0090]为此，封锁滤波器36具有相对于使用辐射10的传播方向40横向延伸的遮挡元件
41。下面更详细地描述封锁滤波器36，尤其其构成部件的构造。
[0091]在图5所示示例性实施例中，封锁滤波器36包括多个遮挡元件41。遮挡元件41可以首先由格栅46的格栅连接片47实现，格栅会在下面更详细地描述。遮挡元件还可由格栅46的填充孔49形成。在这方面，应指出，为了制造格栅，可从基板切割出辐射透射区域，例如金属片或膜。原则上，还可设想的是，提供网状基板，然后填充意在充当遮挡元件41的孔49。
[0092]格栅连接片47尤其形成遮挡元件41，用于遮挡杂散光42和/或外部光线。填充孔49尤其形成遮挡元件41，用于遮挡使用辐射10。换言之，遮挡元件41不仅可用于阻挡分配给缺陷微反射镜39*的光束35*，而且还可缩小光圈，即阻挡杂散光。
[0093]在图5所示示例性实施例中，格栅46实施为自支撑结构。原则上，还可将格栅布置在载体上，载体尤其由对使用辐射10透明的材料构成。
[0094]下面参考图6和7更详细地描述封锁滤波器36的构造。
[0095]封锁滤波器36—般是包括框架43的光学部件。框架43用于布置，尤其固定遮挡元件41和/或其承载结构。遮挡元件41 一般是关于传播方向40横向延伸的光学元件45的构成部件。框架43因此用于安装至少一个光学元件45。遮挡元件41关于使用辐射10的传播方向40横向延伸。独立于投射曝光设备中的光路，对应于传播方向40的方向还称为第一方向。垂直于传播方向40的平面在下文中称为横向平面，其由两个横向方向44!和442跨越。在下文中，还总体上提及了横向方向44，其垂直于传播方向40取向。
[0096]遮挡元件41可直接固定在框架43上或框架43中。
[0097]光学元件45在中心区域中在传播方向40上是自由可接近的。特别地，由框架43围绕的区域表示为中心区域。光学元件45布置在框架43中，尤其使得其可在中心区域中在传播方向40上移位。光学元件尤其可在中心区域中凸起或弯曲。
[0098]光学元件45在边缘区域由框架43固定。光学元件尤其在周向延伸(优选闭合的)边缘区域中由框架43固定。一般来说，光学元件45在横向平面中彼此相对安置的至少两个位置处在垂直于传播方向40的方向(尤其在横向方向44)上由框架43固定。
[0099]光学元件45可实施为膜，其厚度为至多1mm、尤其至多500μπι、尤其至多200μπι、尤其至多ΙΟΟμπι、尤其至多50μηι、尤其至多20μηι、尤其至多ΙΟμπι、尤其至多Ιμπι、尤其至多lOOnm、尤其至多10nm、尤其至多5nm。光学元件还可以膜状方式实施。膜状实施例在此应理解为意味着光学元件45的厚度相对于其在横向平面上的范围，尤其是其最大范围较小。厚度与光学元件45的横向方向上的最大范围的比率为尤其至多1:100、尤其至多1:1000、尤其至多1:104、尤其至多1:105、尤其至多1:106、尤其至多1:107、尤其至多1:108。
[0100]光学元件45还可实施为板或以板状方式实施。光学元件可以自支撑方式实施。光学元件还可包括载体或施加到载体。
[Ο?Ο? ]在图6中，举例而言，载体实施为格栅46。格栅46是金属格栅、半导体格栅或陶瓷格栅。格栅46包括格栅连接片47，其优选地制得非常窄。格栅连接片47尤其具有处于Ιμπι至100讓的范围中、尤其处于3μηι至30μηι的范围中、尤其处于5μηι至20μηι的范围中的宽度。格栅46在传播方向40上的厚度为至多1mm、尤其至多500μπι、尤其至多200μπι、尤其至多ΙΟΟμπι、尤其至多50μ??、尤其至多20μ??、尤其至多ΙΟμ??、尤其至多Ιμ??、尤其至多100醒、尤其至多10nm、尤其至多5nm。结果，格栅46以膜状方式、尤其以可弯曲的方式表现。格栅46(尤其是格栅连接片47)还可本身形成遮挡元件41，尤其用于遮挡杂散光和/或外部光线(见图5)。换言之，格栅46本身可以是遮挡元件41的一部分。
