1.一种吸波多层薄膜，从下至上依次为衬底、中间层和顶层，其特征在于：
所述中间层是由n个单元从下至上依次堆叠而成，n≥1，单元是下层共振吸收频率为f1的磁性层和上层是隔离层的双层单元结构，最终依次堆叠为f1-fn共计2n层的中间层，隔离层材料为SiO2，Cu或Al2O3非磁性材料，厚度为5nm～15nm；
顶层是由均匀排布的相同条形磁性薄膜组合而成，条形薄膜的数量≥2，宽度为1μm～30μm，厚度为15nm～200nm，相邻条形磁性薄膜之间的间隔为1μm～10μm，材料为FeCo基合金材料；
整个吸波多层薄膜基于衬底、中间层和顶层的结构形成由隔离层间隔的共振吸收频率磁性层的多层薄膜材料。
2.如权利要求1所述吸波多层薄膜，其特征在于：所述f1-fn的磁性层的共振吸收频率相同和/或不同，当共振吸收频率相同时可提升吸波多层薄膜的吸收率，不同时可拓宽吸波多层薄膜的频带。
3.如权利要求1所述吸波多层薄膜的制备方法，具体包括以下步骤：
步骤1、将衬底清洗干净，并吹干后采用真空溅射法生成共振吸收频率为f1的第1磁性层，然后采用真空溅射法在第1磁性层上生成第1隔离层；再采用真空溅射法在第1隔离层上生成共振吸收频率为f2的第2磁性层，然后采用真空溅射法在第2磁性层上生成第2隔离层，如此重复前述步骤直至完成共振吸收频率为fn的第n磁性层和隔离层，最后形成具有由隔离层间隔的不同共振吸收频率的多层薄膜衬底，最上层为第n隔离层；
步骤2、在步骤1中制得第n隔离层薄膜上光刻，形成组合胶膜；该胶膜由均匀的条形胶膜组合而成的，各条形胶膜宽度为1μm～10μm，厚度为0.5μm～1.5μm，各条形胶膜间的间距宽度为1μm～30μm，胶膜的数量≥2；
步骤3、采用真空溅射法在步骤2制得的具有胶膜薄膜衬底上溅射一层厚度为15nm～200nm的FeCo基磁性材料薄膜，溅射时沿条形胶膜长轴方向外加200Oe-2000Oe的静态磁场；然后将其置于丙酮溶液中进行超声清洗将胶膜剥离，形成均匀排布的条形磁性薄膜顶层，条形薄膜的数量≥2，宽度为1μm～30μm，相邻条形薄膜之间的间隔为1μm～10μm，厚度为15nm～200nm；至此最终制得吸波多层薄膜。