化学气相沉积装置制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括：支撑构件，被构造成支撑基板的下表面；遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分。排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。
【专利说明】化学气相沉积装置
【技术领域】
[0001] 本发明的一方面涉及一种化学气相沉积装置。
【背景技术】
[0002] 通常，化学气相沉积装置可以用于对各种基板进行沉积。例如，化学气相沉积装置 可以用于对制造太阳能电池时必需的基板进行沉积，或者对制造显示面板时必需的基板进 行沉积。这样的化学气相沉积装置可以通过在上侧上喷射沉积气体来对基板进行沉积。这 里，可以从基板的下侧喷射吹扫气体，以防止沉积气体在基板的下表面上的沉积或沉积气 体在基板的侧表面上的不均匀沉积。
[0003] 供应的吹扫气体可能从基板的下表面移动到基板的上表面。此外，因固定或支撑 基板的结构的移动，所以在基板的边缘区域处，基板可能不会被合适地沉积。因此，吹扫气 体经常不能被顺利地排放或者在基板边缘区域处不能均匀地沉积。
【发明内容】
[0004] 提供本
【发明内容】
，以介绍进一步在【具体实施方式】中描述的构思的选择。本发明内 容不意图标明要求保护的主题的关键或必要特征，也不意图用来帮助限制要求保护的主题 的范围。
[0005] 本发明的实施例的方面涉及一种能够改善基板的边缘部分和/或下表面处的膜 均匀性的化学气相沉积装置。
[0006] 根据本发明的实施例的方面，可以通过防止吹扫气体移动到基板的上表面或者防 止吹扫气体被储存在基板的边缘区域中来改善沉积均匀性。此外，根据本发明的实施例的 方面,可以通过将吹扫气体排放到护套的侧部来促进吹扫气体的顺利排放。
[0007] 在一个实施例中，化学气相沉积装置包括：支撑构件，被构造成支撑基板的下表 面；遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及护套，具有吹扫气体供应开 口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的 位置离开吹扫气体供应开口。护套可以邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下 表面的一部分，排放单元可以位于护套中或者位于护套和遮蔽框架之间。
[0008] 在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元被构造成沿着与基板的下表面平 行的方向排放吹扫气体的至少一部分。
[0009] 在一个实施例中，化学气相沉积装置还包括容纳支撑构件、遮蔽框架和护套的室。 在一些实施例中，化学气相沉积装置包括位于室的侧部或底部处的抽吸单元。在一些实施 例中，抽吸单元位于室的底部处。
[0010] 在另一实施例中，化学气相沉积装置的吹扫气体供应开口穿过护套延伸。
[0011] 在一个实施例中，化学气相沉积装置的护套包括：吹扫气体供应单元，与吹扫气体 供应开口结合；以及护套体，结合到吹扫气体供应单元。吹扫气体供应单元可以具有第一厚 度，护套体可具有与第一厚度不同的第二厚度。在一些实施例中，第一厚度小于第二厚度。 在另一实施例中，在遮蔽框架和吹扫气体供应单元之间存在空间，使得空间结合到排放单 J Li 〇
[0012] 在另一实施例中，化学气相沉积装置的吹扫气体供应开口被构造成向基板的下表 面供应吹扫气体，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的吹扫气体的至少一部分 排放到护套的外侧。在另一实施例中，排放单元被构造成通过将吹扫气体的过量部分排放 到护套的外侧来防止吹扫气体朝着基板的上表面供应。在另一实施例中，化学气相沉积装 置还包括被构造成朝着基板的上表面喷射沉积气体的喷头。在另一实施例中，排放单元被 构造成将从吹扫气体供应开口供应的一部分吹扫气体和从喷头供应的一部分沉积气体排 放到护套的外侧。
[0013] 在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元位于遮蔽框架和护套之间。在另 一实施例中，遮蔽框架包括固定单元和接触单元。固定单元可以邻近于并接触基板的上表 面的边缘部分，接触单元可以邻近于排放单元。遮蔽框架可以被构造成将基板固定在遮蔽 框架和支撑构件之间。
[0014] 在另一实施例中，化学气相沉积装置的排放单元包括多个排放单元，护套还包括 在第一方向上位于所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的支撑单元。护套的一 部分可以以每个支撑单元与遮蔽框架的一部分接触。在一些实施例中，排放单元的深度为 护套的厚度的大约20%至大约75%。在另一实施例中，排放单元的直径为护套的厚度的大约 20%至大约75%。
[0015] 在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元的沿着与基板的侧表面平行的第 一方向的第一宽度与支撑单元的沿着第一方向的第二宽度不同。在一些实施例中，第一宽 度与第二宽度之比在〇. 25和4之间。在另一实施例中，排放单元的沿着与基板的侧表面平 行的第一方向的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的最短距离不同。 在一些实施例中，排放单元的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的最 短距离之比在0. 25和4之间。
