单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构的制作方法

文档序号:19440阅读:295来源:国知局
专利名称:单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及单体真空镀膜领域,具体涉及单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构。该结构包括底板,设置于底板上的闭环运送机构和驱动该闭环运送机构的驱动机构,闭环运送机构上设有通过闭环运送机构运送的旋转组件,旋转组件的外侧上设有随旋转组件转动的三个以上的支杆,旋转组件上设有用于固定载片的固定组件,底板上闭环运送机构的一侧上还设有用于阻挡该支杆的阻挡组件。本实用新型通过使用闭环运送,能达到所有载片能固定的位置,通过将载片放置在转轴上,通过转轴上的支杆与挡块及档杆相互配合,可实现载片自动转动任意角度,解决现有技术中无法自动翻转的问题,从而达到正反面镀膜能在真空条件下一次性完成,成膜质量高。
【专利说明】单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构

【技术领域】
[0001]本实用新型涉及单体真空镀膜领域,具体涉及单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构。

【背景技术】
[0002]目前的溅射蒸发混镀单体真空镀膜设备在镀膜时,都是先溅射完后,然后破空把转架机构的载片手动板到反面再做蒸发处理,然而这样镀膜效率由于需要破空步骤以及后动翻转步骤致使生产效率很低,而且由于破空的影响使而不能再真空环境下一次成膜,对膜层质量有隐患。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的是提供单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构来解决现有技术中镀膜时,都是先溅射完后,然后破空把转架机构的载片手动板到反面再做蒸发处理,而使生产效率很低,而且由于破空的影响使而不能再真空环境下一次成膜,对膜层质量有隐患的问题。
[0004]本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,包括底板,设置于所述底板上的闭环运送机构和驱动该闭环运送机构的驱动机构,所述闭环运送机构上设有通过闭环运送机构运送的旋转组件,所述旋转组件的外侧上设有随旋转组件转动的三个以上的支杆,所述旋转组件上设有用于固定载片的固定组件,所述底板上闭环运送机构的一侧上还设有用于阻挡该支杆的阻挡组件。
[0005]在上述技术方案的基础上,本实用新型还可以做如下改进。
[0006]进一步,所述闭环机构包括旋转机构、传送带机构或导轨运送机构;
[0007]所述旋转机构包括转盘和驱动所述转盘转动的转盘驱动电机,所述转盘驱动电机与转盘通过齿轮或皮带传动,所述旋转组件位于转盘上的外侧上,所述阻挡组件包括设置于底板上位于转盘外侧的档杆;
[0008]进一步,所述旋转组件包括固定于闭环运送机构上的旋转轴,随旋转轴转动的三个以上的支杆位于旋转轴上;
[0009]进一步,所述支杆为四个,四个所述支杆中每两个支杆为同轴设置,同轴的四个所述支杆分为第一支杆对和第二支杆对;
[0010]进一步,所述第一支杆对和第二支杆对相互垂直,所述第一支杆对的高度高于第二支杆对;
[0011]进一步,所述档杆的高度不小于第二支杆的高度对且小于第一支杆对的高度;
[0012]进一步,所述阻挡组件还包括设置于底板上与第一支杆对相互配合的档杆,所述档杆的高度大于第一支杆对,所述档杆与挡块的距离不小于第一档杆对或第二档杆对的转动直径;
[0013]进一步,所述支杆和/或档杆位于底板上的一端连接有驱动支杆和/或档杆上下运动的气缸或驱动电机。
[0014]本实用新型的有益效果是:本实用新型通过使用闭环运送的方式,能达到所有载片能固定的位置,并且通过将载片放置在转轴上,通过转轴上的支杆与挡块及档杆相互配合,可实现载片自动转动任意角度,如当设置两对支杆的时候,仅采用一个档杆及一个挡块就可使载片转动180度,并且闭环运送线,没转动一圈即可转动180度,从而解决现有技术中无法自动翻转的问题,从而达到正反面镀膜能在真空条件下一次性完成,成膜质量高,且本实用新型中可采用转盘结构作为闭环运送线,通过转盘驱动电机驱动转动即可,仅需对现有的转架进行简单改造即可,结构简单,生产成本低;还可在支杆和/或档杆位于底板上的一端设置气缸或驱动电机,从而达到在无需翻转时,不阻挡档杆或档杆,或是阻挡档杆或档杆之中一个改变每一圈的转动角度。

【附图说明】

[0015]图1是本实用新型自动翻转结构的实施例结构图;
[0016]图2为本实用新型自动翻转结构中旋转组件结构实施例结构图;
[0017]图3为本实用新型自动翻转结构中阻挡组件实施例结构图。
[0018]附图中,各标号所代表的部件如下:
[0019]1、底板,2、转盘,21、转盘齿轮,3、旋转组件,3a、旋转组件a状态,31、旋转轴,32、第一支杆,33、第二支杆,34、第三支杆,35、第四支杆,36、气缸,37、固定组件,4、阻挡组件,41、档杆,42、挡块,5、驱动齿轮。

