专利名称：连续式真空装饰镀覆物品的方法
技术领域：
本发明是一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，其是涉及于金属材料镀覆的表面处理技术领域，尤指佐以连续式真空镀膜方法对物品表面均匀镀膜。
背景技术：
现有金属物品为具备保护、装饰、防的功能，其施以表面处理方法多为电镀，传统电镀流程如图4所示，将诸如铝轮圈的物品以铸造成形后，进行诸如车削、钻孔等加工流程，再进行抛光以让表面光滑，之后进行电镀的表面处理，电镀完成后再上一层保护漆即制为成品。
前述处理方法历久以来存在下列问题1.因电镀方法是将物品浸镀在含有盐酸、硫酸镍、次亚磷酸钠、甲醛、氢氧化钠..等有毒物质电解液，因此电镀污水将会对水源及生态产生严重污染，对环境伤害甚大。
2.物品铸造加工后，尚须进行抛光以提供光整表面，抛光作业时间耗时，增长作业时间，成本很高。
纵使目前有一种是真空镀膜方式，其是采以大型真空炉，将物品掷入真空炉内抽真空，于真空环境下镀上一层薄膜。但是由于每次开、关真空炉需要耗费大量时间来抽真空、破真空，以及装卸真空炉内的物品，装卸物品于真空炉的过程仍需人工操作而无自动出料设计，因此人力耗费大，生产效率不高，更者，多个物品容载于真空炉，摆放位置不同而出现镀膜品质不均匀的问题。
发明内容
本发明者有鉴于前述揭露的以电镀方式、真空电镀方式仍然存在问题，因此重新设计出一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，来达到无环境污染、品质均匀细致、可以连续式生产来提高产能为其主要创作目的。
为了可达到前述的创作目的，本发明所运用的技术手段是在于提供一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，其方法流程如下所列
a、粉体底漆涂布以粉体涂料型态的底漆涂布物品表面而形成底漆层；b、粉体介质漆涂布以粉体型态的涂料于底漆层干燥后，涂布于底漆层上形成介质层；c、连续式真空镀膜物品以置于输送带上的连续输送方式，一个接一个地送入用以入料的低真空腔体，逐渐载送高真空腔体内进行溅镀薄膜流程，接着加载用以破真空卸物品的低真空腔体内，完成薄膜溅镀于物品的介质层上的流程；d、上表面保护漆于薄膜表面涂上透明状保护层，干燥之后即完成。
本发明可以获得的功效，主要是如下所列1.本发明在物品表面以粉体涂装方式涂覆底漆层、可加强薄膜亲和力的介质层以后，再让薄膜溅镀于上，最后配合涂上透明、耐候性佳的保护漆，在整个制程中不会产生或使用有害的化学药剂，而且在真空环境内对物品溅镀薄膜而少污染，免于电镀方式对环境污染的冲击，整个制程深具环保性。
2.本发明的连续式镀膜流程中，主要是将真空环境分割为独立空间的真空腔体，而由低真空腔体的环境预抽真空，再进入高真空腔体内进行溅镀流程，最后送入真空腔体环境用以破真空，对物品卸料，使物品是一个接一个地连续紧密送入，相对于第一个物品完成镀膜时，已经有三个物品同时在各腔体内进行，减少每个物品完成镀膜的周期时间，降低作业成本与时间，加速生产效率。
3.由于一个真空腔体是处理一件物品，单独进行处理，让物品得到均匀细致的镀膜品质，让物品表面处理效果，更具光鲜亮丽的外观视觉感。
图1是本发明较佳实施例的流程示意图。
图2是本发明较佳实施例的成品剖视图。
图3是本发明较佳实施例的镀膜上视平面示意图。
图4是现有物品电镀处理的流程示意图。
附图中10--物品 11--底漆层13--介质层 15--薄膜17--保护层20--连续式真空镀膜设备
21--输送带 22--输送台23--第一低真空腔体24--第一高真空腔体25--第二高真空腔体26--第二低真空腔体具体实施方式