[0016] 在另一实施例中，化学气相沉积装置包括容纳支撑构件、遮蔽框架和护套的室，其 中，支撑构件被构造成支撑基板的下表面，遮蔽框架被构造成覆盖基板的上表面的边缘部 分，以及护套具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫 气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套可以邻近于遮蔽框架的 一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分。排放单元可以位于护套中或者在护套和遮 蔽框架之间。抽吸单元可以与室结合并被构造成从室抽吸气体。
[0017] 在一个实施例中，化学气相沉积装置的抽吸单元包括：抽吸管，与室结合；以及真 空泵，与抽吸管结合。在一些实施例中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分经过排放单元排 放到室的外部。
[0018] 在另一实施例中，通过抽吸单元，化学气相沉积装置的吹扫气体的一部分和沉积 气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。
【专利附图】
【附图说明】
[0019] 图1是根据本发明的一个实施例的化学气相沉积装置的正视图。
[0020] 图2是图1的化学气相沉积装置的部分A的放大正视图。
[0021] 图3是示出了图2的化学气相沉积装置的所述部分的遮蔽框架和护套的侧表面的 侧视图。
[0022] 图4是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。
[0023] 图5是图4的化学气相沉积装置的部分B的放大正视图。
[0024] 图6是示出了图5的化学气相沉积装置的所述部分的遮蔽框架和护套的侧表面的 侧视图。
[0025] 图7是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。
[0026] 图8是图7的化学气相沉积装置的部分C的放大正视图。
【具体实施方式】
[0027] 现在将参照附图更充分地描述本发明，在附图中示出了本发明的实施例。然而，本 发明可以以许多不同的形式来呈现，并且不应被解释为限制于这里阐述的实施例；而是，提 供这些实施例使得本公开将是彻底的和完全的，并且将向本领域技术人员充分地传达本发 明的构思。附图中同样的附图标记表示同样的元件，因此将省略它们的描述。除非诸如"包 括"、"具有"或"包含"的术语与术语"仅"一起使用，否则这些术语可以意图指示多个组件。 诸如"第一"和"第二"的术语可以用于描述不同的组件，但是本发明不受这些术语限制。这 些术语仅用来将一个组件与另一组件区分开。
[0028] 图1是根据本发明的实施例的化学气相沉积装置100的正视图。图2是图1的化 学气相沉积装置的部分A的放大正视图。图3是示出了图2的化学气相沉积装置100的所 述部分的遮蔽框架140和护套（jacket) 130的侧表面的侧视图。
[0029] 参照图1至图3,在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括在其中形成空间的 室110。另外，在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括用于放置基板S的支撑构件 120。在一些实施例中，安装了加热器以向放置的基板S施加热。
[0030] 此外，在一些实施例中，化学气相沉积装置100覆盖支撑构件120的外部，并包括 护套130,护套130具有用于向基板S供应吹扫气体的吹扫气体供应开口 131。在一些实施 例中，在护套130的外侧的一部分距支撑构件120的外侧的一部分特定距离的位置处，形成 吹扫气体供应开口 131。此外，吹扫气体供应开口 131可以被形成为从护套的底表面贯穿护 套130。在下面更详细地描述的实施例中，为了便于解释，吹扫气体供应开口 131被形成为 穿过护套130。
[0031] 上面的吹扫气体供应开口 131可以连接到吹扫气体供应线。在一个实施例中，吹 扫气体供应线沿着支撑构件120的内部弯曲，并通过支撑构件120的一部分连接到外部。
[0032] 此外，护套130可以包括：吹扫气体供应单元134,吹扫气体供应开口 131形成在 吹扫气体供应单元134中；护套体单元或护套体135,连接到吹扫气体供应单元134,其中， 护套体单元或护套体135的至少一部分支撑遮蔽框架140。
[0033] 可以以多阶梯的方式形成上述护套130。具体地说，可以将吹扫气体供应单元134 的厚度设置为与护套体单元或护套体135的厚度不同。具体地讲，可以将吹扫气体供应单 元134的厚度形成为比护套体单元或护套体135的厚度小。
[0034] 此外，护套130可以包括将从吹扫气体供应开口 131供应到基板S的吹扫气体的 一部分排放到外侧的排放单元132。在这些实施例中，排放单元132相对于护套130形成在 不同的位置，以沿着从支撑构件120向护套130的外侧的方向排放吹扫气体的一部分，如上 所述。
[0035] 此外，排放单元132可以形成在不同的位置处。例如，排放单元132可以形成在护 套130的外侧处。具体地，排放单元132可以形成在护套体单元或护套体135的其处遮蔽 框架140接触护套130的外侧处。在一些实施例中，排放单元132被形成为贯穿护套130 的孔。在下文中描述的实施例中，将集中对在护套130的外侧的一部分距支撑构件120的 外侧的一部分特定距离的位置处形成吹扫气体供应开口 131的实施例进行描述。