【具体实施方式】
[0020]以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。
[0021]图1是本实用新型自动翻转结构的实施例结构图;包括底板1,设置于所述底板上的闭环运送机构和驱动该闭环运送机构的驱动机构,所述闭环运送机构上设有通过闭环运送机构运送的旋转组件,所述旋转组件的外侧上设有随旋转组件转动的三个以上的支杆,所述旋转组件上设有用于固定载片的固定组件,所述底板上闭环运送机构的一侧上还设有用于阻挡该支杆的阻挡组件。
[0022]所述闭环机构包括旋转机构、传送带机构或导轨运送机构;所述旋转机构包括转盘2和驱动所述转盘转动的转盘驱动电机,所述转盘驱动电机与转盘通过齿轮或皮带传动,所述旋转组件位于转盘上的外侧上,所述阻挡组件包括设置于底板上位于转盘外侧的档杆;其中若为齿轮传动,则转盘上的齿轮为设置在转盘外沿的转盘齿轮21,通过转盘驱动电机驱动该转盘齿轮的齿轮为驱动齿轮5,
[0023]图2为本实用新型自动翻转结构中旋转组件结构实施例结构图;所述旋转组件包括固定于闭环运送机构上的旋转轴31,随旋转轴转动的三个以上的支杆位于旋转轴上;所述支杆为四个,四个所述支杆中每两个支杆为同轴设置,同轴的四个所述支杆分为第一支杆对和第二支杆对;所述第一支杆对和第二支杆对相互垂直,所述第一支杆对的高度高于第二支杆对;所述档杆的高度不小于第二支杆的高度对且小于第一支杆对的高度;其中第一支杆对包括第一支杆32和第三支杆34,第二支杆对包括第二支杆33和第四支杆35。
[0024]图3为本实用新型自动翻转结构中阻挡组件实施例结构图;所述阻挡组件还包括设置于底板上与第一支杆对相互配合的档杆41,所述档杆的高度大于第一支杆对,所述档杆与挡块42的距离不小于第一档杆对或第二档杆对的转动直径;所述支杆和/或档杆位于底板上的一端连接有驱动支杆和/或档杆上下运动的气缸或驱动电机。
[0025]本实用新型的实现方法,包括如下步骤:沿载片的固定位置设置运送载片的闭环运送线;
[0026]在闭环运送线设置若干能自传的转轴,在转轴上固定载片;
[0027]在该转轴上设置支杆,并在运送线的一侧设置配合该支杆使转轴转动固定角度的一个以上档杆,档杆之间的间距不小于支杆的转动直径。
[0028]本实用新型的一个实施例采用齿轮方式,通过转盘驱动电机驱动齿轮带动该转盘齿轮,进而带动转盘转动,在转盘上靠近边缘处根据载片数量设置同等数量的旋转组件,并且设置两对相互垂直的支杆对,两对支杆对上下设置,从而达到设置四个支杆,每次经过档杆或挡块转动90°,设置一个挡块和一个档杆,使得每次通过挡块和档杆后,旋转180°,且挡块和档杆之间的距离要大于最长的支杆的转动直径。
[0029]本实用新型的另一个实施例中采用运送导轨的方式,滑轨上设置固定旋转轴的支座,运送导轨通过滑轨弯头连成闭环路径,根据需要转动的角度在旋转轴上设置三个以上的支杆,如设计三个互成120°角的支杆,运送导轨的两端均和设置挡块或档杆,如要旋转轴仅沿一个方向转动,则将挡块或档杆设置在运送导轨的同侧,若需往复转动,则将档杆或挡块分别设置于运送导轨的两侧。
[0030]通过使用闭环运送的方式,能达到所有载片能固定的位置,并且通过将载片放置在转轴上,通过转轴上的支杆与挡块及档杆相互配合,可实现载片自动转动任意角度,如当设置两对支杆的时候,仅采用一个档杆及一个挡块就可使载片转动180度,并且闭环运送线,没转动一圈即可转动180度,从而解决现有技术中无法自动翻转的问题,从而达到正反面镀膜能在真空条件下一次性完成,成膜质量高,且本实用新型中可采用转盘结构作为闭环运送线,通过转盘驱动电机驱动转动即可,仅需对现有的转架进行简单改造即可,结构简单,生产成本低;还可在支杆和/或档杆位于底板上的一端设置气缸或驱动电机,从而达到在无需翻转时,不阻挡档杆或档杆,或是阻挡档杆或档杆之中一个改变每一圈的转动角度。
[0031]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:包括底板,设置于所述底板上的闭环运送机构和驱动该闭环运送机构的驱动机构,所述闭环运送机构上设有通过闭环运送机构运送的旋转组件,所述旋转组件的外侧上设有随旋转组件转动的三个以上的支杆,所述旋转组件上设有用于固定载片的固定组件,所述底板上闭环运送机构的一侧上还设有用于阻挡该支杆的阻挡组件。2.根据权利要求1所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述闭环机构为旋转机构、传送带机构或导轨运送机构。3.根据权利要求1所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述旋转机构包括转盘和驱动所述转盘转动的转盘驱动电机,所述转盘驱动电机与转盘通过齿轮或皮带传动,所述旋转组件位于转盘上的外侧上,所述阻挡组件包括设置于底板上位于转盘外侧的档杆。4.根据权利要求1至3中任一项所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述旋转组件包括固定于闭环运送机构上的旋转轴,随旋转轴转动的三个以上的支杆位于旋转轴上。5.根据权利要求4所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述支杆为四个,四个所述支杆中每两个支杆为同轴设置,同轴的四个所述支杆分为第一支杆对和第二支杆对。6.根据权利要求5所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述第一支杆对和第二支杆对相互垂直,所述第一支杆对的高度高于第二支杆对。7.根据权利要求6所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述档杆的高度不小于第二支杆的高度对且小于第一支杆对的高度。8.根据权利要求7所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述阻挡组件还包括设置于底板上与第一支杆对相互配合的档杆,所述档杆的高度大于第一支杆对,所述档杆与挡块的距离不小于第一档杆对或第二档杆对的转动直径。9.根据权利要求8所述的单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构,其特征在于:所述支杆和/或档杆位于底板上的一端连接有驱动支杆和/或档杆上下运动的气缸或驱动电机。
【文档编号】C23C14-50GK204265839SQ201420657471
【发明者】邵海平 [申请人]邵海平
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