[0102]代替格栅46，玻璃板，尤其是结构化玻璃板还可充当载体。一般来说，载体具有对使用辐射10为辐射透射的区域。特别地，载体可实施为对使用辐射10为辐射透射的。在该情况下，辐射透射应当理解为意味着至少50%、尤其至少70%、尤其至少90%、优选地至少99%的透射率。遮挡元件41形成辐射非透射区域。在该情况下，辐射非透射应当理解为意味着小于50%、尤其小于30%、尤其小于10%、尤其小于1 %、尤其小于0.1 %、尤其小于0.01%的透射率。
[0103]在格栅46的情况下，辐射非透射区域可以由填充孔49形成。辐射透射区域可以是敞开的格栅孔形成，即由格栅46中的切口形成。
[0104]光学元件45在横向平面中、尤其在周向延伸区域中由框架43稳定地保持。通过框架43，光学元件45至少区域地、尤其边缘地、尤其在横向方向44上(S卩在垂直于传播方向40的方向上)固定。
[0105]在图6a和6b所示示例性实施例中，格栅46直接布置在框架43上或框架43中。整体辐射透射区域因此在由框架43周向定界的整个区域上延伸。
[0106]在图7a和7b所示示例性实施例中，格栅46在边上包括以封闭方式(即以辐射非透射方式)实施的区域50。换言之，区域50不具有敞开的格栅孔。区域50还表示为格栅46的一部分。与格栅46的其余部分类似，区域50可以膜状方式实施。除辐射非透射之外，区域50尤其可与格栅46的其余部分类似地实现。用于识别滤波器36的ID数字55可装配在区域50上。
[0107]此外，图7a示意性表示，格栅46包括四个局部区域51，其在各情况下通过辐射非透射区域52彼此分隔开。除了其在横向方向上的范围，辐射非透射区域52可与格栅连接片47类似地实施。辐射非透射区域可尤其有助于格栅46在框架43中的机械稳定。辐射非透射区域还可以框架状方式实施。辐射非透射区域可尤其在传播方向40上具有比格栅连接片47更大的尺寸，即更大的厚度。辐射非透射区域52的厚度可以为格栅连接片47的厚度大小的至少两倍、尤其至少三倍、尤其至少五倍。辐射非透射区域52可以条状方式、尤其以坩祸方式实施。辐射非透射区域还可包括多个条，并以格栅状方式实施。
[0108]单独的局部区域51可分配给以模块状方式实施的分离的微反射镜阵列37。
[0109]框架43尤其以周向包围的方式实施。光学元件45在边缘上夹在框架43中。光学元件尤其固定在框架43上或框架43中。该固定优选地设计成光学元件45、尤其是格栅46不会横向滑动。该固定可包括例如磁性方式。
[0110]特别地，可将永久磁体布置在框架43中，借助永久磁体，可固定铁磁格栅。磁体尤其布置成它们的磁化(magnetizat1n)垂直于格栅46对准。
[0111]在另一实施例中，格栅46和框架43由导电材料构成。在该情况下，格栅46和框架43通过薄的绝缘层彼此分隔开。为了固定格栅46的目的，在格栅46和框架43之间施加电压。由此，通过静电力实现固定。同样，在该情况下，固定力垂直于横向平面对准。
[0112]在替代实施例中，光学元件45机械地夹在框架43中。特别地，这防止扭矩作用在光学元件45，尤其格栅46上。这可例如通过固定光学元件45的夹紧弹簧来实现，夹紧弹簧实施为它们在夹紧螺钉张紧期间不会伴随地转动，并由此仅垂直于表面施加力。
[0113]优选地，光学元件45在框架43中的固定是可逆的。光学元件45尤其以可更换的方式布置在框架43中。然而，还可将光学元件45粘性接合在框架43中。
[0114]框架43相对于光学元件45以机械稳定方式实施。框架尤其在传播方向40上的厚度为光学元件45的厚度大小的至少10倍、尤其至少100倍、尤其至少1000倍。
[0115]框架43可优选地以轮廓化方式实施。结果，其硬度可以进一步改进，尤其以有目标的方式局部设定。此外，如此可减少用于框架的材料，从而优化成本和重量。
[0116]框架43各处可具有相同的硬度。然而，框架还可具有在其尺寸范围内变化的硬度。特别地，与侧边缘的中心区域相比，框架43可在角部区域中不同地实施。
[0117]框架43优选地热联接到冷却装置48，冷