本发明是一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，请参看图1，本发明对物品镀覆的方法流程，首先，物品铸造成形〔比如是铝轮圈〕以后，再于物品上进行车削或钻孔等加工，接着进行镀覆物品表面的处理方法a、粉体底漆涂布以粉体型态的工业涂料，将粉体涂料，涂布物品表面而形成底漆，形成如图2所示，用以底漆层11掩盖并抚平物品10表面因铸造形成的粗糙状；b、粉体介质漆涂布以粉体型态的工业涂料，于底漆层11干燥后，涂布于底漆层11上；c、连续式真空镀膜请配合图2、3，于连续式真空镀膜设备20对物品10进行镀膜，连续式真空镀膜设备20设有输送带21，输送带21可为长方框封闭状，输送带21上设有数个随输送带21走动，并用以供物品10置放的输送台22，输送台22位于进料、出料间的位置设有第一低真空腔体23、第一高真空腔体24、第二高真空腔体25、第二低真空腔体26。而第一低真空腔体23、第一高真空腔体24、第二高真空腔体25、第二低真空腔体26抽真空环境是个别独立控制；依此，将每一个物品10各别置于一个输送台22上，透过输送带21的传动，使物品10是一个一个地依序加载第一低真空腔体23，第一个物品10加载低真空环境的第一低真空腔体23，再进入第二高真空腔体25同时，第二个物品10则随输送带21加载第一低真空腔体23，使各物品10一个接一个，连续加载抽真空环境，而第一个物品10加载第一高真空腔体24，就在第二高真空腔体25的高真空环境下，在物品10的介质层13上溅镀，于真空中利用辉光放电将氩气离子撞击金属或合金作成的靶材表面，使靶材溅射飞出的粒子，沉积在物品10介质层13表面形成薄膜15，并透过该高真空环境来降低镀膜周期时间，减少污染，由于该介质层13居间加强底漆层11与薄膜15间的亲和融合能力，让物品10结合薄膜15无困难性并确保密实；而当薄膜15披覆于物品10上形成图2所示，接着，已镀上薄膜15的物品10加载第二低真空腔体26的低真空环境，之后送出第二低真空腔体26后送出输送带21；d、上表面保护漆镀上可有效阻隔氧化、防蚀的薄膜15的物品10，再于薄膜15表面涂上透明漆状、耐候性佳的保护层17，干燥之后便为成品。
因此，本发明主要是改变以往抛光、电镀方式，而以底漆层11、介质层13提供物品10有光整表面、基本防蚀功能，再透过连续式真空溅镀方法镀覆薄膜15，以由薄膜15的色泽提供装饰、更深层防蚀功能，并且大幅降低成本。
权利要求
1.一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，其特征在于，其方法流程如下所列a、粉体底漆涂布以粉体涂料型态的底漆涂布物品表面而形成底漆层；b、粉体介质漆涂布以粉体型态的涂料于底漆层干燥后，涂布于底漆层上形成介质层；c、连续式真空镀膜物品以置于输送带上的连续输送方式，一个接一个地送入用以入料的低真空腔体，逐渐载送高真空腔体内进行溅镀薄膜流程，接着加载用以破真空卸物品的低真空腔体内，完成薄膜溅镀于物品的介质层上的流程；d、上表面保护漆于薄膜表面涂上透明状保护层，干燥之后即完成。
2.如权利要求第1项所述的连续式真空装饰镀覆物品的方法，其特征在于，所述介质层为漆料型态。
3.如权利要求第1项所述的连续式真空装饰镀覆物品的方法，其特征在于，所述连续式真空镀膜流程中，真空腔体共有四个真空环境，依照物品加载方向，依序是低真空、高真空、高真空、低真空。
全文摘要
本发明是一种连续式真空装饰镀覆物品的方法，其流程方法是先以铸造方式成形物品，再进行加工，其次按序在物品上涂布底漆层、介质层，之后送入连续式真空镀膜设备，依序在低真空、高真空的腔体环境下，一个接一个地让物品完成薄膜溅镀于物品的流程，之后再涂上表面保护漆，即完成无污染、品质均匀的物品表面镀膜方法。
文档编号C23C14/56GK1566398SQ03143200
公开日2005年1月19日 申请日期2003年6月10日 优先权日2003年6月10日
发明者严之扬 申请人:毅强企业股份有限公司