[0036] 通过排放单元132排放的气体可以沿着从护套体单元或护套体135的接触遮蔽框 架140的外侧向下的方向进入。另外，排放单元132可以沿着护套130在纵向方向上延伸。
[0037] 在一个实施例中，排放单元132被形成为连接到由吹扫气体供应单元134的上侧、 基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V。
[0038] 在另一实施例中，提供了多个排放单元132。在这些实施例中，以规则的间隔形成 多个排放单元132。具体地讲，如上所述，如果存在多个排放单元132,则护套130可以邻近 于排放单元132而包括支撑遮蔽框架140的一部分的支撑单元133。
[0039] 多个排放单元132可以与多个吹扫气体供应开口 131以各种形式布置。例如，每 个排放单元132和每个吹扫气体供应开口 131可以布置在一条直线上。在这个实施例中， 每个排放单元132仅形成在护套体单元或护套体135上，使得每个排放单元132没有连接 到吹扫气体供应开口 131。另外，每个排放单元132可以形成在吹扫气体供应单元134和护 套体单元或护套体135的外侧上，从而被连接到每个吹扫气体供应开口 131。另外，每个排 放单元132和每个吹扫气体供应开口 131可以交替地形成。在一些实施例中，每个排放单 元132仅形成在护套体单元或护套体135上。为了便于解释，下面的描述将集中于每个排 放单元132和每个吹扫气体供应开口 131交替地形成的实施例。
[0040] 排放单元132和支撑单元133可以形成为具有不同的高度。例如，排放单元132 的高度可以比支撑单元133的高度小。具体地讲，排放单元132可以从护套体单元或护套 体135的外表面嵌入，支撑单元133可以从护套体单元或护套体135的外表面突出，或者支 撑单元133可以以与形成护套体单元或护套体135的外表面的方式相同的方式形成。艮P， 排放单元132和支撑单元133可以交替地形成，或者可以以特定的比例形成，以形成不均匀 的结构。
[0041] 在一个实施例中，排放单元132与支撑单元133之比为4:1或1:4。例如，如果排 放单元132的宽度为4,则支撑单元133的宽度为1 ;如果排放单元132的宽度为1，则支撑 单元133的宽度为4。
[0042] 具体地讲，在排放单元132的宽度超过支撑单元133的宽度四倍的实施例中，支撑 单元133可能变形，使得支撑单元133不能支撑遮蔽框架140,或者遮蔽框架140的位置偏 离。
[0043] 相反，在排放单元132的宽度比支撑单元133的宽度的1/4小的实施例中，排放单 元132的尺寸可能太小而不能顺利地排放沉积气体或吹扫气体。
[0044] 在排放单元132与支撑单元133之比为4:1或1:4的另一实施例中，所述比例包括 排放单元132沿平行于基板S的侧表面的第一方向的直径与存在多个排放单元132的情况 下两个相邻的排放单元132之间的最短距离之间的比例。例如，如果每个排放单元132的 直径为4,则多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的最短距离可以为I ;如 果每个排放单元132的直径为1，则多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的 最短距离可以为4。具体地讲，在每个排放单元132的直径超过多个排放单元132中的两个 相邻的排放单元132之间的最短距离的四倍的实施例中，布置在多个排放单元132的相邻 的排放单元132之间的支撑单元133可能变形，使得支撑单元133不能支撑遮蔽框架140， 或者遮蔽框架140的位置偏离。相反，在每个排放单元132的直径比多个排放单元132中 的两个相邻的排放单元132之间的最短距离的1/4小的实施例中，排放单元132的尺寸可 能太小而不能顺利地排放沉积气体或吹扫气体。
[0045] 在一些实施例中，排放单元132的深度或直径在护套130的厚度的大约20%和大 约75%之间。在这些实施例中，如果排放单元132的深度或直径小于护套130的厚度的20%， 则可能不能顺利地排放吹扫气体和沉积气体，并且不能确保基板S的沉积均匀性。此外，如 果排放单元132的深度或直径超过护套130的厚度的75%，则护套130可能不能有效地支撑 遮蔽框架140,使得遮蔽框架140的位置会偏离或者基板S会损坏。
[0046] 在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括接触护套130的遮蔽框架140,遮蔽 框架140的至少一部分布置在基板S的上表面上。在这个实施例中，遮蔽框架140包括布 置在基板S的上表面上的固定单元141。此外，遮蔽框架140可以包括从固定单元141弯曲 的接触单元142。在这个实施例中，接触单元142在基板S的边界开始以规则的间隔布置， 并接触护套130的一个表面。具体地，排放单元132可以连接到由吹扫气体供应单元134 的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V，并且可以将吹扫气体排放到 外侧。
[0047] 化学气相沉积装置100可以包括将沉积气体喷射到基板S上或朝着基板S喷射沉 积气体的喷头160,喷头160可以安装在室110内部。在这个实施例中，喷头160供应来自 外部的沉积气体并将沉积气体喷射到基板S上或朝着基板S喷射沉积气体。
[0048] 另外，化学气相沉积装置100可以允许基板插入到室110的内部中，其中，基板S 可以稳固地布置在支撑构件120上。在这个实施例中，遮蔽框架140以规则的间隔与基板 S分隔开。
