结构与实施例1-2任意一个中相同，此处不再赘述。
[0058]基于阵列基板的上述结构，本实施例还提供一种该阵列基板的制备方法，与实施例1-2中阵列基板的制备方法不同的是，形成像素单元还包括形成像素电极和公共电极，公共电极形成于像素电极上方，像素电极形成于遮光条上方，且像素电极完全覆盖遮光条。另外，像素电极和公共电极之间还设置有绝缘层，像素电极和遮光条之间还设置有钝化层。
[0059]其中，像素电极、公共电极、钝化层和绝缘层的制备工艺采用传统的制备工艺，具体不再详述。
[0060]本实施例中阵列基板的其他结构的制备方法与实施例1-2任意一个中相同，此处不再赘述。
[0061]实施例1-3的有益效果:实施例1-3所提供的阵列基板，通过设置遮光条，能够将栅线和公共电极线之间的间隔区域遮挡住，从而使栅线和公共电极线之间的间隔区域在未被彩膜基板上的黑矩阵遮挡住时不会发生漏光，进而避免该阵列基板出现漏光不良。
[0062]实施例4:
[0063]本实施例提供一种显不面板，包括实施例1-3任意一个中的阵列基板。
[0064]通过采用实施例1-3任意一个中的阵列基板，能够避免该显示面板在受到较大压力按压时发生漏光，从而避免出现漏光不良。
[0065]实施例5:
[0066]本实施例提供一种显示装置，包括实施例4中的显示面板。
[0067]通过采用实施例4中的显示面板，使该显示装置能够在受到较大压力按压时不会发生漏光，从而也不会出现漏光不良。
[0068]该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0069]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种阵列基板，包括基板和设置在所述基板上的呈阵列排布的多个像素单元、多条栅线和多条公共电极线，每行所述像素单元对应一条所述栅线和一条所述公共电极线，与各行所述像素单元对应的所述栅线和所述公共电极线位于各行所述像素单元的同一侧，且相互平行并间隔，其特征在于，还包括遮光条，所述遮光条与所述栅线和所述公共电极线之间的间隔区域位置相对应，且所述遮光条在所述基板上的正投影遮挡所述间隔区域。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光条的宽度大于等于所述栅线和所述公共电极线之间的所述间隔区域的宽度，且小于所述栅线、所述公共电极线和所述间隔区域的总宽度。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅线和所述公共电极线同层设置，所述遮光条位于所述栅线和所述公共电极线的上方或下方。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元包括晶体管，所述晶体管包括栅极、有源区、源极和漏极，所述栅极与所述栅线同层设置并连接，所述源极和所述漏极同层设置且采用相同材料制成，所述源极和所述漏极位于所述栅极上方或下方，所述遮光条与所述源极和所述漏极同层设置且采用相同的材料制成。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元还包括像素电极，所述像素电极设置在所述遮光条的上方，且所述像素电极完全覆盖所述遮光条。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元还包括公共电极，所述公共电极与所述像素电极位置相对应，所述公共电极设置在所述栅线和所述公共电极线下方，且所述公共电极与所述公共电极线连接。7.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元还包括像素电极和公共电极，所述像素电极设置在所述公共电极上方，所述公共电极设置在所述遮光条上方，且所述公共电极完全覆盖所述遮光条。8.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元还包括像素电极和公共电极，所述公共电极设置在所述像素电极上方，所述像素电极设置在所述遮光条上方，且所述像素电极完全覆盖所述遮光条。9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任意一项所述的阵列基板。10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。11.一种如权利要求1-8任意一项所述的阵列基板的制备方法，包括:在基板上形成像素单元、栅线和公共电极线，其特征在于，还包括在基板上形成遮光条，所述遮光条在所述基板上的正投影遮挡所述栅线和所述公共电极线之间的间隔区域。12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述栅线和所述公共电极线采用相同材料并在一次构图工艺中同时形成，所述遮光条形成于所述栅线和所述公共电极线的上方或下方。13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，形成所述像素单元包括形成晶体管，形成所述晶体管包括形成栅极、有源区、源极和漏极，所述栅极与所述栅线采用相同材料并在一次构图工艺中同时形成；所述源极和所述漏极在一次构图工艺中同时形成，所述遮光条与所述源极和所述漏极在一次构图工艺中同时形成。14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，形成所述像素单元还包括形成像素电极，所述像素电极形成于所述遮光条上方，且所述像素电极完全覆盖所述遮光条。15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，形成所述像素单元还包括形成像素电极和公共电极，所述公共电极形成于所述像素电极上方，所述像素电极形成于所述遮光条上方，且所述像素电极完全覆盖所述遮光条。16.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，形成所述像素单元还包括形成像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述公共电极上方，所述公共电极形成于所述遮光条上方，且所述公共电极完全覆盖所述遮光条。
【专利摘要】本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该阵列基板包括基板和设置在基板上的呈阵列排布的多个像素单元、多条栅线和多条公共电极线，每行像素单元对应一条栅线和一条公共电极线，与各行像素单元对应的栅线和公共电极线位于各行像素单元的同一侧，且相互平行并间隔，还包括遮光条，遮光条与栅线和公共电极线之间的间隔区域位置相对应，且遮光条在基板上的正投影遮挡间隔区域。该阵列基板通过设置遮光条，能够将栅线和公共电极线之间的间隔区域遮挡住，从而使栅线和公共电极线之间的间隔区域在未被彩膜基板上的黑矩阵遮挡住时不会发生漏光，进而避免该阵列基板出现漏光不良。
【IPC分类】G02F1/1335, G02F1/1343
【公开号】CN104880852
【申请号】CN201510333832
【发明人】曹雪, 陈希, 陈东, 薛海林, 谢建云, 王建, 李彦辰, 赵伟
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年6月16日