专利名称：一种多功能连续镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于电子机械技术领域，尤其涉及一种多功能连续镀膜装置。
背景技术：
现有的电子薄膜制备技术一般采用磁控溅射、电子束蒸发及热蒸发镀膜，在以往高真空镀膜中，多采取单一镀膜装置或多室的多功能镀膜装置。由于在镀膜过程中需要真空的工艺环境，故均配有泵抽系统及相关的气路控制及检测系统；对磁控溅射靶、电子枪及热蒸发坩埚等配备相应的电源及手动控制开关；对镀膜产品配有加热系统；亦有一些较先进的设备实行对整台设备的计算机控制。
对于一些需要多种方式镀多层膜的产品现只能采用分别进入单一镀膜装置或逐一进入多室的多功能镀膜装置来完成，存有如下缺陷1、由于暴露在大气中的次数相对较多，不易保持良好的真空工艺环境，不利于连续镀膜的质量。2、由于工艺不能连续实现，造成有效温度上升慢，镀膜的效率低，不利于多层膜的快速生长。另对于现有的多室的多功能镀膜装置虽能实现多种方式的镀膜，但相对占有空间较大。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种多功能连续镀膜装置，它可在不破坏真空的条件下，在一个腔体内对同一个工件分别完成磁控溅射镀膜、电子束蒸发镀膜和热蒸发镀膜。
为实现上述目的，本实用新型采取以下设计方案一种多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、各气路接入真空镀膜室的气路控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成，所述的真空镀膜单元装置包括一真空镀膜室，其下方布控有电子枪、热蒸发电极，下侧方设立一对磁控溅射靶；还配有一基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。
真空镀膜单元装置中安装有加热器。
它还配有机架，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台。
所述的真空室内装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发电极挡板和靶挡板。在电子枪与热蒸发电极之间、热蒸发电极与热蒸发电极之间均设有固定挡板。
在真空镀膜室的旁侧设一用于旁路抽气的旁抽阀。
本实用新型的优点是1、与单一功能的真空镀膜装置相比增加了功能；2、与多腔体多功能装置相比，减少了真空室个数，因此降低了成本；3、有利于连续镀膜工艺，有助于多层膜的快速生长；4、采用红外加热方式，升温速率快，有效温度高，加热面积大，均匀性好。
图1为本实用新型结构示意图具体实施方式
如图1所示，本实用新型多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、气路及控制系统、电控系统组成，并配有一基带卷绕系统。
本实用新型的改进点在于所述的真空镀膜单元装置包括一独立真空镀膜室1，其可为筒形卧式双层水冷全不锈钢结构。真空镀膜单元装置下方布控有电子枪101、一组热蒸发电极102，下侧方设立一组(一对为佳)磁控溅射靶103。真空镀膜室1的前面开门上可放有二个封接观察窗，真空镀膜室侧面有两个引线法兰及截止阀，一个旁抽阀104。还可留有易拆卸的接口并配以相应的盲板，用于连接其它设施。
所述的电子枪或热蒸发电极、磁控溅射靶均设有电源控制开关，即可是手动的，亦可利用计算机技术实现自动控制。要求磁控溅射直流电源具有稳流、稳压及限流功能。
所述的基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室2、收带室3构成，放带室里有一个卷带盘201，基带事先缠绕在卷带盘上，卷带盘转动受控于外面的电机，采用计算机控制基带的行走、张力，从而使得运行速度和时间精确可控(计算机控制系统由现有技术可实现)。供带室通过泵抽系统及真空镀膜室相连的管路进行抽气。在行进的基带上面有一套加热器6，加热器由卤素灯组成，加热器可以对基带加热到高达900℃。
本实用新型还配有机架4，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统(包括机械泵5、分子泵7)安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台401。
所述的真空镀膜室内装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发电极挡板和靶挡板。在电子枪与热蒸发电极之间、热蒸发电极与热蒸发电极之间均设有固定挡板。
所述的泵抽系统采用二台分子泵、机械泵对真空镀膜室实现主抽，通过真空镀膜室旁侧设的旁抽阀实现旁路抽气。
本实用新型可用于在长带上镀多层膜。其工作过程是将欲镀膜的基带缠放在放带室的卷带盘上，抽真空。启动电机开始走带，并打开控制电子枪或热蒸发电极或磁控溅射靶的电源控制开关(按照预先设定的次序排定顺序)，以便进行相关的电子束蒸发或热蒸发或磁控靶溅射镀膜。
在不做热蒸发和电子束蒸发时，可以做磁控溅射镀膜。在做电子束蒸发或热蒸发时，磁控溅射靶要撤到真空镀膜壁附近，以免影响镀膜。磁控靶溅射、电子束蒸发或热蒸发时在行走状态，膜厚均匀性能够达到5％。
权利要求1.一种多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、各气路接入真空镀膜室的气路控制系统和控制各单元装置电源开关的电控系统组成，其特征在于所述的真空镀膜单元装置包括一真空镀膜室，其下方布控有电子枪、热蒸发电极，下侧方设立一对磁控溅射靶；还配有一基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。
2.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于真空镀膜单元装置中安装有加热器。
3.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于还配有机架，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台。
4.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于所述的真空镀膜室内还装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发电极挡板和靶挡板。
5.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于所述的电子枪与热蒸发电极之间、热蒸发电极与热蒸发电极之间均设有固定挡板。
6.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于所述的真空镀膜室的旁侧设一用于旁路抽气的旁抽阀。
7.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于所述的真空镀膜室为筒形卧式双层水冷全不锈钢结构的独立单室。
8.根据权利要求1所述的多功能连续镀膜装置，其特征在于在真空镀膜单元装置中还带有用于与其它设备连接的接口。
专利摘要本实用新型公开了一种多功能连续镀膜装置，由真空镀膜单元装置、泵抽系统、气路及控制系统组成，所述的真空镀膜单元装置包括一真空镀膜室，其下方布控有电子枪、热蒸发电极，下侧方设立一对磁控溅射靶；还配有一基带卷绕系统，该基带卷绕系统由分置在真空镀膜室两侧的放带室、收带室构成。它还配有机架，真空镀膜单元装置固定在其上，泵抽系统安置在其内；机架的两侧有用于活性固定放带室、收带室的小支架台。所述的真空室内装有样品挡板、电子枪挡板、热蒸发舟挡板和靶挡板。在电子枪与热蒸发舟之间、热蒸发舟与热蒸发舟之间均设有固定挡板。本装置可用于在长带上开发多种材料多层膜。
文档编号C23C14/56GK2844137SQ200520106339
公开日2006年12月6日 申请日期2005年8月25日 优先权日2005年8月25日
发明者杨坚, 古宏伟, 冯彬, 金振奎, 刘慧舟, 屈飞, 马平 申请人:北京有色金属研究总院