[0049] 在如上所述地布置基板S的实施例中，支撑构件120上升，使得基板S可以与遮蔽 框架140接触。具体地，可以通过将固定单元141布置在基板S的上表面上以接触基板S 来固定基板S。
[0050] 在这些实施例中，通过喷头160将沉积气体供应到基板S，通过吹扫气体供应开口 131从基板S的下表面供应吹扫气体。具体地讲，吹扫气体可以通过吹扫气体供应线从外部 供应到吹扫气体供应开口 131。在一个实施例中，二乙基锌（DEZ)和水蒸气（H20)用作沉积 气体，氩气（Ar)用作吹扫气体。然而，本发明的实施例的沉积气体和吹扫气体仅是示例，可 以包括化学气相沉积方法中使用的任何合适的沉积气体和/或吹扫气体。
[0051] 在分别供应沉积气体和吹扫气体的一些实施例中，吹扫气体防止沉积气体流到基 板S的下表面。具体地，沉积气体可以从基板S的中心部分流动到边界部分，并且可以进入 基板S和固定单元141之间的空间中。具体地讲，沉积气体会流入由吹扫气体供应单元134 的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中。另外，在一些实施例中， 吹扫气体通过吹扫气体供应开口 131流动到基板S的下表面和护套130的上表面之间的空 间。在一些实施例中，吹扫气体流入由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮 蔽框架140的下侧形成的空间V中。
[0052] 在一些实施例中，沉积气体和吹扫气体根据两种气体之间的相互压强而平衡，沉 积气体在由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的 空间V中维持这种相互压强状态。在这个实施例中，当沉积气体的浓度因储存在由吹扫气 体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中的沉积气 体而在基板S的边界增加时，会执行不均匀的沉积。
[0053] 另外，如果沉积气体的压强小于吹扫气体的压强，则吹扫气体会从由吹扫气体供 应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V通过遮蔽框架140 和基板S之间的空间被排放到室110的内部。在这个实施例中，如上所说明的，在基板S的 边界部分的沉积被阻碍的位置，基板S的边界区域的沉积会变得不均匀。具体地讲，遮蔽框 架140会因吹扫气体的压强而移动。
[0054] 然而，在根据本发明的实施例的化学气相沉积装置100的情况下，通过将吹扫气 体通过排放单元132排放到外侧，防止基板S的边界部分的不均匀沉积。
[0055] 具体地，在一些实施例中，通过排放单元132将通过吹扫气体供应开口 131供应的 吹扫气体的一部分排放到室110的侧部。例如，如上所述，排放单元132可以通过将由吹扫 气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V与基板S 的边界连接，将吹扫气体排放到护套130的外侧。
[0056] 同样，在一个实施例中，通过排放单元132排出或排放的气体连接到由吹扫气体 供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V和吹扫气体供 应开口 131中的至少一个，并可以将吹扫气体引导到护套130的外侧。另外，排放单元132 可以将沉积气体的一部分排放到护套130的外侧。
[0057] 此外，在一些实施例中，当排放时，吹扫气体不流入到基板S和固定单元141之间 的空间V中；并且，因此，沉积气体不需要流动到基板S的下表面。另外，可以恒定地维持在 基板S的边界区域处的沉积气体均匀性。
[0058] 具体地讲，在下面的对比示例中示出了实施例的没有设置排放单元132的对比示 例，在下面的实验示例中示出了设置了排放单元132的实施例。在这些示例中，T表示沉积 膜的厚度，单位是微米（μπ〇。Rs表示沉积膜的电阻，单位是Ω/sq。另外，水平数字和坚直 数字分别表示基板S的X坐标和y坐标。此外，百分比值表示数据中的最大值和最小值之 间的关系（％)，并且可以使用下面的式子来获得：(最大值-最小值)/ (最大值+最小值)乘 以 100。
[0059] 对比示例
[0060]
【权利要求】
1. 一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括： 支撑构件，被构造成支撑基板的下表面； 遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及 护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气 体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口，护套邻近于遮蔽框架的一部分 并被构造成覆盖基板的下表面的一部分， 其中，排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。
2. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成沿着与基板的下 表面平行的方向排放吹扫气体的至少一部分。
3. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置还包括容纳支撑构 件、遮蔽框架和护套的室。
4. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应开口穿过护套延伸。
5. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，护套包括： 吹扫气体供应单元，与吹扫气体供应开口结合；以及 护套体，结合到吹扫气体供应单元。
6. 如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应单元具有第一厚度，护 套体具有与第一厚度不同的第二厚度。
7. 如权利要求6所述的化学气相沉积装置，其中，第一厚度小于第二厚度。
8. 如权利要求6所述的化学气相沉积装置，其中，在遮蔽框架和吹扫气体供应单元之 间存在空间，所述空间结合到排放单元。
9. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应开口被构造成向基板 的下表面供应吹扫气体，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的吹扫气体的至少 一部分排放到护套的外侧。
10. 如权利要求9所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成通过将吹扫气体 的过量部分排放到护套的外侧来防止吹扫气体朝着基板的上表面供应。
11. 如权利要求9所述的化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置还包括被构造成 朝着基板的上表面喷射沉积气体的喷头。
12. 如权利要求11所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成将从吹扫气体 供应开口供应的一部分吹扫气体和从喷头供应的一部分沉积气体排放到护套的外侧。
13. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元位于遮蔽框架和护套之 间。
14. 如权利要求13所述的化学气相沉积装置，其中，遮蔽框架包括固定单元和接触单 元，其中，固定单元邻近于并接触基板的上表面的边缘部分，接触单元邻近于排放单元，其 中，遮蔽框架被构造成将基板固定在遮蔽框架和支撑构件之间。
15. 如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元包括多个排放单元，护套 还包括位于所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的支撑单元，其中，护套的一 部分以每个支撑单元与遮蔽框架的一部分接触。
16. 如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的深度为护套的厚度的 20% 至 75%。
17. 如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的直径为护套的厚度的 20% 至 75%。
18. 如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的沿着与基板的侧表面 平行的第一方向的第一宽度与支撑单元的沿着第一方向的第二宽度不同。
19. 如权利要求18所述的化学气相沉积装置，其中，第一宽度与第二宽度之比在0. 25 和4之间。
20. 如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的沿着与基板的侧表面 平行的第一方向的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间沿着第一方向 的最短距离不同，其中，排放单元的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之 间的最短距离之比在0. 25和4之间。
21. -种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括： 室，所述室容纳： 支撑构件，被构造成支撑基板的下表面； 遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及 护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气 体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口，护套邻近于遮蔽框架的一部分 并被构造成覆盖基板的下表面的一部分， 其中，排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间；以及 抽吸单元，与室结合并被构造成从室抽吸气体。
22. 如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，抽吸单元包括： 抽吸管，与室结合；以及 真空泵，与抽吸管结合。
23. 如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分 经过排放单元排放到室的外部。
24. 如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分 和沉积气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。
【文档编号】C23C16/455GK104372306SQ201410117013
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2014年3月26日 优先权日:2013年8月15日
【发明者】金友镇 申请人:三星Sdi株式会社